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目前碳化硅的抛光方法主要有：机械抛光、磁流变抛光、化学机械抛光（CMP）、电化学抛光（ECMP）、催化剂辅助抛光或催化辅助刻蚀（CACP/CARE）、摩擦化学抛光（TCP，又称无磨料抛光）和等离子辅助抛光（***）等。化学机械抛光（CMP）技术是目前半导体...

硅铁在其他领域的应用除了上述应用领域外，硅铁在其他领域也有广泛的应用。如在橡胶行业中，硅铁可以作为添加剂来提高橡胶的耐磨性和耐候性。此外，硅铁还可以用于铸造、电子和电池等行业。硅铁的未来发展与趋势随着科技的不断进步和市场需求的不断变化，硅铁的未来发展将更加注重...

是什么影响了高碳锰铁冶炼原料的质量?锰矿石中锰含量波动1%，焦炭比波动50~80kg，产量波动3%~5%，因此对锰矿石中锰含量的要求越高越好。原料中的有害杂质:原料中的杂质与硫磷有害，因为它们进入铬铁合金，会影响钢材和钢材的质量。原料的大小对熔炼过程有很大的影...

锰铁的生产方法锰铁的生产方法主要有两种：电炉熔炼法和矿热炉熔炼法。其中，电炉熔炼法是主要的生产方法，其产量约占锰铁总产量的90%以上。电炉熔炼法的生产成本较低，且可以通过调节电流和电压来控制生产过程中的温度和成分。矿热炉熔炼法则是一种较为先进的生产方法，其主要...

随着电动汽车以及其他系统的增长，碳化硅（SiC）功率半导体市场正在经历需求的突然激增。这便是SiC的用武之地。基于氮化镓（GaN）的功率半导体也正在出现。GaN和SiC都是宽带隙技术。硅的带隙为1.1 eV。 相比之下，SiC的带隙为3.3 eV，GaN的带...

硅铁是炼钢工业中必不可少的脱氧剂。炬钢中，硅铁用于沉淀脱氧和扩散脱氧。砖坯铁还作为合金剂用于炼钢中。钢中添加一定数量的硅，能明显提高钢的强度、硬度和弹性，提高钢的磁导率，降低变压器钢的磁滞损耗。一般钢中含硅0.15%-0.35%，结构钢中含硅0.40%～1.7...

硅铁就是铁和硅组成的铁合金。 硅铁是以焦炭、钢屑、石英（或硅石）为原料，用电炉冶炼制成的铁硅合金。由于硅和氧很容易化合成二氧化硅，所以硅铁常用于炼钢时作脱氧剂，同时由于SiO2生成时放出大量的热，在脱氧的同时，对提高钢水温度也是有利的。同时，硅铁还可作为合金元...

锰铁生产的特点不同于炼钢，它不要求有足够高的温度以保证炉后浇注顺利进行,而只要求锰铁和渣能正常出炉即可。但根据热力学知识，用碳量和冶炼温度不同，可以得到不同的产品。对于冶炼高碳锰铁，要求炉内温度不能低于1400℃。从氧化物熔融还原过程动力学来看，由于锰铁冶炼过...

加工制砂、微粉生产企业300多家，年生产能力200多万吨。2012年，中国碳化硅产能利用率不足45%。约三分之一的冶炼企业有加工制砂微粉生产线。碳化硅加工制砂微粉生产企业主要分布在河南、山东、江苏、吉林、黑龙江等省。中国碳化硅冶炼生产工艺、技术装备和单吨能耗...

碳化硅是由碳元素和硅元素组成的一种化合物半导体材料。碳化硅（SiC）和氮化镓（GaN）、氮化铝（ALN）、氧化镓（Ga2O3）等，因为禁带宽度大于2.2eV统称为宽禁带半导体材料，在国内也称为第三代半导体材料。在半导体业内从材料端分为： 一代元素半导体材料：...

SiC的硬度只次于金刚石，可以作为砂轮等磨具的磨料，因此对其进行机械加工主要是利用金刚石砂轮磨削、研磨和抛光，其中金刚石砂轮磨削加工的效率较高，是加工SiC的重要手段。但是SiC材料不只具有高硬度的特点，高脆性、低断裂韧性也使得其磨削加工过程中易引起材料的脆...

碳化硅可以抵受的电压或电场八倍于硅或砷化镓, 特别适用于制造高压大功率器件如高压二极管、功率三极管、可控硅以及大功率微波器件. 另外, 此一特性可让碳化硅器件紧密排列, 有利于提高封装密度。碳化硅是热的良导体, 导热特性优于任何其它半导体材料。事实上, 在室...

第三代半导体材料有非常独特优异的性能优势。宽禁带，单个器件可以承载上万伏电压;热导率高，工作可靠性强;载流子迁移率高、工作频率大，省电节能;把这些优异性能全部整合在碳化硅材料之上，其性能就会指数级地提升，用途也会更为普遍。碳化硅晶片是5G芯片较理想的衬底。而...

碳化硅器件的极限工作温度有望达到 600℃以上, 而硅器件的较大结温只为 150℃。碳化硅器件抗辐射能力较强,在航空等领域应用可以减轻辐射屏蔽设备的重量。碳化硅器件对电动车充电模块性能的提升主要体现在三方面： （1）提高频率，简化供电网络； （2）降低损耗，...

利用碳化硅具有耐腐蚀、耐高温、强度大、导热性能良好、抗冲击等特性，碳化硅一方面可用于各种冶炼炉衬、高温炉窑构件、碳化硅板、衬板、支撑件、匣钵、碳化硅坩埚等。另一方面可用于有色金属冶炼工业的高温间接加热材料，如竖罐蒸馏炉、精馏炉塔盘、铝电解槽、铜熔化炉内衬、锌...

