二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点：高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格：：0.02um、0.05um二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点：高抛光速率、高纯度，有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格：：0.02um、0.05um自动金相研磨抛光机 极化曲线。黑龙江数显台式金相电解抛光

镶嵌用样品夹一、用途样品夹用于固定样品，如薄片状、针状样品二、规格参数1、FCP1镶嵌用样品夹100片/盒塑料制，通过两个紧密接触的圆夹住薄样品，适用于镶嵌时，将薄样垂直立起观察剖面；2、FCP2镶嵌用样品夹100片/盒塑料制，Ω型，三杆支撑，适用于镶嵌时，将薄样垂直立起观察剖面；将薄样垂直立起观察剖面；2、FCP2镶嵌用样品夹100片/盒塑料制，Ω型，三杆支撑，适用于镶嵌时，将薄样垂直立起观察剖面；c将薄样垂直立起观察剖面；2、FCP2镶嵌用样品夹100片/盒塑料制，Ω型，三杆支撑，适用于镶嵌时，将薄样垂直立起观察剖面；c河北树脂金相样品镶嵌自动金相研磨机清理方便。

热镶嵌树脂一、介绍热镶嵌树脂一般是基于热固化树脂和功能性填充物的混合物，需要使用热镶嵌机经过加温加压冷却过程后完成镶嵌，一般热镶嵌树脂的加工温度从120-200摄氏度，主要是用于固定或者包埋对温度不敏感的样品材料，即200度不会导致样品的组织结构或者结晶形状或者物理性能发生变化的固体样品。树脂种类有酚醛树脂，丙烯酸树脂，环氧树脂，蜜胺树脂等热固化树脂，填充物种类有矿物粉，玻璃纤维粉，陶瓷粉，颜料指示剂，铜粉和石墨等。二、参数1、FHM1：常用型，黑色粉末，适用于普通制样，使用包装：500g/2kg/4kg/18kg；常用型，红色粉末，适用于普通制样，使用包装：500g/2kg/4kg/18kg；常用型，绿色粉末，适用于普通制样，使用包装：500g/2kg/4kg/18kg。2、FHM2：导电型，黑色，适用于导电样品如：用于电镜、电解抛光，包装：500g/2kg/4kg3、FHM3：保边型，黑色粉末，极低收缩，和样品结合紧密，硬度高，包装：500g/2kg/4kg4、FHM4：白色粉末，适用于普通镶嵌，包装：500g/2kg/4kg/18kg5、FHM5：透明型，适用于对部位、尺寸、层深等有要求的样品，包装：500g/2kg/4kg/18kg6、FHM6：可溶解型，透明，样品可从镶嵌样中无损取出，包装：500g/2kg/4kg/18kg

金相转换盘1、磁性盘其表面有磁性，能快速方便的吸附在常规托盘上，可无故障吸住所有带金属底盘的预磨盘和抛光布轮。2、防粘盘两面均为自粘性表面，适用于承载各种自粘式砂纸及抛光织物，几乎可以无限止地使用而不会留下任何粘胶痕迹。无需清洗、无需清洗剂，使得所有的研磨和抛光载体得以快速转换，操作简便。金相转换盘1、磁性盘其表面有磁性，能快速方便的吸附在常规托盘上，可无故障吸住所有带金属底盘的预磨盘和抛光布轮。2、防粘盘两面均为自粘性表面，适用于承载各种自粘式砂纸及抛光织物，几乎可以无限止地使用而不会留下任何粘胶痕迹。无需清洗、无需清洗剂，使得所有的研磨和抛光载体得以快速转换，操作简便。双盘磨光机 可存储25条方法数据。

抛光粉一、用途                                                                                                抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅等组份组成。不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。通常，氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光，氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光。                                    二、规格参数                                                                                                   1、金刚石抛光微分：粒度：0.25um, 0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 6um, 7um, 10um, 14um, 20um, 28um, 40um，供用户自己选用载体，进行研磨抛光；                                                                    2、氧化铝研磨抛光粉：粒度：0.05um,0.3um,0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 5um, 6um, 7um, 9um, 10um, 14um, 15um, 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                              3、碳化硅研磨抛光粉：粒度：0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3.5um, 7um, 10um, 14um, , 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                                                                  4、氧化铬抛光粉：粒度：0.5um,1um，用于研磨抛光；                                                                                              金相试样自动镶嵌机冷腐蚀。河南大型自动金相电解抛光

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样品电刻笔一、用途电刻笔适用于金属及玻璃、瓷器、大理石等非金属等材料上的雕刻。二、使用方法：1、接通电源，右手握住电刻笔；2、像拿笔一样的姿势，稍微倾斜一个角度（45度角），并将手搁在台面上，手指按住微动开关即可刻写，松开即停止刻写?？绦词辈灰餐卵?，比平常书写速度稍慢。3、电刻笔上部有一旋钮可调整刻写深度，通过多次反复刻写掌握它的性能，以满足您所需刻写材料的字体大小及深度要求。4、电刻笔出厂时配有硬质合金刻头，它能满足玻璃、金属、陶瓷以及其它较硬材料的刻写，然而对于工业化的边续刻写则需用**的金刚石刻头。5、刻头磨损后，电刻笔拧开螺钉装卸旋钮，重新换上刻头。黑龙江数显台式金相电解抛光