在第三代半导体材料加工领域，江苏优普纳科技有限公司的碳化硅晶圆减薄砂轮凭借其高精度加工能力脱颖而出。采用专研的强度高微晶增韧陶瓷结合剂，砂轮在磨削过程中展现出优越的稳定性，能够有效减少振动，确保加工后的晶圆表面粗糙度极低。无论是6吋还是8吋的SiC线割片，使用优普纳砂轮加工后，表面粗糙度Ra值均能达到纳米级别，总厚度变化TTV控制在微米级别以内。这种高精度的加工能力，不只满足了半导体制造的需求，也为优普纳在国产碳化硅减薄砂轮市场奠定了坚实的基础，助力其品牌形象进一步巩固。在实际应用中，优普纳砂轮展现出的高精度、低损耗和强适配性，使其成为半导体加工领域不可或缺的高效工具。进口替代砂轮规格

随着碳化硅功率器件在新能源汽车中的普及，优普纳砂轮已成功应用于多家头部车企的芯片供应链。例如，某800V高压平台电驱模块的SiC晶圆减薄中，优普纳30000#砂轮精磨后Ra≤3nm，TTV≤2μm，芯片导通损耗降低15%。客户反馈显示，国产砂轮在加工一致性与成本控制上远超进口竞品，单条产线年产能提升30%，为车规级芯片国产化奠定基础。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮，品质有保证，欢迎您的随时致电咨询，为您提供满意的产品以及方案。SiC砂轮实验数据优普纳砂轮于东京精密-HRG200X减薄机上，对8吋SiC线割片进行粗磨，磨耗比35%，Ra≤30nm，TTV≤3μm。

在半导体制造等精密加工领域，精磨减薄砂轮发挥着举足轻重的作用。其工作原理基于磨料的磨削作用，通过砂轮高速旋转，磨粒与工件表面产生强烈摩擦，从而实现材料的去除与减薄。以江苏优普纳科技有限公司的精磨减薄砂轮为例，在碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等第三代半导体材料的加工中，砂轮中的磨粒凭借自身极高的硬度，切入坚硬且脆性大的半导体材料表面。磨粒的粒度分布经过精心设计，从粗粒度用于高效去除大量材料，到细粒度实现精密的表面修整，整个过程如同工匠精心雕琢艺术品。在磨削过程中，结合剂的作用不可或缺，它牢牢把持磨粒，使其在合适的时机发挥磨削功能，同时又能在磨粒磨损到一定程度时，适时让磨粒脱落，新的锋利磨粒得以露出，这一过程被称为砂轮的自锐性。优普纳的砂轮在结合剂的研发上投入大量精力，通过优化结合剂配方，实现了磨粒把持力与自锐性的完美平衡，确保在长时间的磨削作业中，砂轮始终保持稳定且高效的磨削性能，为半导体晶圆的高质量减薄加工奠定坚实基础。

江苏优普纳碳化硅减薄砂轮凭借超细金刚石磨粒与高自锐性设计，在第三代半导体晶圆加工中实现低损伤、低粗糙度的行业突破。以DISCO-DFG8640设备为例，精磨8吋SiC线割片时，砂轮磨耗比达200%，表面粗糙度Ra≤3nm，TTV精度≤2μm，完全满足5G芯片、功率器件对晶圆平整度的严苛要求。对比进口砂轮，优普纳产品在相同加工条件下可减少磨削热损伤30%，明显提升晶圆良率，尤其适用于新能源汽车电驱模块等高附加值领域。欢迎您的随时致电咨询。通过优化砂轮的基体设计，优普纳产品有效减少加工过程中的振动，提升加工精度，增强冷却效果 延长使用寿命。

江苏优普纳科技有限公司的碳化硅晶圆减薄砂轮，以其高精度加工能力成为第三代半导体材料加工的理想选择。其专研的强度高微晶增韧陶瓷结合剂和多孔显微组织调控技术，赋予了砂轮优越的稳定性，能够有效减少振动，确保加工后的晶圆表面粗糙度极低。在东京精密-HRG200X减薄机的实际应用中，6吋和8吋SiC线割片的加工结果显示，表面粗糙度Ra值和总厚度变化TTV均达到了行业先进水平。这种高精度的加工能力，不只满足了半导体制造的需求，也为优普纳在国产碳化硅减薄砂轮市场奠定了坚实的基础，助力其品牌形象进一步巩固。优普纳碳化硅晶圆减薄砂轮在性能和质量上不断突破，为国产半导体加工设备及耗材的自主可控发展贡献力量。晶圆减薄砂轮标准

在8吋SiC线割片的精磨加工中，优普纳砂轮于DISCO-DFG8640减薄机上实现磨耗比200%，Ra≤3nm，TTV≤2μm。进口替代砂轮规格

优普纳的多孔砂轮显微组织调控技术，通过优化砂轮内部孔隙率与分布，大幅提升冷却液渗透效率，解决传统砂轮因散热不足导致的晶圆微裂纹问题。在东京精密HRG200X设备上，6吋SiC晶圆粗磨时，砂轮磨耗比只15%，且加工过程中温升降低40%，表面粗糙度稳定在Ra≤30nm。该技术不只延长砂轮寿命20%，还可适配高转速磨床，助力客户实现高效、低成本的批量生产。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮，品质有保证，欢迎您的随时致电咨询，为您提供满意的产品以及方案。进口替代砂轮规格