离子束溅射法DLC膜的制备及其性能表征采用离子束溅射方法，较低温度下在Ti6A14V合金基底上沉积了DLC薄膜，重点考察了直流叠加脉冲共生偏压大小对薄膜形貌、结构和摩擦学性能的影响。制备薄膜为菲晶碳膜，薄膜表面粗糙度随施加迭加偏压增大有先减小后增大趋势，而膜中sp3含量变化趋势则与之相反。在选定的实验条件下，-100V偏压时所制备的薄膜在空气环境及Hank’s溶液润滑下都具有比较优异的摩擦学性能。上海英屹涂层技术有限公司引进美国PE-CVD设备技术制备的类金刚石DLC膜层沉积速率快膜厚可达60um膜层硬度高膜层摩擦系数低小于结合力好耐腐蚀性能好优异的耐磨性膜层具有自润滑性的优点。可以解决PVD涂层镀不到的工件内孔的问题。公司涂层已经应用于航空机械模具电子医疗汽车发动机部件等领域。不同工艺下的DCL薄膜形貌不一样。宝山区工具DLC涂层厂

碳是类金刚石膜的主要成分。碳元素有3种同素异形体，即金刚石、石墨和各种无定形碳。碳原子按组成键的不同存在3种不同形态，即sp1、sp2和sp3。类金刚石膜（DLC）是一种碳原子之间以共价键键合的亚稳态的非晶体材料，其共价键主要含有sp2和sp32种杂化方式，同时在含氢的类金刚石膜DLC中还存在一些C-H键。由于碳源和制备方法的不同，可将类金刚石膜分为含氢和不含氢的两大类，因此，DLC也被分为非晶体碳膜和非晶体含氢碳膜。简单介绍一下sp1，sp2，sp3杂化。sp1杂化：处于基态的碳原子（电子排布式为：1s22s22p2）的一个2s电子激发至一个空的2p轨道上，使原子进入激发态（电子排布式为：1s22s12p3）。然后，一个2s轨道再和上述填充了一个电子的2p轨道进行sp杂化，形成两个sp杂化轨道。剩余2个p轨道，上面各有1个单电子。sp2杂化：处于基态的碳原子（电子排布式为：1s22s22p2）的一个2s电子激发至一个空的2p轨道上，使原子进入激发态（电子排布式为：1s22s12p3）。然后，一个2s轨道再和上述两个各填充了一个电子的2p轨道进行sp2杂化，形成三个sp2杂化轨道。剩余一个p轨道，上面有1个单电子。sp3杂化：处于基态的碳原子。松江区不锈钢DLC多少钱不锈钢表面沉积DLC膜的结构和性能。

在DLC薄膜应用的过程中，选择合适种类的DLC薄膜显得尤为重要。因此，DLC薄膜的分类以及分类标准的制定，直接影响了其在众多领域的应用。而传统的DLC薄膜分类方法通常需要根据DLC薄膜的微结构定量分析来完成。然而，这一方法需要基于大型同步辐射光源的X射线近边吸收精细结构谱（NEXAFS）分析碳元素的成分和状态；需要大型静电加速器的卢瑟福背散射弹性反冲（RBS/ERDA）或者中子源等分析氢元素含量，执行起来非常困难。因此，一般实验条件难以实现对DLC的准确分类，从而导致DLC在应用领域难以实现精细调控和定量研发。

类金刚石薄膜又称山膜。碳的一种亚稳态，组成主要是碳，也含有氢，其量随工艺条件而异，多时可达20%。类金刚石具有很高的硬度、高导热性、高绝缘性、良好的化学稳定性、从红外到紫外的高光学透过率等。这与金刚石相似，但其性能数值均低于金刚石膜。类金刚石膜已开始用作耐磨涂层。类金刚石碳（DLC）是非晶结构，碳原子主要以sp3和sp2杂化键结合。含氢DLC又称为α-C:H，其中氢含量在20%到50%之间。无氢类金刚石膜包括无氢非晶碳（α-C）和四面体非晶碳（ta-C）膜。α-C膜含有一些sp3键；ta-C膜中以sp3键为主（sp3>70%）。结构类金刚石薄膜通常又被人们称为DLC薄膜，是英文词汇DiamondLikeCarbon的简称，它是一类性质近似于金刚石，具有高硬度.高电阻率.良好光学性能等，同时又具有自身独特摩擦学特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之间的不同结合方式。负偏压对DLC薄膜结构和摩擦学性能的影响。

类金刚石薄膜的制备方法根据制备DLC薄膜碳源的不同，可将DLC薄膜的制备方法分为固体靶材为碳源的物相沉积法和含碳气体为碳源的化学气相沉积法。其中DLC薄膜的制备方法和性能也随着相应沉积技术的发展获得改进和提升。传统的气相沉积技术制备薄膜的能量来自于热源。为制备性能更为优异，功能应用多样化的新型特殊薄膜，传统的镀膜技术无法满足实际的需求。为使薄膜达到更优异的性能，逐渐地把各种气体放电技术引入到薄膜材料制备的过程中，进而发展形成了离子镀膜技术。离子镀膜技术能很大程度上增加膜层粒子的离化率，提高膜层粒子的整体能量，终高效地进行薄膜的制备。相应的，对于制备DLC薄膜的两种主要方法也进行了一定程度的补充优化。DLC涂层技术是一种功能性较强的表面涂覆处理技术。江西电镀DLC

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采用高功率脉冲磁控溅射技术制备DLC膜层,研究了偏压的变化对膜层结构及主要力学性能的影响.利用扫描电镜、原子力显微镜、拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪、纳米压入仪、划痕仪和磨擦磨损试验仪分析检测了DLC膜结构与性能.结果表明:偏压的提高,有利于改善DLC膜的表面光洁度及致密性,DLC膜表面均方根粗糙度Rq由不施加偏压时的9nm降低至偏压为-350V的7nm;致密性的提高使沉积速率略有下降,膜层厚度减小.偏压的增加,DLC膜内部sp3含量先增加后减小趋势,在偏压为-250V时,DLC膜中sp3含量比较高.偏压的增大,DLC膜的硬度、杨氏模量和摩擦磨损等主要力学性能均呈先增大后减小的趋势,并在偏压为-250V时达到比较高值,与微观结构变化趋势相吻合.。宝山区工具DLC涂层厂