南京拓展科技有限公司2025-04-05

可以采用高精密的环境控制设备来对环境进行控制，达到精密温控的效果。如蚀刻、涂层、光刻等工艺，这些工艺都需要在特定的温度范围内进行。洁净室内的温度波动可能会导致晶圆材料的物理性质发生变化，影响生产精度。例如，光刻工艺中，微小的温度波动会导致曝光位置的漂移，进而影响线路的精确度。此外，晶圆在高温环境下可能会因为热膨胀而发生变形，影响成品率。因此，半导体洁净室中通常温度需要严格控制在20°C至25°C范围内，且温度波动不能超过±1°C（部分要求较高的工艺如光刻工艺，温度波动不能超过±0.1°C）。所以我们可以采用极测（南京）高精密环境控制设备，该设备内部通过风机引导气流以一定的方向循环，控制系统对循环气流的每个环节进行处理，从而使柜内的温湿度达到超高的控制精度，可达到±0.002摄氏度。

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