金相磨抛机维护：为了确保磨抛机有更长的使用寿命，强烈建议您进行日常维护和清洁。用柔软的湿布和普通家用洗涤剂清洁漆层表面和控制面板。不要使用干布擦拭，表面会产生划痕。油脂可以用乙醇或异丙醇去除。不要用苯或类似的溶剂。清理转换盘上的磨料及残渣避免腐蚀转换盘系统。防粘盘每次使用完成后应取下晾干。定期清理排水管道保持排水畅通。定期清理槽里的污物，不能使用坚硬物体，避免损坏水槽。清理水槽时应注意不能将水及污物罐如槽中心的孔内，会损坏转动装置。 金相磨抛机自带冷水装置。深圳双盘手动金相磨抛机厂家批发

金相制样制备方法：金相显微式样的制备包括取样、镶嵌等工序。取样式样的选取应根据研究的目的,取其具有代表性的部位。待确定好部位,就可以把式样截下,式样的尺寸通常采用直径12～15mm,高12～15mm的圆柱体或边长12～15mm的方形式样。取样方法可用手锯、锯床切割或锤击等方法。镶嵌如式样尺寸太小,直接用手来磨制困难时,可把式样镶嵌在低熔点合金或塑料中,以便于式样的磨制和抛光。磨制切好或镶好的式样在砂轮机上磨平,尖角要倒圆。一直磨到W10砂纸方可进行粗抛光和细抛光。深圳双盘手动金相磨抛机厂家批发金相磨抛机（全自动）的每个工序完成自动停机，方便更换抛光组织物。

金相磨抛机：抛光目的是消除细磨留下的磨痕，获得光亮无痕的镜面。方法有机械抛光、电解抛光、化学抛光和复合抛光等，常用的是机械抛光。（1）机械抛光是在抛光机上进行抛光，靠极细的抛光粉和磨面间产生的相对磨削和滚压作用来消除磨痕的，分为粗抛光和细抛光两种1）粗抛光粗抛光一般是在抛光盘上铺以细帆布，抛光液通常为Cr2O3、Al2O3等粒度为1-5μ的粉末制成水的悬浮液，一般一升水加入5-10克，手握样品在常用的抛光机上进行。边抛光边加抛光液，一般的钢铁材料粗抛光可获得光亮的表面。2）细抛光是在抛光盘上铺以丝绒，丝绸等，用更细的Al2O3、Fe2O3粉制成水的悬浮液，与粗抛光的方法相同。

金相磨抛机技术参数：工作盘 Φ200mm/Φ230mm/250mm，转速 100-1000r/min，三档定速 S1=300r/min S2=500r/min S3=800r/min 可自定义，旋转方向 顺时针或逆时针可调，电机功率/电源电压 550W / AC220V 50HZ (N+L1+PE)，水压 1-10bar/0.1-1Mp，进水管 Φ8mm长2m，排水管 内径Φ40，环境温度 5-40℃，尺寸 720x6855x320mm，重量 50Kg。装箱清单：金相磨抛机 1台，进水管（带接头） 1根，排水管 1根，电源线（国标插头） 1根，卡圈 2个，砂纸（320#、600#、800#、1000#各一张） 4张，植绒 1张，帆布 1张，操作手册 1套，合格证 1张 金相磨抛机外壳采用ABS外壳，在外观上更加美观大方，并提高了防腐、防锈性能且易清洁。

金相磨抛机：试样磨光的目的是要能得到一个平整的磨面，这种磨面上还留有极细的磨痕，这将在以后的抛光过程中消除。磨光工序又可分为粗磨和细磨两步。粗磨：手工对于软材料可用锉刀锉平，一般材料都用砂轮机磨平。操作时应利用砂轮侧面，以保证试样磨平。要注意接触压力不宜过大同时要不断用水冷却，防止温度升高造成内部的组织发生变化。倒角时防止细磨时划破砂纸。但对需要观察脱碳、渗碳等表面层情况的试样不能倒角，有时还要采用电镀敷盖来防止这些试样边缘倒角。粗磨完成后，凡不作表面层金相检验的棱边都应倒成小圆弧，以免在以后的工序过程中会将砂纸或抛光物拉裂。甚至还可能会被抛光物钩住而被抛飞出外，造成事故。金相磨抛机（全自动）采用LED灯照明，一次可制样1-6个。深圳双盘手动金相磨抛机厂家批发

金相磨抛机锥度磨盘系统，更换清理更容易。深圳双盘手动金相磨抛机厂家批发

金相磨抛机：一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉，接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱，其自由能也较高，所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹，见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体，各晶粒的取向不会一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一颗晶粒溶解的结果不一样，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就显示出亮度不一致的晶粒。深圳双盘手动金相磨抛机厂家批发

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