场效应管的分类多种多样，其中包括结型场效应管（JFET）和金属-氧化物-半导体场效应管（MOSFET）。JFET结构相对简单，但性能方面略逊于MOSFET。MOSFET则凭借其优越的性能，成为了现代电子电路中的主流。例如，在计算机主板的电源电路中，MOSFET被使用，以满足高效能和微型化的需求。此外，增强型和耗尽型MOSFET又各自有着不同的特点和应用场景，进一步丰富了场效应管的应用范围。场效应管在模拟电路和数字电路中都发挥着重要作用。在模拟电路中，它常用于放大器、滤波器等电路中。例如，在音频前置放大器中，场效应管可以提供高增益和低失真的放大效果。而在数字电路中，场效应管作为开关元件，被用于逻辑门、存储器等电路。比如，在计算机的CPU中，大量的MOSFET开关组成了复杂的逻辑电路，实现了高速的数据处理和运算。由于栅极电流几乎为零，场效应管在静态时的功耗极低，有助于降低整个电子系统的能耗，提高能源利用效率。浙江绝缘栅型场效应管原理

   MOS场效应半导体三极管双极性三极管是电流控制器件，其输入电阻不够高，在许多场合下不能满足人们的要求，经过不断的探索和实践，人们研制出一种仍具有PN结，但工作机理全然不同的新型半导体器件--场效应管(FET)。

场效应三极管用电场效应来控制电流，故此命名，它的特点是输入阻抗高、噪音低、热稳定性好且抗幅射能力强，在工艺上便于集成，因此得到广的应用根据结构和原理的不同，场效应三极管可分为以下两大类。
①结型场效应三极管(JFET)②绝缘栅型场效应三极管(MOS管)结型场效应管（JFET）以N沟道结型场效应管为例，以一块N型(多子为电子)半导体作基片，在它的两侧各光刻出一块区域，进行高浓度P+扩散(三价的硼)，在两侧形成两个PN结。两个P+区的引出线连在一起，作为一个电极，称之为栅极G。在N型半导体的两端引出两个电极，分别叫源极S和漏极D。3个电极G、S、D的作用，可以近似地认为分别相当于半导体三极管的基极B、射极E和集电极C。
两个PN结之间的区域，称为导电沟道，当在漏极和源极间加上电压，这个区域就是载流子流过的渠道，也就是电流的通道。由于这里的导电通道是N型半导体，所以这种管子叫N沟道结型场效应管. 江苏大功率场效应管生产工业自动化设备中，场效应管可控制电机的转速和转向，实现精确的工业生产过程控制，提高生产效率和质量。

场效应管（FieldEffectTransistor，简称FET）是一种利用场效应原理工作的半导体器件。它具有输入阻抗高、噪声低、动态范围大、功率小、易于集成等特点。在电路中，场效应管通常用字母“Q”表示。场效应管一般具有3个极，即栅极（G）、源极（S）和漏极（D）。它的工作原理是当栅极接的负偏压增大时，沟道减少，漏极电流减小；当栅极接的负偏压减小时，耗尽层减小，沟道增大，漏极电流增大。漏极电流受栅极电压的控制，因此场效应管是电压控制器件，即通过输入电压的变化来控制输出电流的大小，从而达到放大等目的。场效应管在电路中被广泛应用于放大、调制、阻抗变换、恒流源、可变电阻等场合。此外，它还有许多其他应用，如开关电源、逆变器、电子镇流器等。场效应管在电路设计和电子设备中扮演着非常重要的角色。

(2)．判定电极将万用表拨于R×100档，首先确定栅极。若某脚与其它脚的电阻都是无穷大，证明此脚就是栅极G。交换表笔重测量，S-D之间的电阻值应为几百欧至几千欧，其中阻值较小的那一次，黑表笔接的为D极，红表笔接的是S极。
(3)．检查放大能力(跨导)将G极悬空，黑表笔接D极，红表笔接S极，然后用手指触摸G极，表针应有较大的偏转。双栅MOS场效应管有两个栅极G1、G2。为区分之，可用手分别触摸G1、G2极，其中表针向左侧偏转幅度较大的为G2极。目前有的MOSFET管在G-S极间增加了保护二极管，平时就不需要把各管脚短路了。
MOS场效应晶体管在使用时应注意分类，不能随意互换。MOS场效应晶体管由于输入阻抗高(包括MOS集成电路)极易被静电击穿，使用时应注意以下规则：1.MOS器件出厂时通常装在黑色的导电泡沫塑料袋中，切勿自行随便拿个塑料袋装。也可用细铜线把各个引脚连接在一起，或用锡纸包装。2.取出的MOS器件不能在塑料板上滑动，应用金属盘来盛放待用器件。3.焊接用的电烙铁必须良好接地。。 在计算机的 CPU 中，场效应管是不可或缺的组成部分，其高性能特性保障了 CPU 的高速运算和低功耗运行。

场效应管（FieldEffectTransistor，简称FET）是一种基于电场效应的半导体器件，用于放大和电流。与三极管相比，场效应管具有更高的输入阻抗、更低的功耗和更好的高频特性。场效应管有三种常见的类型：MOSFET（金属氧化物半导体场效应管）、JFET（结型场效应管）和IGBT（绝缘栅双极型晶体管）。其中，MOSFET是常见和广泛应用的一种。MOSFET是由金属氧化物半导体结构组成的。它包括源极（Source）、栅极（Gate）和漏极三个电极。栅极与源极之间通过氧化层隔离，形成了一个电容结构。栅极与源极之间的电压可以漏极电流的大小，从而实现对电流的放大和。场效应管的种类繁多，包括结型场效应管和绝缘栅型场效应管等，每种类型都有其独特的性能特点和应用领域。南京P沟耗尽型场效应管接线图

噪声系数低的场效应管工作时产生噪声小，减少对信号干扰。浙江绝缘栅型场效应管原理

它有N沟道和P沟道两类，而每一类又分增强型和耗尽型两种。所谓增强型就是UGS=0时，漏源之间没有导电沟道，即使在漏源之间加上一定范围内的电压，也没有漏极电流；
反之，在UGS=0时，漏源之间存在有导电沟道的称为耗尽型。N沟道增强型MOS管是一块杂质浓度较低的P型硅片作为衬底B，在其中扩散两个N+区作为电极，分别称为源极S和漏极D。
半导体表面覆盖一层很薄的二氧化硅(SiO2)绝缘层，在漏源极间的绝缘层上再制造一层金属铝，称为栅极G。这就构成了一个N沟道增强型MOS管。显然它的栅极与其它电极间是绝缘的。沟道增强型MOS管结构图MOS管的源极和衬底通常是接在一起的(大多数管子在出厂前已连接好)，N沟道增强型MOS管在UGS＜UT(开启电压)时，导电沟道不能形成，ID=0，这时管子处于截止状态。 浙江绝缘栅型场效应管原理