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ES-113I型荷兰bronkhorst液体流量计技术参数：比较大满量程流量1500毫升/分钟最小流量2毫升/分钟体积流量精度MkI：≤±1%Rd±≤1ml/min；MkII：≤±0.8%Rd±≤0.4ml/min重复性≤0,1%Rd±0,05毫升/分钟调节比数字2:100至2:1500ml/min（用户可调整的满刻度值）；模拟：1:50(2…100%)；流体声速在1000至2000米/秒之间的液体；与流体无关的测量；也适用于非导电流体响应时间（传感器）200毫秒（米，t98%）刷新（周期）时间≤10毫秒比较高流体温度-10…90°C比较高环境温度10…60摄氏度安装任何位置、姿态的敏感性都可以忽略不计。温度精度±1摄氏度机械零件传感器直管，1.3毫米内径材料（接液部件）不锈钢316L表面质量Ra<0,8微米压力等级（PN）10bara在TAMB=15…35°C，|TAMB-TMED|≤25°C；对于高温，请咨询工厂过程连接3mm、6mm、1/8"、1/4"OD压缩型或1/4"面密封外螺纹（焊接）海豹没有任何重量仪表：1,3公斤；控制器：根据要求入口保护IP66和IP67VC5R2E11,MVC5R2G11,VCA0.2FAR1V,VCA0.04FFR1,VCN0.04FFR1,VCA0,1FER1,VCN0.2FBR1,VCA5FER1,VCL0.1PBRS.

荷兰BRONKHORST流量计流量控制器压力控制器在半导体和LED照明产业**初，热式质量流量计和控制器是在1970年代为半导体制造过程中的气相沉积而开发的。由于市场需求以及在气体、液体和蒸汽输送方面引进新的更好产品的需要，Bronkhorst成为半导体、平板显示器和LED行业的主要供应商。针对化学气相沉积（CVD）、平板显示器喷涂（FPD）和原子层沉积（ALD）工艺，Bronkhorst可为直接液体注入系统提供金属密封流量仪表。应用案例切割（激光）前在晶片上沉积保护层金属有机化学气相沉积(MOCVD)原子层沉积(ALD)超临界流体定量给料和控制（如超临界二氧化碳清洗）平板显示器(FPD)喷涂VC0.04F3PK/74流量计VC0.025F4RV/71价格VC0.4F5PX/55厂家VC0.2F1RH/156型号VC0.4F1PK/55代理VC1F1RV/71。南昌靶心流量控制器

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