赛瑞达智能电子装备（无锡）有限公司2025-03-09

控制扩散均匀性至关重要。首先，要确保扩散炉内温度分布均匀，这需要高质量的加热元件和精细的温度控制系统，使炉内各位置温度偏差控制在极小范围内。其次，POCl?蒸汽在炉内的分布均匀性很关键。通过合理设计气体输送管道和流量控制系统，让携带 POCl?蒸汽的气体能均匀地覆盖硅片表面。此外，硅片在炉内的放置方式也有影响，一般采用专门设计的载具，保证硅片之间的间距均匀，避免相互遮挡，使每个硅片都能在相同的环境下进行扩散反应，从而保证扩散的均匀性。?

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