目前碳化硅的抛光方法主要有：机械抛光、磁流变抛光、化学机械抛光（CMP）、电化学抛光（ECMP）、催化剂辅助抛光或催化辅助刻蚀（CACP/CARE）、摩擦化学抛光（TCP，又称无磨料抛光）和等离子辅助抛光（***）等。化学机械抛光（CMP）技术是目前半导体...

在开关电源系统中，二极管一般被用作整流、续流保护等。用做整流时，经常会因为整流二极管的反向恢复时间过长，进而导致转换效率降低，发热增加。虽然使用肖特基二极管可解决反向恢复问题，但普通硅（Si）肖特基二极管的击穿电压很低（通常低于200V），再加上降额设计...

碳化硅单晶的制备一直是全球性难题，而高稳定性的晶体生长工艺则是其中较重要的技术。之前，这项技术只掌握在美国人手里，且长期对我国技术封锁。过去，我国的半导体材料长期依赖国外进口，由此带来的问题就是半导体材料价格昂贵、渠道不稳，随时都可能面对禁运的风险，而且产品...

SiC 主要应用于微波领域，非常适合在雷达发射机中使用；使用它可明显提高雷达发射机的输出功率和功率密度，提高工作频率和工作频带宽度，提高雷达发射机的环境温度适应性，提高抗辐射能力。和普通硅（Si）功率器件相比，碳化硅（SiC）功率器件所具有的优势非常明显。...

2012年全年中国黑碳化硅产能没有正常释放，一方面是成交缓慢，库存消耗慢,占压资金量大，另一方面是下游玩业消费商回款时间长，欠款现象严重，导致某些企业资金链紧张。2012年中国黑碳化硅的主产地为宁夏和甘肃，青海和新疆的原有产能逐渐被淘汰，加上湖北丹江口弘源的...

与传统硅基器件相比，SiC的击穿场强是传统硅基器件的10倍，导热系数是传统硅基器件的3倍，非常适合于高压应用，如电源、太阳能逆变器、火车和风力涡轮机。另外，SiC还用于制造LED。碳化硅材料各项指标均优于硅，其禁带宽度几乎是硅的3倍，理论工作温度可达600℃...

碳化硅有黑碳化硅和绿碳化硅两个常用的基本品种，都属α-SiC。①黑碳化硅含SiC约95%，其韧性高于绿碳化硅，大多用于加工抗张强度低的材料，如玻璃、陶瓷、石材、耐火材料、铸铁和有色金属等。②绿碳化硅含SiC约97%以上，自锐性好，大多用于加工硬质合金、钛合金和...

其中碳化硅和氮化镓是目前商业前景较明朗的半导体材料，堪称半导体产业内新一代“黄金赛道”。历史上人类一次发现碳化硅是在1891年，美国人艾奇逊在电溶金刚石的时候发现一种碳的化合物，这就是碳化硅初次合成和发现。在经历了百年的探索之后，特别是进入21世纪以后，人类...

绿碳化硅是以石油焦和优越硅石为主要原料,添加食盐作为添加剂，通过电阻炉高温冶炼而成。其硬度介于刚玉和金刚石之间,机械强度高于刚玉。碳化硅(SiC)由于其独特的物理及电子特性, 在一些应用上成为较佳的半导体材料: 短波长光电器件, 高温, 抗幅射以及高频大功率...

在一定的温度和化学成分相同的条件下，铁液中碳的饱和浓度一定。铸铁中碳的溶解极限为([C%]=1.3+0.0257T－0.31[Si%]－0.33[P%]－0.45[S%]+0.028[Mn%]（T为铁液温度）。在一定饱和度下，增碳剂加入量越多，溶解扩散所需时...

由于天然含量甚少，碳化硅主要多为人造。常见的方法是将石英砂与焦炭混合，利用其中的二氧化硅和石油焦，加入食盐和木屑，置入电炉中，加热到2000°C左右高温，经过各种化学工艺流程后得到碳化硅微粉。碳化硅(SiC)因其很大的硬度而成为一种重要的磨料，但其应用范围却...

各种增碳剂中，品质较好的是人造石墨。制造人造石墨的主要原料是粉状的优越煅烧石油焦，在其中加沥青作为粘结剂，再加入少量其他辅料。各种原材料配合好以后，将其压制成形，然后在2500～3000℃、非氧化性气氛中处理，使之石墨化。经高温处理后，灰分、硫、气体含量都大...

因此，在实际生产中应强调增碳剂的使用和增碳效果： ①增碳剂的吸收率与其 C 含量直接相关，C 含量越高，则吸收率越高。 ②增 碳剂的粒度是影响其溶入铁水的主要因素，实践证明，增碳剂的粒度应以 1~4mm 为好，有微粉和粗 粒增碳效果都不好。 ③硅对增碳效果有...

用于铸造，铸铁、铸钢，铸件会有对碳的一个要求，那么增碳剂顾名思义就是来增加铁液中的碳含量，又比如说，在熔炼中常用炉料为生铁、废钢、回炉料，生铁的碳含量高，但是却采购价格相对废钢来说是要高出一节的，所以增加废钢投放量，降低生铁投放量，加增碳剂，能起到一定的降低...

在10A的额定电流下，硅续流二极管展现出较低的正向压降，SiC肖特基二极管的Vf更高，而快速硅二极管展现出较高的正向压降。正向电压与温度之间的关联差别很大：快速硅二极管具有负的温度系数，150°C下的Vf比25°C下的Vf低。对于12A以上的电流，CAL的温...