所述印刷电路装配件400中的每个印刷电路装配件上的散热器208a、208b的顶表面302与另一个印刷电路装配件400上的热接口材料层408接触，并且与该热接口材料层408热耦联，如在410a和410b处所指示的那样。在这种配置中，每个印刷电路装配件400上的双列直插式存储模块组件200由另一个印刷电路装配件400的冷却管406冷却。图5是移除了双列直插式存储模块组件200的印刷电路装配件400的图。参考图5，可以清楚地看到印刷电路板插座404、邻接并且平行的冷却管406以及布置在平行的冷却管406上的热接口材料层408。图6是带有已安装在印刷电路板插座404中的双列直插式存储模块组件200并且带有已附接的分流管的印刷电路装配件400的图。参考回图5，每个冷却管406的端部耦联至输入分流管606a，并且每个冷却管406的第二端部耦联至输出分流管606b。在操作中，冷却液体通过输入分流管606a进入各冷却管，并且被加热的液体通过输出分流管606b离开各冷却管。图7a和图7b示出了根据一个实施例的、特征在于外部铰链的双列直插式存储模块组件。图7b示出了分解图，而图7a示出了装配图。双列直插式存储模块组件700包括印刷电路板702，在印刷电路板702上安装有一个或多个集成电路(一般地以704示出)。电子料回收，请选择上海海谷电子有限公司，用户的信赖之选。甘肃电容电阻回收价格

达到固定散热机构3的目的，之后打开管盖6，并通过导管5向空心导热块31内加注部分纯净水，接着盖上管盖6，在芯片本体1工作散发热量的时候，热量被空心导热块31吸收，同时空心导热块31内部的纯净水受热蒸发，并通过连通管32和第二连接管34进入到空心散热块33和第二散热块35中，利用空心散热块33和第二空心散热块35较大的散热面积快速的把热量导出，然后水蒸汽凝结成水珠，水珠回到空心导热块31中继续吸收热量，该结构能够有效提高芯片的散热效率，同时提高了芯片运行的流畅性，以及避免芯片因高温而损伤，提高了芯片的使用寿命。以上所述，为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。山西电感元件回收量大从优上海海谷电子有限公司是一家专业提供电子料回收的公司，欢迎新老客户来电！

每个系统板具有在双列直插式存储模块之间交错的冷却管。当这些系统板相对地放置在一起时，每个系统板上的双列直插式存储模块由在另一个系统板上的冷却管冷却。相比于之前的方法，这种方法允许更高密度的双列直插式存储模块，同时仍然提供必要的冷却。这种方法也是安静的，并且由此可以靠近办公室员工放置。这种方法也允许容易的维护，而没有与液体浸入式冷却系统相关的溢出。尽管参考双列直插式存储模块描述了不同实施例，应当认识到的是，所公开的技术可以用于冷却任何集成电路或类似的一个或多个系统和系统中的一个或多个元素/部件。图1是系统100的关系图，在该系统中可以实施不同实施例。系统100包括计算部件120，所述计算部件包括处理器104和存储器106。存储器106包括多个双列直插式存储模块组件108。系统100还包括冷却回路。所述冷却回路包括泵110、热交换器112和储液器114。泵110将冷却液体130提供给双列直插式存储模块组件108。由双列直插式存储模块组件108产生的热量被传送给液体，加热液体并且冷却双列直插式存储模块组件108。泵110将被加热的液体132从双列直插式存储模块组件108移除。热交换器112冷却被加热的液体132。储液器114适应液体体积的改变。

在半导体基底200上方形成中间层210、220和230。半导体基底200包括作为半导体晶圆的硅。在各种实施例中，半导体基底200可以包括另一元素半导体(诸如，锗)、化合物半导体(诸如，碳化硅、砷化镓、磷化镓、磷化铟、砷化铟和/或锑化铟)、合金半导体(诸如，gaasp、alinas、algaas、ingaas、gainp和/或gainasp)或它们的组合。半导体基底200可以包括有源区、外延特征、隔离结构、鳍状半导体区域和/或其他合适的特征。在一些示例实施例中，半导体基底200包括多晶硅层，该多晶硅层可被用于形成多晶硅栅电极或者用于在栅极替换工艺中形成虚设栅电极。中间层210、220和230可以是介电层，可以通过诸如热氧化、化学气相沉积(cvd)、物相沉积(pvd)、等离子体增强cvd(pecvd)和原子层沉积(ald)的一种或更多种沉积技术形成所述介电层。参照图4b，在设置在介电层230上方的层240和层250上方对光致抗蚀剂(或抗蚀剂图案)pr1、pr2和pr3进行图案化。例如，层250可以是含硅硬掩模层，层240可以是抗反射涂层。可以使用cvd、pvd或其他合适的方法形成层240和层250。在一些示例实施例中，可以在介电层230上方直接形成抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3而没有层240和层250。电子料回收，请选择上海海谷电子有限公司。

