金相磨抛机抛光时注意事项：抛光时将试样的磨面应均匀地、平正地压在旋转的抛光盘上。压力不宜过大，并从边缘到中心不断地作径向往复移动。抛光过程中要不断喷洒适量的抛光液。若抛光布上地光液太多，会使钢中夹杂物及铸铁中的石墨脱落，抛光面质量不佳；若抛光液太少，将使抛光面变得晦暗而有黑斑。后期应使试样在抛光盘上各方向转动，以防止钢中夹杂物产生拖尾现象。 尽量减少抛光面表层金属变形的可能性，整个光时间不易过长，磨痕全部消除，出现镜面后，抛光即可停止。试样用水冲洗或用酒精洗干净后就可转入浸湿或直接在显微镜下观察。金相磨抛机锥度磨盘系统，更换清理更容易。南通全自动双盘金相磨抛机操作简单

金相磨抛机常配用耗材：金相砂纸：240、600、1000、1500#(其他规格400、2000#等）适用于常规金属类样件的研磨。金刚石磨盘：240、600、1000、1500#(其他规格400、2000#等）适用于超硬材料样件的研磨。金刚石砂纸：粒度：45-0.3um(适合超硬材料的精密研磨及粗抛，如陶瓷、晶体等材料）。抛光布料：呢料、丝绒、羊毛等（对特殊材料也需要采用粗抛、精抛等多道抛光工艺）。金刚石抛光剂：粒度：40-0.5um（抛光辅料，适合各类材料的抛光）。金刚石悬浮液：粒度：40-0.5um（比较常用的抛光辅料，更适合自动磨抛机使用）。氧化铝抛光粉：粒度：30-0.5um （适合碳钢类样件的抛光）。磁性磨盘：更便于更换砂纸及抛光布料。 南通全自动双盘金相磨抛机操作简单金相磨抛机（单盘/双盘）三档定速：300、500、800r/min，可自定义。

金相磨抛机磨抛：取下塑料挡水圈及压圈，将背胶的抛光织物粘贴在磨抛盘上。如果采用不带背胶的抛光织物，则应平铺于磨抛盘上。注意在粘贴或平铺抛光织物时，要保证平整和粘贴牢固。将压圈紧压在磨抛盘上，从而固定抛光织物。注意压圈一定要压紧压实，尤其是采用不带背胶的抛光织物进行抛光时，更应注意。在抛光织物表面滴上适量的抛光液或涂上适量的抛光膏。使用抛光膏要注意加少量的水才能进行抛光。放回挡水圈，并将旋钮开关旋转至开启位置，此时电源指示灯亮起，磨拋盘开始旋转，

金相磨抛机：工具金相试样磨抛机和金相试样磨抛机属同一类别的测量仪器 工具金相试样磨抛机的外形，基本结构包括兼作光学触头的测角金相试样磨抛机，沿X 、Y 两个方向移动的工作台和可倾式座。坐标读数的分度值为0.01-0.02mm， 金相试样磨抛机的外形和工具金相试样磨抛机相比。在功能上得多，在测量精度上高一个数量级。 不同工厂生产的测量金相试样磨抛机虽有差异，但基本结构是相同的。 轮廓检查仪、工具金相试样磨抛机和测里金相试样磨抛机的X 、Y 坐，标尺上有编码器，自动将测盆结果数字化。然后输入记录或处理装置。修如被测量对象的基准线或基准面不一定和X ，Y 坐标方向一致，测量后需要进行坐标变换，或者其它间接测量，测量后须按一定公式或步骤计算后方可求出所要测的参数等，都可利用接续于仪器的数据处理装置，从而实现精密测量高效率化。金相磨抛机底盘转动平稳，噪音低，支持快速转换盘系统。

在金相试样制备过程中，试样的磨、抛光是必不可少的工序，试样经过磨抛后，可获得光亮如镜的表面。此机器采用了变频器调速， 可使磨抛盘的转速在50-1000r/min之间，无极可调，通过更换金相砂纸和抛光织物可以完成试样的磨、抛工序，展现了它的应用性。壳体采用整体吸塑，外观新颖，具有转动平稳、噪声小、操作方便、工作效率高等特点，并自带冷却装置，可以在磨抛时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织。适用于工厂、大专院校、科研单位的金相试验室，是金相试栏麼抛光的设备。金相磨抛机更重要的是尽可能减少表层损伤，达到理想的磨抛效果。南通全自动双盘金相磨抛机操作简单

金相磨抛机可使磨出来的样品表面光滑平整。南通全自动双盘金相磨抛机操作简单

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