基于训练数据获取经加权值36。接下来，进入推理/分类阶段314。在推理/分类阶段314中，mlc42基于经加权值36对验证数据进行分类。在验证数据的分类之后，使用者将这种分类与参考分类进行比较，从而获得一校正率。如果这样的校正率满足在操作504中在规范中获得的所需校正率，则推理/分类阶段314结束，并且进入预测阶段316。如果校正率不满足所需的校正率，则重复上述过程。图8的流程图说明根据本公开的一些实施例的基于图6的迭代流程的图5的预测阶段316。参照图8，不执行操作502的评估。mlc42控制src电路104而不需要人力。因此，使用mlc42来调整回转率是相对方便的。图9是根据本公开的一些实施例的图3的机器学习电路42的电路图。参考图9，mlc42包括一测量电路60、一数据库70和一分类器电路80。测量电路60经配置以通过实际测量信号dout来获取信号dout的一实际电压vout，并提供实际电压vout。实际电压vout的微分决定信号dout的实际回转率。测量电路60将多个实际电压vout值提供给数据库70以存储在数据库70。数据库70将实际电压vout提供给使用者界面44。使用者界面44例如在使用者界面44的显示器上显示实际电压vout。分类器电路80从数据库70获得电压vout。此外。上海海谷电子有限公司致力于提供回收，有想法的不要错过哦！天津废弃电子料回收中心

离散的互连结构限定连接至图2的存储器阵列102的列内的相应存储单元的两条字线wl1至wl2以及连接至图2的存储器阵列102的行内的相应存储单元的位线bl1。在一些实施例中，存储单元202a,1的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206可以通过第二多个通孔412b连接至第三互连层406c。在一些实施例中，一个或多个附加存储单元可以布置在存储单元202a,1上方。在这样的实施例中，第四互连层406d在第二存储单元202b,1的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206正下方延伸为连续结构。第四互连层406d通过第五互连层406e和第三多个通孔412c连接至第二存储单元202b,1的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206。第六互连层406f限定连接至图2的存储器阵列102的列内的相应存储单元的两条字线wl3至wl4以及连接至图2的存储器阵列102的行内的相应存储单元的位线bl2。在一些实施例中，第二存储单元202a,2的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206可以通过第四多个通孔412d连接至第六互连层406f。在其它实施例(未示出)中，一个或多个附加存储单元可以横向地布置为邻近存储单元202a,1。在一些这样的实施例中。河北电子元件物料回收厂家上海海谷电子有限公司为您提供回收，欢迎新老客户来电！

信号dout的回转率是可控制的。初，src电路104向驱动器电路102提供一预设回转率，并且驱动器电路102驱动信号dout，其中信号dout具有该预设回转率。该预设回转率可以是特定值，或者可以是一范围中的数值。通常，一预设回转率被设计为满足一规范的要求。在信号dout的电气特性不理想的情况下，使用者在一使用者应用端12上测试ic元件10。使用者应用端12的一示波器120测量信号dout的一电压，并且示波器120，基于测量结果，在使用者应用端12的一使用者界面124上显示一电压波形122的图表。使用者基于例如使用者界面124的显示器上所示的电压来查看和计算信号dout的一实际回转率。接下来，使用者发送命令(例如，二进制数字)到src电路104。举例来说，通过使用者界面124的键盘、鼠标游标、触控显示器、按钮或其他控制件发送命令。替代地，使用者通过ic元件10的输入端引脚或固件码发送命令。src电路104，根据命令，增加或者降低信号dout的回转率。图2的流程图说明参考图1所示的比较方法的迭代流程。参照图2，迭代流程包括操作200、202、204、206和208。应当注意，操作206指的“评估”程序不软件模块的功能，而是在回到操作200的回转率(slewrate。

