电镀：

到这一步，晶圆基本上就完成了，现在要在晶圆上镀一层硫酸铜，铜离子会从正极走向负极。

抛光：

然后将Wafer进行打磨，到这一步晶圆就真正的完成了。

切割：

对晶圆进行切割，值得一提的是晶圆十分易碎，因此对切割的工艺要求也是非常高的。

测试：

测试分为三大类：功能测试、性能测试、抗老化测试。大致测试模式如下:接触测试、功耗测试、输入漏电测试、输出电平测试、动态参数测试、模拟信号参数测试等等。全部测试都通过的，就是正片；部分测试未通过，但正常使用无碍，这是白片；未开始测试，就发现晶圆具有瑕疵的，这是黑片。

精确地定位到三维（或二维）空间上的某一点进行作业。浙江官方晶圆运送机械吸臂哪个牌子好

晶圆运送机械吸臂广泛应用于半导体制造过程中的各个环节，如薄膜沉积、光刻、蚀刻、清洗、检测等。具体应用举例如下：

薄膜沉积：在薄膜沉积设备中，晶圆运送机械吸臂负责将晶圆从装载室传送至沉积室，以及在沉积完成后将晶圆送回装载室。

光刻：在光刻设备中，吸臂需将晶圆精确传送至光刻机工作台，确保晶圆在曝光过程中的稳定性和精度。

蚀刻：在蚀刻设备中，晶圆运送机械吸臂需将晶圆传送至蚀刻室，并在蚀刻完成后将其送回清洗设备。

清洗和干燥：在清洗和干燥设备中，吸臂负责将晶圆传送至清洗槽，以及在清洗和干燥完成后将其送回下一工艺环节。

检测：在检测设备中，晶圆运送机械吸臂需将晶圆传送至检测台，确保检测过程中的稳定性和准确性。 肇庆直销晶圆运送机械吸臂怎么联系而回转运动产生的误差是放大时的尺寸误差，当转角位置一定时，手臂伸出越长，其误差越大；

    区熔法分为两种：水平区熔法和立式悬浮区熔法。前者主要用于锗、GaAs等材料的提纯和单晶生长；后者主要用于硅。为什么有横着和竖着长的不同捏？这是由于硅的熔点高，化学性能活泼，容易受到异物的玷污，所以难以找到适合的器皿来盛方，自然水平区熔法不能用在硅的生长上啦。区熔法与直拉法比较大的不同之处在于：区熔法一般不使用坩锅，引入的杂质更少，生长的材料杂质含量也就更少。总而言之，单晶硅棒是圆柱形的，使用这种方法得到的单晶硅圆片自然也是圆形的了。就是下图这个样的——知道是两头的尖尖是如何造成的吗？Bingo，图左的尖尖是籽晶，图右的尖尖是晶棒长到***，从熔融态里出来后，由于复杂的流体力学原理，以及熔融态的硅迅速凝固而导致的。

输送半导体晶圆的机械手通常具有两个以上的自由度。这种机械手典型地由两个连杆和手部构成。在本说明书中，将两个连杆称作上臂连杆和前臂连杆。典型地，上臂连杆的一端连结于电机的输出轴，上臂连杆的另一端连结于前臂连杆的一端。而且，前臂连杆的另一端连结于手部。上臂连杆和前臂连杆经由关节而连结。前臂连杆和手部也经由关节而连结。在各个关节处安装有轴承，以便使连杆顺畅地旋转。在输送半导体晶圆的机械手中，为了不污染传送室内而屏蔽（shield）安装于关节的轴承。与刚性机械臂相比较，柔性机械臂具有结构轻、载重/自重比高等特性。

本发明涉及一种半导体制造技术，尤其是一种用于晶圆搬运的机械手。

背景技术：

在半导体加工设备中，经常需要将晶圆在各个工位之间进行传送，在传送的过程中，传送精度越高，设备工艺一致性就越好，速度越快，单台设备的产能就越大。随着半导体工艺的发展，设备处理的工艺越来越复杂，对设备自动化程度、柔性化程度要求也越来越高，这就需要一种定位精度高，速度快的多自由度的机械手。

技术实现要素：

本发明针对现有技术中的不足，提供了一种晶圆搬运机械手，本发明的机械手在传送过程中晶片中心始终保证直线运动，且角度不会发生改变。从而提高机械手整体刚度和承重能力，同时提高了重复定位精度。本发明结构合理性能稳定，维护方便，多功能集一身，可满足多种工艺设备要求，适用于各种半导体设备。

晶圆运送机械吸臂采用先进的吸附技术，可稳定地吸附晶圆。云浮晶圆运送机械吸臂厂家报价

该机械臂由用户的头脑完全控制，灵巧到足以拿起一个玻璃杯，在没有其他人帮助的情况下喝掉一杯饮料。浙江官方晶圆运送机械吸臂哪个牌子好

晶圆运送机械吸臂是半导体制造过程中不可或缺的重要设备之一。它主要用于将晶圆从一个工序转移到另一个工序，确保晶圆在整个制造过程中的安全和稳定运输。

晶圆运送机械吸臂具有高度的自动化和精确性。它采用先进的自动控制系统，能够准确地定位和抓取晶圆，避免了人为操作的误差和不稳定性。通过精确的控制，晶圆可以在不同工序之间快速而安全地转移，提高了生产效率和产品质量。其次，晶圆运送机械吸臂具有高度的可靠性和稳定性。它采用了质量高的材料和先进的制造工艺，具有良好的耐磨性和抗腐蚀性。同时，晶圆运送机械吸臂经过严格的测试和检验，确保其在长时间运行中不会出现故障或损坏，保证了生产线的连续性和稳定性。 浙江官方晶圆运送机械吸臂哪个牌子好

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