类金刚石薄膜（DLC）拥有高硬度，低摩擦、耐腐蚀等性能，已经应用于机械刀具、模具、汽车发动机部件等领域。但由于制备技术的限制，导致DLC存在残余应力较高、膜/基结合力差、摩擦性能不稳定、大面积均匀制备困难等问题。线性阳极离子束技术具有等离子体离化率高、大面积均匀沉积等特点，是制备高性能DLC薄膜的理想技术。针对DLC与基体结合性能较差的现状，首先从添加合适过渡层（W）匹配膜/基适应性出发，探讨W过渡层厚度对DLC薄膜物相、机械力学、摩擦学性能的影响。在此基础上，通过不同工艺W过渡层结构设计，研究其对膜/基性能的影响。为改善金属基体沉积DLC薄膜的工业化应用，根据不同类型过渡层性能的对比，优化过渡层设计，制备出膜/基结合强度高、机械性能良好的DLC复合薄膜，上海英屹涂层技术有限公司引进美国PE-CVD设备技术制备的类金刚石DLC膜层沉积速率快膜厚可达60um膜层硬度高膜层摩擦系数低小于结合力好耐腐蚀性能好优异的耐磨性膜层具有自润滑性的优点。可以解决PVD涂层镀不到的工件内孔的问题。公司涂层已经应用于航空机械模具电子医疗汽车发动机部件等领域。真空镀膜机DLC薄膜的适用范围。青浦金属DLC技术

虽然液相电沉积技术在制备类金刚石薄膜及其相关材料方面具有很多优势，目前对电化学沉积DLC薄膜的研究报道也越来越多，但这一领域仍有很多方面需要进一步研究:(1)继续扩大成膜基底的选择范围,并深入研究不同基底材料对DLC薄膜性能的影响;(2)更为全面地研究不同电解液和沉积条件对薄膜性质的影响;(3)深入研究成膜机理,并建立具有普遍指导意义的理论模型;(4)开展功能元素的掺杂,使其可以在微电子、生物传感器等高新领域得到应用。电沉积方法的独特优势，决定了它巨大的发展潜力，已在近年来受到了人们的普遍重视，相信随着研究的不断深入，技术的不断发展和成熟，该领域的研究范围将会越来越广，研究成果也会越来越丰硕。DLC薄膜的性能与应用DLC薄膜将高硬度、低摩擦系数、耐磨损、抗划伤性、耐腐蚀性、抗粘连、化学稳定性等特性完美地结合，在力学、摩擦学、生物学、电学、光学、热学和声学等方面展示出优良特性，可广泛应用于机械、工模具、刀具、汽车、电子、光学、生物医学、航空航天、装饰外观保护，如手表外壳、首饰配件、手机外壳等领域。徐州不锈钢DLC新型的DLC(类金刚石碳)涂层材料——金刚烷化合物。

类金刚石碳膜(diamond-likecarbonfilms，简称DLC膜)，是含有类似金刚石结构的非晶碳膜，也是我们在这里真正需要介绍的一种。DLC膜的基本成分是碳，由于其碳的来源和制备方法的差异，DLC膜可分为含氢和不含氢两大类。DLC膜是一种亚稳态长程无序的非晶材料，碳原子间的键合方式是共价键，主要包含sp2和sp3两种杂化键，在含氢DLC膜中还存在一定数量的C-H键。我们从1996年起开始磁过滤真空弧及沉积DLC膜研究，正在完善工业化技术。如等离子体源沉积法、离子束源沉积法、孪生中频磁控溅射法、真空阴极电弧沉积法和脉冲高压放点等。不同的制备方法，DLC膜的成分、结构和性能不同。类金刚石碳膜(Diamond-likecarbonfilms，简称DLC膜)作为新型的硬质薄膜材料具有一系列优异的性能，如高硬度、高耐磨性、高热导率、高电阻率、良好的光学透明性、化学惰性等，可用于机械、电子、光学、热学、声学、医学等领域，具有良好的应用前景。我们开发了等离子体-离子束源增强沉积系统，并同过该系统中的磁过滤真空阴极弧和非平衡磁控溅射来进行DLC膜的开发。该项技术用于电子、装饰、宇航、机械和信息等领域，用于摩擦、光学功能等用途。目前在我国技术正处于发展和完善阶段，有巨大市场潜力。

