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广东LED光刻胶国产厂商

来源: 发布时间:2025-04-20
制版光刻胶应用场景:印刷电路板(FPC)、触摸屏(TP)的掩膜版制作,以及光学元件(如衍射光栅)的微纳加工。特点:高分辨率与耐化学性,确保模板的长期使用寿命。

水性光刻胶(JT-1200)应用场景:环保要求高的电子元件(如医疗设备、汽车电子)的制造,以及柔性电路的生产。特点:以水为溶剂,低 VOC 排放,符合 RoHS 和 REACH 环保标准。

水油两用光刻胶(JT-2001/SR-3308)适用于混合工艺场景(如部分环节需水性显影,部分需溶剂显影),提升生产灵活性。 耐高温光刻胶 JT-2000,250℃环境稳定运行,图形保真度超 95%,用于纳米结构制造!广东LED光刻胶国产厂商

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光刻胶的主要应用领域

光刻胶是微电子制造的主要材料,广泛应用于以下领域:

 半导体制造

? 功能:在晶圆表面形成微细电路图案,作为蚀刻或离子注入的掩膜。

? 分类:

? 正性光刻胶:曝光区域溶解于显影液,形成与掩膜版一致的图案(主流,分辨率高)。

? 负性光刻胶:未曝光区域溶解,形成反向图案(用于早期工艺,耐蚀刻性强)。

? 技术演进:随制程精度提升,需匹配不同曝光波长(紫外UV、深紫外DUV、极紫外EUV),例如EUV光刻胶用于7nm以下制程。

 平板显示(LCD/OLED)

? 彩色滤光片(CF):在玻璃基板上制作红/绿/蓝像素单元,光刻胶用于图案化黑矩阵(BM)、彩色层(R/G/B)和保护层。

? 电极图案:制作TFT-LCD的电极线路或OLED的阴极/阳极,需高透光率和精细边缘控制。

 印刷电路板(PCB)

? 线路蚀刻:在覆铜板上涂胶,曝光显影后保留线路区域,蚀刻去除未?;さ耐?,形成导电线路。

? 阻焊与字符层:阻焊胶覆盖非线路区域,防止短路;字符胶用于印刷电路板标识。

 LED与功率器件

? 芯片制造:在蓝宝石/硅基板上制作电极和量子阱结构,需耐高功率环境的耐高温光刻胶。

? Micro-LED:微米级芯片转移和阵列化,依赖超高分辨率光刻胶(分辨率≤5μm)。

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LCD显示

? 彩色滤光片(CF):

? 黑色矩阵(BM)光刻胶:隔离像素,线宽精度±2μm,透光率<0.1%。

? RGB色阻光刻胶:形成红/绿/蓝像素,需高色纯度(NTSC≥95%)和耐光性。

? 阵列基板(Array):

? 栅极绝缘层光刻胶:用于TFT-LCD的栅极图案化,分辨率≤3μm。

 OLED显示(柔性/刚性)

? 像素定义层(PDL)光刻胶:在基板上形成有机发光材料的 confinement 结构,线宽精度±1μm,需耐溶剂侵蚀(适应蒸镀工艺)。

? 触控电极(如ITO/PET):通过光刻胶图形化实现透明导电线路,线宽≤5μm。

 Mini/Micro LED

? 巨量转移前的芯片制备:使用高分辨率光刻胶(分辨率≤5μm)定义微米级LED阵列,良率要求>99.99%。

纳米压印光刻胶


  • 微纳光学器件制造:制作衍射光学元件、微透镜阵列等微纳光学器件时,纳米压印光刻胶可实现高精度的微纳结构复制。通过纳米压印技术,将模板上的微纳图案转移到光刻胶上,再经过后续处理,可制造出具有特定光学性能的微纳光学器件,应用于光通信、光学成像等领域。
  • 生物芯片制造:在 DNA 芯片、蛋白质芯片等生物芯片的制造中,需要在芯片表面构建高精度的微纳结构,用于生物分子的固定和检测。纳米压印光刻胶可帮助实现这些精细结构的制作,提高生物芯片的检测灵敏度和准确性。

  • 吉田公司以无卤无铅配方与低 VOC 工艺打造环保光刻胶。

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    光刻胶(如液晶平板显示器光刻胶)

    • 液晶平板显示器制造:在液晶平板显示器(LCD)的生产过程中,光刻胶用于制作液晶盒内的各种精细图案,包括像素电极、公共电极、取向层图案等。这些图案的精度和质量直接影响液晶显示器的显示效果,如分辨率、对比度、视角等。
    • 有机发光二极管显示器(OLED)制造:OLED 显示器的制造同样需要光刻胶来制作电极、像素定义层等关键结构。OLED 显示器具有自发光、响应速度快等优点,而光刻胶能保障其精细的像素结构制作,提升显示器的发光效率和显示质量 。


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     上游原材料:

    ? 树脂:彤程新材、鼎龙股份实现KrF/ArF光刻胶树脂自主合成,金属杂质含量<5ppb(国际标准<10ppb)。

    ? 光引发剂:久日新材攻克EUV光刻胶原料光致产酸剂,累计形成吨级订单;威迈芯材合肥基地建成100吨/年ArF/KrF光刻胶主材料产线。

    ? 溶剂:怡达股份电子级PM溶剂全球市占率超40%,与南大光电合作开发配套溶剂,技术指标达SEMI G5标准。

    设备与验证:

    ? 上海新阳与上海微电子联合开发光刻机适配参数,验证周期较国际厂商缩短6个月;徐州博康实现“单体-树脂-成品胶”全链条国产化,适配ASML Twinscan NXT系列光刻机。

    ? 国内企业通过18-24个月的晶圆厂验证周期(如中芯国际、长江存储),一旦导入不易被替代。
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