满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，精密过滤器等预处理系统、双级RO反渗透主机系统、EDI或离子交换混床系统等。1、介质过滤器主要作用是去除源水中的悬浮物质及机械杂质设备由质量不锈钢材料制作而成。体内装有布水帽、精制石英砂等，亦可装其它填料。合理的石英砂装填比例及良好的布水系统，使系统的产水水质更加稳定。另外设备还设有气体冲刷功能，能比较大限度地介质上及床层中的污垢，提高出水水质和延长工作周期。2、活性碳过滤器具有除臭、去色、除油、吸附有机物杂质等作用，能很大程度的去除水中的游离余氯，保证反渗透膜的进水水质，设备由质量不锈钢材料制成。超纯水主要用于半导体行业。苏州锌锰电池超纯水金属离子超标

◆半导体制造需要接近理论纯水的水理论上纯水在25°C下的电阻率为18.24MΩ·cm，电导率为0.05482μS/cm。该电导率的值为H20+OH-（公式为2H20=H3O+OH-）即，除了氢离子和氢氧根离子以外，没有任何电解质，这是因为水本身的解离。对超纯水的要求是，电阻率至少与理论纯水的电阻率非常接近。实际上，高集成度半导体制造工艺所要求的水质电阻率高达18MΩ·cm以上。例如，在水中溶解1mg/L的Fe离子，其电阻率就会下降到约17MΩ·cm，所以溶解物质的浓度在μgg/L(ppb)的超纯水中也会出现问题,随着半导体产业的发展，水质要求是越来越严格。超纯水Si超标纯水基本上是以水溶液中的电解质为对象。

超纯水这个词是随着半导体的发展而出现的.半导体产业所要求的超纯水是100%的理论纯水，不含溶解在水中的离子类、有机物、活菌、微粒等。然而,不可能获得理论纯水。因为理论纯水不仅本身很难制造，而且理论纯水溶解其他物质的能力也很强。因为会变的。这是因为，即使能够制造出理论纯水，也不能忽视设备的附着物和材料的污染，而且如果将制造水采集到容器中，容器会产生污渍和溶出，因此无法维持纯度。因此，“超纯水”是指与现实中能够制造的理论纯水接近的水。

光学材料生产用超纯水设备标准1.研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量（外观和精度）的重要工序。2.研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青，少数企业的加工过程中会有漆片。3.其中研磨粉的型号各异，一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。4.根据镜片的材质及研磨精度不同，选择不同型号的研磨粉。5.在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的，以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。6.玻璃研磨过后，需要用超纯水进行产品的清洗，以获得的产品。超纯水设备可以净化水中的微生物和有机物。

进入相临的浓水流却被阴离子膜阴隔，从而留在浓水流中。当水流过这两种平行的室时，离子在纯水室被除去并在相临的浓水流中聚积，然后由浓水流将其从模组中带走。在纯水及浓水中离子交换树脂的使用是ElectropupreEDI技术和的关键。一个重要的现象在纯水室的离子交换树脂中发生。在电势差高的局部区域，电化学反应分解的水产生大量的H和OH。在混床离子交换树脂中局部H和OH的产生使树脂和膜不需要添加化学药品就可以持续再生。苏州道盛禾环保科技有限公司超纯水设备的应用很广。上海涂装清洗用超纯水硼的去除

超纯水设备可以提供低总铜的水源。苏州锌锰电池超纯水金属离子超标

第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备，其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高，但离子设备再生周期相对要长，耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。3、第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置，这是目前制取超纯水经济，环保用来制取超纯水的工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。●应用场合1.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；2.超纯材料和超纯化学试剂；3.实验室和中试车间4.汽车、家电表面抛光处理；5.其他高科技精微产品。苏州锌锰电池超纯水金属离子超标

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