高纯水又名超纯水，是指化学纯度极高的水，其主要应用在生物、化学化工、冶金、宇航、电力等领域，但其对水质纯度要求相当高，所以一般应用普遍的还是电子行业。在超纯水设备的生产过程中，水中的阴阳离子可用电渗析法、反渗透法及离子交换技术等去除，水中的颗粒一般可用超过滤、膜过滤等技术去除；水中的细菌，目前国内多采用加药或紫外灯照射或臭氧杀菌的方法去除；水中的TOC则一般用活性炭、反渗透处理。在高纯水的应用领域中，水的纯度直接关系到器件的性能、可靠性，因此高纯水要求具有相当高的纯度和精度。苏州道盛禾带您了解超纯水设备。舟山超纯水设备

采用两级反渗透方式原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点3、采用EDI方式原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水处理设备。舟山超纯水设备超纯水设备可以用于实验室、医疗和工业领域。

◆半导体制造需要接近理论纯水的水理论上纯水在25°C下的电阻率为18.24MΩ·cm，电导率为0.05482μS/cm。该电导率的值为H20+OH-（公式为2H20=H3O+OH-）即，除了氢离子和氢氧根离子以外，没有任何电解质，这是因为水本身的解离。对超纯水的要求是，电阻率至少与理论纯水的电阻率非常接近。实际上，高集成度半导体制造工艺所要求的水质电阻率高达18MΩ·cm以上。例如，在水中溶解1mg/L的Fe离子，其电阻率就会下降到约17MΩ·cm，所以溶解物质的浓度在μgg/L(ppb)的超纯水中也会出现问题,随着半导体产业的发展，水质要求是越来越严格。

第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备，其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高，但离子设备再生周期相对要长，耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。3、第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置，这是目前制取超纯水经济，环保用来制取超纯水的工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。●应用场合1.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;2.超纯材料和超纯化学试剂;3.实验室和中试车间4.汽车、家电表面抛光处理;5.其他高科技精微产品超纯水设备可以提供低细菌和病毒的水源。

电路板的生产和清洗其他高科技精细产品的生产纯水设备的用途电厂化学水处理电子、半导体、精密机械行业超纯水3、食品、饮料、饮用水的制备4、小型纯水站，团体饮用纯水5、精细化工、精尖学科用水6、其他行业所需的高纯水制备7、制药工业工艺用水8、海水、苦咸水的淡化二、水的电导率不同超纯水的出水水质：电阻率>15MΩ.cm超纯水水质分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。2.纯水分为:工业纯水和饮用纯水工业纯水:在25摄氏度中，1。普通纯水:EC=1~10us/cm;2。高纯水:EC=0.1~1.0us/cm;3。超纯水:EC=0.1~0.055；饮用纯水:EC=1~10us/cm(国家标准)。超纯水设备可以提供低氯离子的水供应。舟山超纯水设备

超纯水设备可以提供低总镍的水源。舟山超纯水设备

高纯水又名超纯水，是指化学纯度极高的水，其主要应用在生物、化学化工、冶金、宇航、电力等领域，但其对水质纯度要求相当高，所以一般应用普遍的还是电子行业。在超纯水设备的生产过程中，水中的阴阳离子可用电渗析法、反渗透法及离子交换技术等去除，水中的颗粒一般可用超过滤、膜过滤等技术去除;水中的细菌，目前国内多采用加药或紫外灯照射或臭氧杀菌的方法去除;水中的TOC则一般用活性炭、反渗透处理。在高纯水的应用领域中，水的纯度直接关系到器件的性能、可靠性，因此高纯水要求具有相当高的纯度和精度。舟山超纯水设备