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无锡保利新能源设备制造有限公司2024-11-26
单晶炉的气氛控制系统用于调节炉内气体的种类、流量和压力，以创造适合晶体生长的气体环境。不同的半导体材料对气体环境的要求不同，例如硅单晶生长时通常需要惰性气体（如氩气）作为保护气，以防止熔融材料氧化。气氛控制系统还能通过调节气体成分和流量，影响晶体生长速率和晶体质量。
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