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图8的流程图说明根据本公开的一些实施例的基于图6的迭代流程的图5的一预测阶段。图9是根据本公开的一些实施例的图3的机器学习电路的电路图。图10是根据本公开的一些实施例的图9的测量电路的电路图。图11是根据本公开的一些实施例的图9的分类器电路的电路图。图12的示意图说明根据本公开的一些实施例的图9的分类器电路在图5的训练阶段的示例性操作。图13是根据本公开的一些实施例的信号的回转率的调整方法的流程图。符号说明10集成电路元件12使用者应用端30电路32神经网络34输入36经加权值38结果值40集成电路元件42机器学习电路44使用者界面46互连电路60测量电路70数据库80分类器电路90调整方法92操作94操作96操作98操作102驱动器电路104回转率控制电路120示波器122电压波形124使用者界面200操作202操作204操作206操作208操作310程序312训练阶段314推理/分类阶段316预测阶段500操作502操作504操作600取样保持电路602取样保持电路604减法器800比较器802减法器电路804分压器806加法器电路810反相器812暂存器814乘法器816暂存器din信号dout信号vout实际电压clk时钟信号vl电压v1电压n0节点具体实施方式以下详细讨论本公开的实施方案。然而，应该理解的是。内蒙古进口晶振回收处理上海海谷电子有限公司致力于提供回收，有想法可以来我司咨询。
在介电层220以及心轴图案231、232和233的上方设置间隔层260。间隔层260包括与介电层220和心轴图案231、232和233不同的一种或更多种材料，使得间隔层260针对蚀刻工艺具有不同的蚀刻选择性。可以通过cvd工艺、pvd工艺、原子层沉积(ald)工艺或其他合适的沉积技术形成间隔层260。参照图4e，针对间隔层260执行蚀刻工艺，因此定义侧壁间隔件261至266。侧壁间隔件261(类似地，262至266)在此可以称为第二心轴图案。如图4e中所示，心轴图案231在蚀刻之前存在。图4f中示出蚀刻掉心轴图案231后的结果(例如，侧壁间隔件261和262保留)。在一些实施例中，在261与262之间获得的节距(在一些实施例中也称为距离、间隔、分辨率、特征分辨率或特征分隔距离)比使用提供图4b的抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3的光刻可获得的节距小或精确。参照图4f，执行具有合适的蚀刻选择性的蚀刻工艺以去除心轴图案231、232和233，并且保留侧壁间隔件261至266。261形成为侧壁，并且在一些实施例中，将在后面的工艺步骤中被蚀刻掉，因此它是间隔件。总而言之，261可以被称为侧壁间隔件。侧壁间隔件261至266在方向x上具有节距p3和p4以及宽度w3。与一个心轴图案对应的两个侧壁间隔件(例如。
所述多条金属线之中的在方向上顺序地相邻的每三条金属线之间的两个金属节距彼此不同。在所述方法的一些实施例中，所述多条金属线通过自对准双倍图案化(sadp)或自对准四倍图案化(saqp)形成。还在所述方法的一些实施例中，单元线路结构是未被划分为至少两个相等的子线路结构的小单元结构。此外，提供一种设计集成电路的方法，所述方法包括：接收定义集成电路的输入数据；设置包括多个标准单元的标准单元库；基于输入数据和标准单元库执行布局和布线；以及基于布局和布线的结果生成定义集成电路的输出数据，其中，所述集成电路包括：半导体基底，多条栅极线，形成在半导体基底上方的栅极层中，所述多条栅极线布置在方向上并且在垂直于方向的第二方向上延伸，以及多条金属线，形成在栅极层上方的导电层中，所述多条金属线布置在方向上并且在第二方向上延伸。在所述方法的一些实施例中，所述多条金属线中的6n条金属线和所述多条栅极线中的4n条栅极线形成单元线路结构，n是正整数，并且多个单元线路结构布置在方向上。根据示例实施例，一种集成电路包括：半导体基底、多条栅极线和多条金属线。所述多条栅极线形成在半导体基底上方的栅极层中，其中。上海海谷电子有限公司致力于提供回收，竭诚为您服务。
接收关于一参考分类的信息，该参考分类是通过人工比较该预设电压和该实际电压获得的；基于该不成熟分类和该参考分类，将该预设电压更新为一经学习电压；以及基于该经学习电压，产生经配置以调整回转率的预测。本公开还提供一种集成电路元件。该集成电路元件包括一比较器以及一减法器电路。该比较器包括一输入端耦合到一实际电压。该减法器电路包括一输入端耦合到该比较器的一输出端，以及另一输入端耦合到一参考电压，其中因应于该参考电压和该减法器电路的一输出端的一电压之间的一差值的存在，该比较器的该另一输入端从耦合一预设电压改为耦合到一经学习电压。本公开还提供一种电路。该电路包括一驱动器以及一机器学习电路。该驱动器经配置以驱动一信号。该机器学习电路包括一比较器。该比较器包括一输入端，其中该输入端因应于一不成熟分类和一参考分类之间的一差异而耦合到一经学习电压，其中该机器学习电路经配置以基于该经学习电压来调整该信号的一回转率。虽然已详述本公开及其优点，然而应理解可进行各种变化、取代与替代而不脱离权利要求所定义的本公开的精神与范围。例如，可用不同的方法实施上述的许多工艺，并且以其他工艺或其组合替代上述的许多工艺。再者。回收，就选上海海谷电子有限公司，用户的信赖之选，有需求可以来电咨询！中国台湾集成电路回收
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存储器阵列内的存储单元可以在相同的互连层上彼此横向邻近布置。应当理解，图4a至图4b所示的集成芯片400和414可以实现图2的存储器阵列102的集成芯片的两个非限制性实施例，并且可以在可选实施例中使用其它实施方式。在一些实施例中，调节访问装置内的调节mtj器件可以具有相同的尺寸。在其它实施例中，调节访问装置内的调节mtj器件可以具有彼此不同的尺寸和/或与工作mtj器件不同的尺寸。例如，图5a示出了具有调节访问装置的存储器电路500的一些额外实施例的示意图，该调节访问装置包括具有不同尺寸的调节器件。存储器电路500包括多个存储单元502a,1至502c,3，每个存储单元分别包括被配置为存储数据的工作mtj器件106和被配置为选择性地对工作mtj器件106提供访问的调节访问装置108。调节访问装置108包括连接至mtj器件106的同一层的调节mtj器件504和第二调节mtj器件506。调节mtj器件504连接在字线(例如，wl1)和工作mtj器件106之间，而第二调节mtj器件506连接在第二字线(例如，wl2)和工作mtj器件106之间。工作mtj器件106进一步连接至位线(例如，bl1)。图5b示出了对应于图5a的存储器电路500的集成电路的一些实施例的截面图508。如截面图508所示，调节mtj器件504具有尺寸(例如。海南废弃电子料回收厂家
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