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重庆电子元件物料回收服务

来源: 发布时间:2022-08-09

导电覆盖层可以由金属氮化物(例如,tin、tan、它们的组合等)形成。间隙填充金属层可以填充有源区ac之间的空间并且在导电覆盖层上延伸。间隙填充金属层可以由w(例如,钨)层形成。间隙填充金属层可以例如通过使用ald方法、cvd方法或物相沉积(pvd)方法形成。多个导电接触件ca和cb可以位于有源区ac上的层ly1上。多个导电接触件ca和cb包括连接到有源区ac的源区/漏区116的多个接触件ca21、22、23、24、25、31、32、33、34和35(参见图12b)和连接到栅极线pc11、12、13、14、15和16的多个第二接触件cb41、42和43(参见图12a和12c)。多个导电接触件ca和cb可以通过覆盖有源区ac和栅极线pc的层间绝缘层132彼此绝缘。多个导电接触件ca和cb可以具有与层间绝缘层132的上表面基本处于同一水平处的上表面。层间绝缘层132可以是氧化硅层。第二层间绝缘层134和穿过第二层间绝缘层134的多个下通孔接触件v051、52、53、54、55、56、57、58、59、60、61和62位于层间绝缘层132上。第二层间绝缘层134可以是氧化硅层。在高于层ly1(例如,沿着第三方向z距基底110更远)的第二层ly2上沿方向x延伸的多条线路m171、72、73、74、75、76、77和78可以位于第二层间绝缘层134上。回收,就选上海海谷电子有限公司,用户的信赖之选,有想法可以来我司咨询!重庆电子元件物料回收服务

达到固定散热机构3的目的,之后打开管盖6,并通过导管5向空心导热块31内加注部分纯净水,接着盖上管盖6,在芯片本体1工作散发热量的时候,热量被空心导热块31吸收,同时空心导热块31内部的纯净水受热蒸发,并通过连通管32和第二连接管34进入到空心散热块33和第二散热块35中,利用空心散热块33和第二空心散热块35较大的散热面积快速的把热量导出,然后水蒸汽凝结成水珠,水珠回到空心导热块31中继续吸收热量,该结构能够有效提高芯片的散热效率,同时提高了芯片运行的流畅性,以及避免芯片因高温而损伤,提高了芯片的使用寿命。以上所述,为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。重庆电子元件物料回收服务上海海谷电子有限公司是一家专业提供回收的公司,有想法的可以来电咨询!

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离散的互连结构限定连接至图2的存储器阵列102的列内的相应存储单元的两条字线wl1至wl2以及连接至图2的存储器阵列102的行内的相应存储单元的位线bl1。在一些实施例中,存储单元202a,1的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206可以通过第二多个通孔412b连接至第三互连层406c。在一些实施例中,一个或多个附加存储单元可以布置在存储单元202a,1上方。在这样的实施例中,第四互连层406d在第二存储单元202b,1的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206正下方延伸为连续结构。第四互连层406d通过第五互连层406e和第三多个通孔412c连接至第二存储单元202b,1的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206。第六互连层406f限定连接至图2的存储器阵列102的列内的相应存储单元的两条字线wl3至wl4以及连接至图2的存储器阵列102的行内的相应存储单元的位线bl2。在一些实施例中,第二存储单元202a,2的工作mtj器件106、调节mtj器件204和第二调节mtj器件206可以通过第四多个通孔412d连接至第六互连层406f。在其它实施例(未示出)中,一个或多个附加存储单元可以横向地布置为邻近存储单元202a,1。在一些这样的实施例中。回收,就选上海海谷电子有限公司,用户的信赖之选,欢迎您的来电!

可以使用光刻工艺形成抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3。例如,使用旋涂工艺和软焙工艺在层250上形成抗蚀剂层。然后,使用针对图4c的心轴图案231、232和233而定义的掩模将抗蚀剂层暴露于辐射。心轴图案231、232和233将提供基于231、232和233创建图4e中所示的侧壁间隔件261至266的基础。终将蚀刻掉心轴图案231、232和233。使用曝光后烘焙、显影和硬烘焙来使曝光的抗蚀剂层显影,从而在层250上方形成抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3。抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3在方向x上具有节距p1和宽度w1。参照图4c,通过抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3的开口蚀刻层250、240和230以形成心轴图案231、232和233。蚀刻工艺可以包括干法(或等离子体)蚀刻、湿法蚀刻或其他合适的蚀刻方法。之后使用合适的工艺(诸如,湿法剥离或等离子体灰化)去除抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3。还使用一个或更多个蚀刻工艺去除层250和层240,从而在中间层220上方产生图4c中所示的心轴图案231、232和233。考虑到通过上述图案化工艺的特征变化,心轴图案231、232和233在方向x上具有分别与节距p1和宽度w1基本匹配的节距p2和宽度w2。参照图4d,在介电层220上方、在心轴图案231、232和233上方以及在心轴图案231、232和233的侧壁上形成间隔层260。上海海谷电子有限公司为您提供回收,有想法可以来我司咨询!内蒙古批量电子物料回收处理

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可以通过执行标准单元sc1至sc12的上述布局和布线来确定集成电路300的布图。可以通过电力轨311至316向标准单元sc1至sc12提供电力。电力轨311至316可以包括用于提供电源电压vdd的高电力轨311、313和315,以及用于提供比电源电压vdd低的第二电源电压vss的低电力轨312、314和316。例如,电源电压vdd可以具有正电压电平,第二电源电压vss可以具有地电平(例如,0v)或负电压电平。高电力轨311、313和315以及低电力轨312、314和316在方向x上延伸并且逐一交替地布置在第二方向y上,以形成与由布置在第二方向y上的电力轨311至316定义的区域对应的多个电路行cr1至cr5的边界。根据一些示例实施例,可以通过在第二方向y上延伸的电力网线路321至324将电力分配到电力轨311至316。一些电力网线路322和324可以提供电源电压vdd,并且其他电力网线路321和323可以提供第二电源电压vss。电力网线路321至324可以通过竖直接触件vc(诸如,通孔接触件)连接到电力轨311至316。通常,电路行cr1至cr5中的每个可以连接到位于其边界的两个相邻的电力轨以便被供电。例如,电路行cr1中的标准单元sc1和sc2可以连接到包括高电力轨311和低电力轨312的相邻的且相应的电力轨对。根据示例实施例,如图16中所示。重庆电子元件物料回收服务

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