历史上光刻机所使用的光源波长呈现出与集成电路关键尺寸同步缩小的趋势。不同波长的光刻光源要求截然不同的光刻设备和光刻胶材料。在20世纪80年代，半导体制成的主流工艺尺寸在1.2um(1200nm)至 0.8um(800nm)之间。那时候波长436nm的光刻光源被大量使用。在90年代前半期，随着半导体制程工艺尺寸朝 0.5um（500nm）和0.35um（350nm）演进，光刻开始采用365nm波长光源。436nm和365nm光源分别是高压汞灯中能量比较高，波长**短的两个谱线。高压汞灯技术成熟，因此很早被用来当作光刻光源。使用波长短，能量高的光源进行光刻工艺更容易激发光化学反应、提高光刻分别率。以研究光谱而闻名的近代德国科学家约瑟夫·弗劳恩霍夫将这两种波长的光谱分别命名为G线和I线。这也是 g-line光刻和 i-line光刻技术命名的由来。中国半导体光刻胶的快速崛起离不开中国整体半导体产业的发展。浙江黑色光刻胶曝光

光刻胶的产业链中游：为光刻胶制造环节，当前全球光刻胶生产制造商主要被日本JSR、信越化学、住友化学、东京应化、美国陶氏化学等制造商所垄断，中国本土企业在光刻胶市场的份额较低，与国外光刻胶制造商相比仍存明显差距。

光刻胶的产业链下游：主要涉及半导体、平板显示器、PCB等领域。伴随消费升级、应用终端产品更新迭代速度加快，下游应用领域企业对半导体、平板显示和PCB制造提出愈加精细化的要求，将带动光刻胶行业持续发展。 华东光刻胶显影在集成电路制造领域，如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”，光刻胶就是这部“引擎”的“燃料”。

离子束光刻技术可分为聚焦离子束光刻、离子束投影式光刻。聚焦离子束光刻用途较多，常以镓离子修补传统及相位转移掩膜板；离子束投影式光刻主要使用150 keV的H+、H2+、H3+、He+，以镂空式模板，缩小投影（4~5倍） 。离子束光刻与电子束直写光刻技术类似，不需要掩膜板，应用高能离子束直写。离子束的散射没有电子束那么强，因此具有更好的分辨率。液态金属离子源为较简单的曝光源：在钨针或钼针的顶端附上镓或金硅合金，加热融化后经由外层为液态金属表面产生的场使离子发射，其发射面积很小（<10 nm），因此利用离子光学系统可较容易地将发射的离子聚焦成细微离子束，从而进行高分辨率的离子束曝光。

半导体光刻胶市场中除了美国杜邦，其余四家均为日本企业。其中JSR、TOK的产品可以覆盖所有半导体光刻胶品种，尤其在EUV市场高度垄断。近年来，随着光刻胶的需求攀升，叠加日本减产，光刻胶出现供不应求的局面，部分中小晶圆厂甚至出现了“断供”现象。目前大陆企业在g/i线光刻胶已形成一定规模的销售，光刻胶方面，彤程新材的KrF光刻胶产品已批量供应国内主要12英寸、8英寸晶圆厂，晶瑞电材KrF光刻胶加紧建设中，另有多家企业ArF光刻胶研发顺利进行，其中南大光电ArF产品已通过下游客户验证，有望在未来形成销售。光刻胶保质期通常在6个月以内，无法囤货，一旦断供可能会引起停产的严重局面，由此国产化重要性更加凸显。按照化学结构分类：光刻胶可以分为光聚合型，光分解型，光交联型和化学放大型。

在双重曝光工艺中，若光刻胶可以接受多次光刻曝光而不在光罩遮挡的区域发生光化学反应，就可以节省一次刻蚀，一次涂胶和一次光刻胶清洗流程。由于在非曝光区域光刻胶仍然会接受到相对少量的光刻辐射，在两次曝光过程后，非曝光区域接受到的辐射有可能超过光刻胶的曝光阈值E0，而发生错误的光刻反应。如果非曝光区域的光刻胶在两次曝光后接受到的辐射能量仍然小于其曝光阈值E0，那么就是一次合格的双重曝光。从这个例子可以看出，与单次曝光不同，双重曝光要求光刻胶的曝光阈值和光刻光源的照射强度之间的权衡。高壁垒和高价值量是光刻胶的典型特征。光刻胶属于技术和资本密集型行业，全球供应市场高度集中。昆山ArF光刻胶显示面板材料

经过多年技术积累，国内已形成一定光刻胶用电子化学品产能，国内公司市场份额逐步提升，国产替代正在进行。浙江黑色光刻胶曝光

2018年我国石油和天然气产量在全球占比分别为4%和4.2%，而煤炭产量占比高达46.7%。“富煤、贫油、少气”的资源禀赋决定了我国以煤为主体的能源结构，油气保证能力较低。现代乙醇胺，乙二胺，丙二醇，己二酸二辛脂能够部分替代我国石油和天然气的消费量，促进石化行业原料多元化，为我国能源安全提供战略支撑，为石油安全提供应急保证。许可项目：危险化学品经营。(依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准) 一般项目：化工产品销售(不含许可类化工产品);机械设备销售；食品添加剂销售；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广。(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)生产在国内历经了几十年的生产，以前确实处于产品资源相对缺乏，而人力资源丰富，且许可项目：危险化学品经营。(依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准) 一般项目：化工产品销售(不含许可类化工产品);机械设备销售；食品添加剂销售；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广。(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)制造的重点工艺相对简单的情况。因此很多企业采用传统的作业方式就能够在市场中很好的生存。随着大众对乙醇胺，乙二胺，丙二醇，己二酸二辛脂的要求越来越迫切和严格，开发出低耗能、低污染、高性能的水性化重防腐涂料已成为了当前研究的热点之一。而水性重防腐涂料研发的关键在于水溶性成膜树脂的开发，目前水性环氧、水性氟碳以及水性聚氨酯等防腐涂料已研制成功。随着消费升级和社会发展，化工产业中档次低、成本高、效益差的低端产品市场不断萎缩。能耗高、排放大、质量低的产品和服务加快被淘汰，高级产品、差异化产品、绿色产品日益受到消费者青睐。浙江黑色光刻胶曝光

上海蔚云化工有限公司是一家许可项目：危险化学品经营。(依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准) 一般项目：化工产品销售(不含许可类化工产品);机械设备销售；食品添加剂销售；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广。(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)的公司，致力于发展为创新务实、诚实可信的企业。上海蔚云化工作为化工的企业之一，为客户提供良好的乙醇胺，乙二胺，丙二醇，己二酸二辛脂。上海蔚云化工继续坚定不移地走高质量发展道路，既要实现基本面稳定增长，又要聚焦关键领域，实现转型再突破。上海蔚云化工始终关注自身，在风云变化的时代，对自身的建设毫不懈怠，高度的专注与执着使上海蔚云化工在行业的从容而自信。