晶间腐蚀是什么?以晶间腐蚀为起源,在应力和介质的共同作用下,可使不锈钢、铝合金等诱发晶间应力腐蚀,所以晶间腐蚀有时是应力腐蚀的先导,在通常腐蚀条件下,钝化合金组织中的晶界活性不大,但当它具有晶间腐蚀的敏感性时,晶间活性很大,即晶格粒与晶界之间存在着一定的电位差,这主要是合金在受热不当时,组织发生改变而引起的。所以晶间腐蚀是一种由组织电化学不均匀性引起的局部腐蚀蚀。此外晶界存在杂质时,在一定介质也也会引起晶间腐蚀。电解抛光腐蚀,可控制样品的抛光/腐蚀面积(样品罩开孔直径15mm,20mm,30mm)。江苏电解腐蚀制造厂商
晶间腐蚀试验 (intergranular corrosion test),在特定介质条件下检验金属材料晶间腐蚀敏感性的加速金属腐蚀试验方法,目的是为了了解材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。其原理是采用可使金属的腐蚀电位处在恒电位阳极极化曲线特定区间的各种试验溶液,然后利用金属的晶粒和晶界在该电位区间腐蚀电流的明显的差异加速显示晶间腐蚀,不锈钢、铝合金等的晶间腐蚀试验方法在许多国家均已标准化。各标准对试验细节均有详细规定。江苏电解腐蚀制造厂商低倍组织热酸蚀腐蚀,封闭的酸蚀槽确保腐蚀溶液的挥发对环境的污染和人体的伤害。
晶间腐蚀,贫化理论:对于奥氏体不锈钢等合金,在一定条件下,晶界会析出第二相,导致晶界附近某种成分出现贫乏化。以奥氏体不锈钢为例,具体过程如下:碳化物析出:当温度升高时,碳在不锈钢晶粒内部的扩散速度大于铬的扩散速度。室温时碳在奥氏体中的溶解度很小,而一般奥氏体不锈钢中的含碳量均超过此值,多余的碳会不断地向奥氏体晶粒边界扩散,并和铬化合,在晶间形成碳化铬的化合物,如等。贫铬区形成:铬沿晶界扩散的速度比在晶粒内扩散速度快,但由于碳化铬形成速度较快,内部的铬来不及向晶界扩散,所以在晶间所形成的碳化铬所需的铬主要来自晶界附近,结果使晶界附近的含铬量大为减少。当晶界的铬的质量分数低到小于时,就形成 “贫铬区”。
电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线,根据它可以决定合适的电解抛光规范。电解抛光腐蚀,用户的计算机可直接读取所有历史数据,可对所有数据进行分析、存档、打印处理。
晶间腐蚀,评估材料耐用性:在材料研发和生产过程中,帮助工程师评估材料抵抗晶间腐蚀的能力,预测材料在实际使用环境中的耐用性和使用寿命。对于一些在恶劣环境下使用的关键材料,如在高温、高湿度或强腐蚀性介质中工作的金属材料,通过晶间腐蚀仪的测试,可以提前了解材料的耐腐蚀性能,确保材料在服役期间不会因晶间腐蚀而失效,晶间腐蚀仪是于评价材料晶间腐蚀性能的仪器。,晶间腐蚀是一种局部腐蚀,主要发生在金属材料的晶粒间界区,沿着晶界发展。低倍加热腐蚀消 除了低倍组织制样过程的不确定性,提高低倍组织制样的重复性。浙江金属抛光腐蚀厂家批发
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电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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混合酸水溶液: 磷酸 90亳升 硝酸 8亳升 水 2亳升 |
使用冰溶液。 |
适用于抛光和浸蚀Fe—A1合金(A1含量至16%) |
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硝酸水溶液: 硝酸 50亳升 水 50亳升 |
室温,使用电压1.5伏,2分钟使用通风橱 |
显示奥氏体或铁素体不锈钢的晶界。 |
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盐酸酒精溶液: 盐酸 10亳升 无水酒精 90亳升 |
10~30秒 电压6伏 |
显示σ铁和铬钢及CrNi钢的一组织。 |
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硫酸水溶液: 硫酸 5亳升 水 95亳升 |
室温,使用电压, 电流密度0.1~0.5安/厘米2,浸蚀时间5~15秒。 |
适用于Fe-Cr-Ni合金。 |