利用非平衡磁控溅射技术在316L不锈钢基底和316L不锈钢基底喷焊Ni60C涂层表面分别制备a-C、a-C∶H、a-C∶Cr3种类金刚石碳基(DLC)薄膜,对比分析了不同防护体系在5％H2SO4(质量分数)溶液中的耐磨蚀性能.结果表明:较单层DLC薄膜,Ni60C/DLC复合体系膜-基结合强度大幅提高,腐蚀磨损性能明显改善,其摩擦系数在～×10-8～×10-8mm3/N·m之间.Ni60C涂层作为硬质支撑层提高了薄膜的承载能力,且有效了腐蚀摩擦过程中碳基(DLC)薄膜的石墨化进程,提高了Ni60C/DLC复合体系耐磨蚀性能.上海英屹涂层技术有限公司引进美国PE-CVD设备技术制备的类金刚石DLC膜层沉积速率快膜厚可达60um膜层硬度高膜层摩擦系数低小于结合力好耐腐蚀性能好优异的耐磨性膜层具有自润滑性的优点。可以解决PVD涂层镀不到的工件内孔的问题。公司涂层已经应用于航空机械模具电子医疗汽车发动机部件等领域。锌镍合金电镀,特氟龙涂层,DLC涂层的性能区别？

类金刚石膜DLC因其具有抗磨性、化学惰性、沉积温度低、膜面光滑，可以将其作为一些电子产品的保护膜。如喷墨打印机墨盒加热层上、磁存储器的表面、录音机磁头极尖加一层类金刚石膜DLC保护层、不仅能有效的减少机械损伤，又不影响数据存储。类金刚石膜具有电阻率高、绝缘性强、化学惰性高和低电子亲和力等性能，且易在较大的基体上成膜。人们将类金刚石膜用作光刻电路板的掩膜，不仅可以避免操作过程中的机械损伤，还可以在去除薄膜表面的污染物允许用较激烈的机械或化学腐蚀方法，且同时不会破坏薄膜的表面，所以类金刚石膜有望代替SO2成为下一代集成电路的介质材料。近年来，类金刚石膜在微电子领域的应用，逐渐成为热点。采用类金刚石膜和碳膜交替出现的多层膜结构构造成的多量子阱结构，具有共振隧道效应的和独特的电特性，在微电子领域有着潜在的应用前景。类金刚石膜具有良好的表面平面光滑度，电子发射均匀性好，并且其具有负的电子亲和势，有效功函数相对较低的和较宽的禁带宽度，即使在较低的外电场作用下，也可产生较大的发生电流，这个性能在平板显示器中有着特殊的使用价值。不同过渡层对DLC薄膜力学性能和摩擦学性能的影响。松江电镀DLC工艺

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类金刚石（英文：Diamond-likeCarbon缩写DLC）是一种非晶碳，这种材料表现出很多与金刚石相类似的性质，DLC常常作为涂层材料使用。类金刚石的微观结构为了弄清楚类金刚石的概念，我们首先研究一下碳元素。碳元素存在于自然界当中，我们平时看到的钻石、石墨、富勒烯、碳纳米管等等都是碳元素形成的。当碳原子以sp3键的杂化轨道行程共价键的时候，就会形成金刚石。当碳原子以sp2键的杂化轨道行程共价键的时候，就会形成石墨。当以碳原子sp2、sp3键混合杂化的时候，形成的就是类金刚石了。类金刚石常常是以薄膜形式使用的，类金刚石薄膜具有高硬度.高电阻率.良好光学性能等，同时又具有自身独特摩擦学特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之间的不同结合方式，从而使其终产生不同的物质：金刚石（diamond）—碳碳以sp3键的形式结合；石墨（graphite）—碳碳以sp2键的形式结合；而如同绪论里所述类金刚石（DLC）—碳碳则是以sp3和sp2键的形式结合，生成的无定形碳的一种亚稳定形态，它没有严格的定义，可以包括很宽性质范围的非晶碳，因此兼具了金刚石和石墨的优良特性；所以由类金刚石而来的DLC膜同样是一种亚稳态长程无序的非晶材料，碳原子间的键合方式是共价键。青浦金属DLC技术