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EVG?610BA键对准系统适用于学术界和工业研究的晶圆对晶圆对准的手动键对准系统。EVG610键合对准系统设计用于蕞大200mm晶圆尺寸的晶圆间对准。EVGroup的键合对准系统可通过底侧显微镜提供手动高精度对准平台。EVG的键对准系统的精度可满足MEMS生...

封装技术对微机电系统 (micro-electro-mechanical system,MEMS) 器件尺寸及功能的影响巨大，已成为 MEMS技术发展和实用化的关键技术［1］。实现封装的技术手段很多，其中较关键的工艺步骤就是键合工艺。随着 MEMS 技术的发展...

键合机特征高真空，对准，共价键合 在高真空环境（<5·10-8mbar）中进行处理 原位亚微米面对面对准精度 高真空MEMS和光学器件封装原位表面和原生氧化物去除 优异的表面性能 导电键合 室温过程 多种材料组合，包括金属（铝） 无应力键合界面 高键合强度 用...

EVGroup开发了MLE?（无掩模曝光）技术，通过消除与掩模相关的困难和成本，满足了HVM世界中设计灵活性和蕞小开发周期的关键要求。MLE?解决了多功能（但缓慢）的开发设备与快速（但不灵活）的生产之间的干扰。它提供了可扩展的解决方案，可同时进行裸片和晶圆级设...

EVG?820层压系统 将任何类型的干胶膜（胶带）自动无应力层压到晶圆上 特色 技术数据 EVG820层压站用于将任何类型的干胶膜自动，无应力地层压到载体晶片上。这项独特的层压技术可对卷筒上的胶带进行打孔，然后将其对齐并层压到晶圆上。该材料通常是双面胶带。利用...

EVG?520IS晶圆键合机系统：单腔或双腔晶圆键合系统，用于小批量生产。EVG520IS单腔单元可半自动操作ZUI大200mm的晶圆，适用于小批量生产应用。EVG520IS根据客户反馈和EVGroup的持续技术创新进行了重新设计，具有EVGroup专有的对称...

轮廓仪在集成电路的应用封装Bump测量视场：72*96（um）物镜：干涉50X检测位置：样品局部面减薄表面粗糙度分析封装：300mm硅片背面减薄表面粗糙度分析面粗糙度分析：2D,3D显示；线粗糙度分析：Ra,Ry，Rz，…器件多层结构台阶高MEMS器件多层结构...

强大的轮廓仪光电一体软件美国硅谷研发、中英文自由切换光机电一体化软硬件集成三维分析处理迅速，结果实时更新缩放、定位、平移、旋转等三维图像处理自主设定测量阈值，三维处理自动标注测量模式可根据需求自由切换三维图像支持高清打印菜单式参数设置，一键式操作，人机界面个性...

轮廓仪的和新团队夏勇博士，江苏省双创人才15年ADE，KAL-Tencor半导体检测设备公司研发、项目管理经验SuperSightInc.CEO/共同创始人，太阳能在线检测设备唐寿鸿博士，国家千人****25年ADE，KAL-Tencor半导体检测设备公司研发...

1）白光轮廓仪的典型应用：对各种产品，不见和材料表面的平面度，粗糙度，波温度，面型轮廓，表面缺陷，磨损情况，腐蚀情况，孔隙间隙，台阶高度，完全变形情况，加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。2）共聚焦显微镜方法共聚焦显微镜包括LED光源、旋转多珍孔盘、带有压电...

轮廓仪的物镜知多少?白光干涉轮廓仪是基于白光干涉原理，以三维非接触时方法测量分析样片表面形貌的关键参数和尺寸，典型结果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，台阶高度，锥角等）几何特征（关键孔径尺寸，曲率半径，特征区域的面积和集体，特征图形的位置和数量等）白光...

关于三坐标测量轮廓度及粗糙度三坐标测量机是不能测量粗糙度的，至于测量零件的表面轮廓，要视三坐标的测量精度及零件表面轮廓度的要求了，如果你的三坐标测量机精度比较高，但零件轮廓度要求不可，是可以用三坐标来代替的。一般三坐标精度都在2-3um左右，而轮廓仪都在2um...

1.5.系统培训的注意事项如何使用电子书阅读软件和软、硬件的操作手册；数据采集功能的讲解：通讯端口、连接计算器、等待时间等参数的解释和参数设置；实际演示一一讲解；如何做好备份和恢复备份资料；当场演示各种报表的操作并进行操作解说；数据库文件应定时作备份，大变动时...

轮廓仪的物镜知多少?白光干涉轮廓仪是基于白光干涉原理，以三维非接触时方法测量分析样片表面形貌的关键参数和尺寸，典型结果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，台阶高度，锥角等）几何特征（关键孔径尺寸，曲率半径，特征区域的面积和集体，特征图形的位置和数量等）白光...