例如，使用信号dout的电压来训练神经网络32。接下来，在基于训练数据调整了权重之后，mlc42使用神经网络32对包括信号dout的电压的验证数据进行分类。接下来，在预测阶段316中，mlc42基于推理/分类阶段314中的分类结果来执行预测。图6的流程图说明根据本公开的一些实施例的基于具有图3的机器学习电路42的电路30的迭代流程。参照图6，迭代流程类似于图2的迭代流程，除了例如图6的迭代流程包括在操作500中的一机器学习程序(在图6中标记为进行机器学习)和在操作504中的获取规范之外。在操作500中，mlc42进行学习并产生一不成熟分类。使用者向mlc42提供一参考分类。如果不成熟分类不正确，则mlc42调整一权重。在本公开中，正确的分类指的是不成熟分类与参考分类相同。重复执行前述过程，直到在操作502中判断出在操作504的规范中获取的一校正率能够被满足。校正率指的是正确分类的数量与总分类数量的比率。图7的流程图说明根据本公开的一些实施例的基于图6的迭代流程的图5的训练阶段312和推理/分类阶段314。参照图7，在训练阶段312中，不执行操作200中的回转率的调整。在操作500中，例如，收集100笔数据，其中80笔数据做为训练数据，并且20笔数据做为验证数据。回收，就选上海海谷电子有限公司，让您满意，欢迎新老客户来电！

根据示例实施例的集成电路以及制造和设计所述集成电路的方法可以通过单元线路结构uws1至uws6来提高集成电路的设计效率和性能。在下文中，参照可以支持根据示例实施例的集成电路的布图的理解的图11、图12a、图12b和图12c描述标准单元的示例结构。图11实质上是示意的，图11中未示出上述实施例的所有特征。图2示出在一些实施例中金属线“ml”相对于栅极线“gl”以6比4的比率出现。图5和图7示出单个单元线路结构(uws)中存在六条金属线和四条栅极线的实施例。图8示出在具有八条栅极线(“gl”)的单个单元线路结构(uws)中存在十二条金属线(“ml”)的实施例。图11是示出示例标准单元的布图的示图，图12a、12b和12c是图11的标准单元的截面图。图12a、12b和12c示出包括鳍式场效应晶体管(finfet)的标准单元scl的一部分。图12a是图11的标准单元scl沿线a-a'的截面图。图12b是图11的标准单元scl沿b-b'线的截面图。图12c是图11的标准单元scl沿线c-c'的截面图。参照图11、图12a、图12b和图12c，标准单元可以形成在具有上表面110a的基底110上，该上表面110a在水平方向(例如，方向x和第二方向y)上延伸。在一些示例实施例中，基底110可以包括例如硅(si)、锗。上海海谷电子有限公司为您提供回收，有需求可以来电咨询！河南电子芯片回收公司

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侧壁间隔件261和262)的节距p3可以等于或者不同于与该心轴图案相邻的心轴图案的两个相对的侧壁间隔件(例如，侧壁间隔件262和263)的节距p4。在一些实施例中，侧壁间隔件261至266的平均节距被减小到抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3的1/2平均节距。在一些实施例中，可以以图4f的结构作为起点来按顺序应用施加空间层和重复蚀刻步骤。参照图4g，可以在介电层220上方、在侧壁间隔件261至266上方以及在侧壁间隔件261至266的侧壁上形成第二间隔层270。换言之，侧壁间隔件261至266可以用作第二心轴图案。在一些实施例中，已经制造261至266以接受材料沉积，然后将蚀刻掉261至266，在原位留下沉积的材料。在介电层220和侧壁间隔件261至266上方设置第二间隔层270。第二间隔层270包括与介电层220和侧壁间隔件261至266不同的一种或更多种材料，使得第二间隔层270针对蚀刻工艺具有不同的蚀刻选择性。可以通过cvd工艺、pvd工艺、ald工艺或其他合适的沉积技术形成第二间隔层270。参照图4h，针对第二间隔层270执行蚀刻工艺，从而定义第二侧壁间隔件271至282。参照图4i，执行具有合适的蚀刻选择性的蚀刻工艺以去除侧壁间隔件261至266，并且保留第二侧壁间隔件271至282。天津废弃电子料回收中心

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