工信部于5月29日公布电子信息制造业运行情况。1—4月份，中国电子信息制造业生产稳步增长，出口恢复向好，效益持续改善，投资保持较快增长，行业整体增势明显。生产方面，1—4月份，规模以上电子信息制造业增加值同比增长，增速分别比同期工业、高技术制造业高。4月份，规模以上电子信息制造业增加值同比增长。图1电子信息制造业和工业增加值累计增速1—4月份，主要产品中，手机产量，同比增长，其中智能手机产量，同比增长；微型计算机设备产量，同比增长；集成电路产量1354亿块，同比增长。出口方面恢复向好。1—4月份，规模以上电子信息制造业出口的交货值同比增长，较一季度提高，比同期工业低。4月份，规模以上电子信息制造业出口的交货值同比增长。图2电子信息制造业和工业出口的交货值累计增速据海关统计，1—4月份，我国出口笔记本电脑4401万台，同比增长；出口手机，同比增长；出口集成电路887亿个，同比增长。效益持续改善。1—4月份，规模以上电子信息制造业实现营业收入，同比增长，较一季度回落；营业成本，同比增长；实现利润总额1442亿元，同比增长；营业收入利润率为，较一季度增加。4月份，规模以上电子信息制造业营业收入，同比增长；利润，同比增长。医疗电子设备的 SMT 贴片加工，关乎生命安全，质量把控必须严格。小型的SMT贴片加工组装厂

    N5的一些关键IP模块，如PAM4SerDes和HBM模块也仍在开发中。N6虽然缺乏N5在性能和功率上的提升，但与N7相比，体积缩小了18％(比N7+体积缩小8%），并且可以使用现有的N7设计规则和模块。但由于其用于M0路由的关键设计库仍在开发中，所以直到2020年一季度N6才会开始试产。台积电竞争对手三星4月底才宣布成功制造了定制6纳米工艺的芯片。台积电此时宣布更新其工艺路线图让有些分析师有点摸不着头脑。比如LinleyGroup的MikeDemler说，“我能想到的答案是他们希望客户不要着急地采用5nm，这样他们就可以提供更加节省成本的6nm。据推测，裸片缩小会抵消新掩模装置的成本。”台积电在N7+的“几个关键层”上采用了极紫外光刻技术（EUV）。N7+是台积电EUV技术工艺，将在2019年第三季度开始量产。N6使用一个附加的EUV层，而N5将增加更多层。设计师们应该看到，由于采用了EUV光刻技术，N7+工艺将节省大约10％的掩模，而N6和N5将节省更多。新的EUV光刻机支持稳定的280W光源，台积电希望年底能达到300W，到2020年更超过350W。光刻机正常运行时间也从去年的70％增加到现在的85％，明年应该会达到90％。EUV“已超出了我们的需求，”Mii说。并非每个人都被这些附加的工艺节点所吸引。IBS。安徽有优势的SMT贴片加工口碑好SMT 贴片加工中的视觉检测系统，火眼金睛，捕捉元件贴装瑕疵。

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    InternationalBusinessStrategies)总裁HandelJones就建议设计人员跳过台积电和三星的临时节点。他说，“在一些多选领域，客户应该专注于5nm和3nm，忽略其他一些选择诸如6nm和4nm”。Jones还提醒设计人员要等到晶圆厂在一个新节点上产能达到10万片时才采用它，以避免因早期漏洞而产生的开发和试用新IP模块的成本（如下所示）。迈向3纳米、**封装技术和特殊模块随着工艺节点的发展，预计成本不断上升。（来源：InternationalBusinessStrategies，Inc。）台积电的报告展示了其向3nm和2nm节点发展的道路，但没有提到他们需要新的晶体管。Mii表示，硫化物和硒化物2D材料具有良好的移动性，因为其沟道厚度低于1纳米，可以提供比7纳米栅长硅片更高的驱动电流。随着芯片尺寸的逐步缩小，台积电晶圆厂已开发出一种新的低k薄膜，可以很好的克服耗尽效应。另外，使用新的反应离子蚀刻工艺还实现了在30nm工艺节点制造常规金属线。在更多主流节点中，台积电表示其22ULL节点将支持电池供电芯片的。HDMI模块仍在开发中，USB、MIPI和LPDDR模块被用于升级其28nm工艺节点，目前仍处于试用期。在封装方面，台积电提供了其***封装技术系统级整合芯片（SoIC）和多晶圆堆叠封装（WoW）的更多细节。探索 SMT 贴片加工与人工智能结合，智能运维、智能排障未来可期。小型的SMT贴片加工组装厂

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