CMP抛光液一般由去离子水、磨料、pH值调节剂、氧化剂以及分散剂等添加剂组成。其中SiO2、Al2O3、CeO2 是应用较普遍的磨料。由于纳米磨料颗粒存在比表面积大、表面原子数多、表面能高等问题使其在水相介质中极易发生粒子团聚和快速沉降，导致抛光过程中表面粗糙度增加、划伤增多及抛光效率不稳定。因此，如何均匀分散成为制备CMP抛光液关键工艺之一。通过微射高压均质机分散可以有效的将二氧化硅，二氧化铈等氧化物均匀分散到纳米级，有效解决抛光液纳米分散中团聚的痛点。微射流均质机能够均匀地分散和悬浮固体颗粒，避免沉淀和堵塞。河南浆料微射流均质机

高压均质机的原理，柱塞泵通过不断的往复运动，将物料吸入阀组中（图1）,柱塞可调节压力的大小。物料在高压下其流过缝隙时，液滴首先被延伸，后因通过阀体时的湍流作用，使延伸部分剪切拉碎。从阀缝中高速冲出的液流撞上挡圈，产生高速的撞击作用。同时，压力迅速大幅下降，产生很大的爆破力，瞬时引起空穴现象，强烈释放的能量和强烈的高频振动，使颗粒或液滴破碎，从而达到液体样品均质、粉碎和乳化的效果。液滴在料液进口处携带极高的静压能，在均质过程中，静压能转化成了动能，使液滴破裂。广东量产型微射流均质机现货直发采用微射流均质技术，可减少制剂中的添加剂使用，提升产品纯度。

主要部件的区别，高压均质机，主要部件：分体狭缝式均质阀。使用时均质阀座与均质阀芯通过撞击环安装贴合，当均质柱塞泵将样品吸入并输送至均质主要部位时，样品由前端挤入至均质阀座孔内。均质阀座的孔道比前端管道小很多，所以样品急速加速，并将均质阀座和均质阀芯挤出一条缝隙，样品由此缝隙高速喷出，并经冲击环撞击后喷射而出，完成均质。在此过程中，从狭缝中喷出的瞬间由于存在高压力，并且样品喷出后与撞击环内侧的撞击力及粒子之间的剪切力共同作用，使样品粒子达到粒径减小的效果。均质阀座与均质阀芯之间的狭缝大小，影响样品冲破缝隙所承受的阻力，此阻力的大小即为均质的压力，一般来说阻力越大，即均质压力越高、喷出速度越高、与冲击环之间的撞击力也越强，均质能力就越强，粒径就越小。而均质压力大小的调节通过手轮，调节均质阀座与均质阀芯之间的间距来实现。

微射流均质机的操作与维护：为了确保微射流均质机的长期稳定运行，正确的操作和维护至关重要：操作培训：确保操作人员了解设备的工作原理和操作流程。定期检查：定期检查设备的各个部件，确保其正常工作。清洁保养：使用后及时清洁设备，防止物料残留。维护记录：建立维护记录，跟踪设备的使用和维护情况。微射流均质机作为一种高效的工业设备，正在为精细工业领域带来革新性的变化。通过选择合适的设备和优化操作条件，可以较大程度上提高生产效率和产品质量。微射流处理可减少药物所需的剂量，降低副作用。

微射流均质机使介质的颗粒极度细化(液—液均质平均粒度在1以下)，均质后的产品还能得到不沉淀、高胶状、高稳定性等优点，从而使成品的外观也较大程度上改善，适用于纳米新材料、制药、生物技术、化妆品、档次高饮品等行业。郭晓君等采用超高压微射流技术对山药汁进行处理，发现可明显改善山药汁的物理稳定性，物料中可溶性固形物含量无明显变化；亮度值明显增大，山药汁中颗粒平均粒径明显减小，浊度和非酶褐变度逐渐降低。研究发现，超高压微射流处理能较好地保持山药汁中的营养成分，在80MPa压力下，氨基酸增加，还原糖、总酸和黄酮呈较小幅度降低。王小媛等研究表明，高压微射流对铁棍山药汁中微生物有较好的杀菌效果。微射流均质机可形成纳米乳剂，除了灭菌之外还可破碎提取细胞中的有用营养成分，可以将纤维素的某一维度尺寸缩小至100nm以内，形成纳米纤化纤维素。微射流均质机是一种用于颗粒、悬浮液加工的微射流均质机。河南浆料微射流均质机

微射流均质机可以根据不同的生产需求进行调节和控制。河南浆料微射流均质机

碳纳米管分散。硅负极材料在锂合金化过程中发生的体积膨胀，效率并不是固定的，而是与硅材料颗粒尺寸紧密相关。纳米级尺寸的硅颗粒，由于其独特的表面效应和尺寸效应，可以缓解硅体积变化引发的颗粒破碎粉化。目前主流的降低硅材料粒径的方式是采用球磨，但是在球磨的过程中部分硅材料容易发生氧化，另外在球磨后材料也容易重新团聚。微射流R高压均质机处理可以获得更小的粒径分布的物料，并能起到很好的分散效果，在纳米硅材料的制备中有明显的作用。河南浆料微射流均质机