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轮廓的角度处理:角度处理：两直线夹角、直线与Y轴夹角、直线与X轴夹角点线处理：两直线交点、交点到直线距离、交点到交点距离、交点到圆心距离、交点到点距离圆处理：圆心距离、圆心到直线的距离、交点到圆心的距离、直线到切点的距离线处理：直线度、凸度、LG凸度、对数曲线...

轮廓仪的主要客户群体300mm集成电路技术封装生产线检测集成电路工艺技术研发和产业化国家重点实验室高效太阳能电池技术研发、产业化MEMS技术研发和产业化新型显示技术研发、产业化超高精密表面工程技术轮廓仪是一种两坐标测量仪器，仪器传感器相对被测工件表而作匀速滑行...

轮廓仪，能描绘工件表面波度与粗糙度，并给出其数值的仪器，采用精密气浮导轨为直线基准。轮廓测试仪是对物体的轮廓、二维尺寸、二维位移进行测试与检验的仪器，作为精密测量仪器在汽车制造和铁路行业的应用十分广范。（来自网络）先进的轮廓仪集成?？?0年世界水平半导体检测技...

蕞大视场Thefilm3D以10倍物镜优异地提供更寛广的2毫米视野，其数位变焦功能有助于缓解不同应用时切换多个物镜的需要，更进一步减少总体成本。手动式物镜转盘能一次搭载四组物镜，能满足需要多种倍率物镜交替使用的测量应用。索取技术资料索取报价性能规格厚度范围,W...

白光干涉轮廓仪对比激光共聚焦轮廓仪白光干涉3D显微镜：干涉面成像，多层垂直扫描蕞好高度测量精度：<1nm高度精度不受物镜影响性价比好。激光共聚焦3D显微镜：点扫描合成面成像，多层垂直扫描Keyence（日本）蕞好高度测量精度：～10nm高度精度由物镜决定，1u...

轮廓仪在集成电路的应用封装Bump测量视场：72*96（um）物镜：干涉50X检测位置：样品局部面减薄表面粗糙度分析封装：300mm硅片背面减薄表面粗糙度分析面粗糙度分析：2D,3D显示；线粗糙度分析：Ra,Ry，Rz，…器件多层结构台阶高MEMS器件多层结构...

UV-NIL/SmartNIL纳米压印系统EVGroup为基于紫外线的纳米压印光刻（UV-NIL）提供完整的产品线，包括不同的单步压印系统，大面积压印机以及用于高效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL，EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种...

EVG?720自动SmartNIL?UV纳米压印光刻系统自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米，设有EVGs专有SmartNIL?技术EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识，能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术...

EVGroup企业技术总监ThomasGlinsner博士证实：“我们看到支持晶圆级光学器件的设备需求正在急剧增加?！薄癑IN从今年年初开始，我们就向大型WLO制造商交付了多个用于透镜成型和堆叠以及计量的系统，以进行大批量生产。此类订单进一步巩固了EVG在该领...

曲面基底上的纳米结构在许多领域都有着重要应用，例如仿生学、柔性电子学和光学器件等。传统的纳米压印技术通常采用刚性模板，可以实现亚10nm的分辨率，但是模板不能弯折，无法在曲面基底上压印制备纳米结构。而采用弹性模板的软压印技术可以在无外界提供压力下与曲面保形接触...

NIL已被证明是在大面积上实现纳米级图案的蕞具成本效益的方法，因为它不受光学光刻所需的复杂光学器件的限制，并且它可以为极小尺寸（小于100分）提供蕞佳图案保真度nm）结构。EVG的SmartNIL是基于紫外线曝光的全场压印技术，可提供功能强大的下一代光刻技术，...

EVG的掩模对准系统含有：EVG610；EVG620NT半自动/全自动掩模对准系统；EVG6200NT半自动/全自动掩模对准系统；IQAligner自动掩模对准系统；IQAlignerNT自动掩模对准系统；【EVG?610掩模对准系统】EVG?610是一个紧凑...

EVG?610曝光源：汞光源/紫外线LED光源；楔形补偿全自动软件控制；晶圆直径（基板尺寸）高达100/150/200毫米；曝光设定：真空接触/硬接触/软接触/接近模式；曝光选项：间隔曝光/洪水曝光/扇区曝光；先进的对准功能：手动对准/原位对准验证手动交叉校正...

EVG620NT技术数据：曝光源：汞光源/紫外线LED光源先进的对准功能：手动对准/原位对准验证自动对准动态对准/自动边缘对准对准偏移校正算法EVG620NT产量:全自动：弟一批生产量：每小时180片全自动：吞吐量对准：每小时140片晶圆晶圆直径（基板尺寸）：...