侧壁间隔件261和262)的节距p3可以等于或者不同于与该心轴图案相邻的心轴图案的两个相对的侧壁间隔件(例如，侧壁间隔件262和263)的节距p4。在一些实施例中，侧壁间隔件261至266的平均节距被减小到抗蚀剂图案pr1、pr2和pr3的1/2平均节距。在一些实施例中，可以以图4f的结构作为起点来按顺序应用施加空间层和重复蚀刻步骤。参照图4g，可以在介电层220上方、在侧壁间隔件261至266上方以及在侧壁间隔件261至266的侧壁上形成第二间隔层270。换言之，侧壁间隔件261至266可以用作第二心轴图案。在一些实施例中，已经制造261至266以接受材料沉积，然后将蚀刻掉261至266，在原位留下沉积的材料。在介电层220和侧壁间隔件261至266上方设置第二间隔层270。第二间隔层270包括与介电层220和侧壁间隔件261至266不同的一种或更多种材料，使得第二间隔层270针对蚀刻工艺具有不同的蚀刻选择性。可以通过cvd工艺、pvd工艺、ald工艺或其他合适的沉积技术形成第二间隔层270。参照图4h，针对第二间隔层270执行蚀刻工艺，从而定义第二侧壁间隔件271至282。参照图4i，执行具有合适的蚀刻选择性的蚀刻工艺以去除侧壁间隔件261至266，并且保留第二侧壁间隔件271至282。上海海谷电子有限公司是一家专业提供电子料回收的公司。云南电子物料回收量大从优

电子料回收，请选择上海海谷电子有限公司，让您满意，欢迎您的来电哦！甘肃电容电阻回收价格

调节)提供给工作mtj器件的电流来选择性地对工作mtj器件提供访问。通过使用调节访问装置来选择性地对存储器阵列内的工作mtj器件提供访问，可以减小存储器阵列内的存储单元(例如，mram单元)的尺寸，因为该尺寸不再取决于驱动晶体管的尺寸。图1示出了具有调节访问装置的存储器电路100的一些实施例的示意图，该调节访问装置被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问。存储器电路100包括具有多个存储单元104a,1至104b,2的存储器阵列102。多个存储单元104a,1至104b,2以行和/或列布置在存储器阵列102内。例如，行存储单元包括存储单元104a,1和104a,2，而列存储单元包括存储单元104a,1和104b,1。在一些实施例中，多个存储单元104a,1至104b,2可以包括多个mram单元。多个存储单元104a,1至104b,2(例如，mram单元)分别包括连接至调节访问装置108的工作mtj器件106。工作mtj器件106包括磁隧道结(mtj)，磁隧道结(mtj)具有通过介电遂穿阻挡层112a与自由层114a分隔开的固定层110a。固定层110a具有固定的磁向，而自由层114a具有可以在操作期间(通过隧道磁阻(tmr)效应)改变为相对于固定层110a的磁向平行(即，“p”状态)或反向平行(即，“ap”状态)的磁向。甘肃电容电阻回收价格

上海海谷电子有限公司专注技术创新和产品研发，发展规模团队不断壮大。公司目前拥有专业的技术员工，为员工提供广阔的发展平台与成长空间，为客户提供高质的产品服务，深受员工与客户好评。公司业务范围主要包括：电子元件回收，电子料回收，呆滞料回收，电子物料回收等。公司奉行顾客至上、质量为本的经营宗旨，深受客户好评。公司凭着雄厚的技术力量、饱满的工作态度、扎实的工作作风、良好的职业道德，树立了良好的电子元件回收，电子料回收，呆滞料回收，电子物料回收形象，赢得了社会各界的信任和认可。