微射流均质机，主要部件：金刚石交互容腔（微射流均质腔）。微射流金刚石交互容腔是一个整体式的内部结构固定的Y或者Z型的微通道，孔道大小在50um到几百微米之间，为金刚石材质。工作时样品通过动力部分加压，经过金刚石交互腔前端通道部分加速，到金刚石微孔道处射流速度可达500m/s，高速射流经过金刚石微通道时经过高频剪切、撞击、物料粒子间对射和巨大的压力，较终使得物料粒径细化均一。微射流均质机均质压力的调节通过调节电机频率控制流速。缝隙通道固定，流速越大，压力越高，剪切、碰撞力越强，均质效果也就越好。微射流均质过程中由于存在巨大的撞击破碎力，会产生热量，均质压力越高，产热越多。对于温度敏感的样品处理，可以配置换热器帮助降温。微射流均质机通过高速液体流作用，将颗粒更细化。广东树脂微射流均质机供应

高压均质机其关键指标如下：均质过程中，能否稳定达到物料所需均质压力，是均质机选型的主要因素。设备的处理流量与设备选型、均质压力、物料粘度或浓度等因素有关。对于许多温度敏感、温度影响性质的物料而言，设备是否能够实时监控进出料的温度（进口温度、出口温度），其冷凝管的温控效果能否满足需求，是不可忽略的选型指标。在生产型设备的选型上，连续工作能力也是非常重要的选型要素。微射流均质机主要部件，其内部固定的几何角度构造对成品起到直接的作用。现基本采用“Y”型或“Z”型构造的均质腔。四川乳化微射流均质机微射流均质机的设计紧凑，占用空间小。

碳纳米管分散。硅负极材料在锂合金化过程中发生的体积膨胀，效率并不是固定的，而是与硅材料颗粒尺寸紧密相关。纳米级尺寸的硅颗粒，由于其独特的表面效应和尺寸效应，可以缓解硅体积变化引发的颗粒破碎粉化。目前主流的降低硅材料粒径的方式是采用球磨，但是在球磨的过程中部分硅材料容易发生氧化，另外在球磨后材料也容易重新团聚。微射流R高压均质机处理可以获得更小的粒径分布的物料，并能起到很好的分散效果，在纳米硅材料的制备中有明显的作用。

CMP抛光液一般由去离子水、磨料、pH值调节剂、氧化剂以及分散剂等添加剂组成。其中SiO2、Al2O3、CeO2 是应用较普遍的磨料。由于纳米磨料颗粒存在比表面积大、表面原子数多、表面能高等问题使其在水相介质中极易发生粒子团聚和快速沉降，导致抛光过程中表面粗糙度增加、划伤增多及抛光效率不稳定。因此，如何均匀分散成为制备CMP抛光液关键工艺之一。通过微射高压均质机分散可以有效的将二氧化硅，二氧化铈等氧化物均匀分散到纳米级，有效解决抛光液纳米分散中团聚的痛点。微射流均质机可以根据不同的生产需求进行调节和控制。

当物料的细度达到微米甚至纳米级时，体系可以被认为均质。高压均质可以使物料细化成微小颗粒，将乳化与均质联系起来，得到稳定的乳状液，因此，乳化机又可以称为均质乳化机。均质机的原理，均质机的作用力主要为剪切力和压力。在均质过程中，产生层流效应，分散相颗粒或液滴被剪切和延伸拉碎；受到湍流效应影响，颗粒或液滴在压力波动下产生随机变形；受到空穴效应的影响，较高的压力作用使小气泡迅速破裂，释放能量，从而引起局部液压冲击，造成振动。在这些共同作用下，物料呈良好的均匀分布状态。微射流均质机对颗粒大小和分布的控制能力强大。实验室微射流均质机厂家供应

微射流均质机的能耗低，节约能源。广东树脂微射流均质机供应

高压微射流均质机原理：通过增压器使物料在高压作用下以速度流经微管通道，并进入微米级固定均质腔，物料流在此过程中受到高剪切力、高碰撞力、空穴效应等，由此获得理想的均质结果。由PSI研发的增压器、固定均质腔可调节恒定压力以获得稳定的剪切力，确保均匀减小颗粒尺寸、使粒径分布窄而均一；有助于研发、生产过程中优化配方以获得大的稳定性；延长货架期、降低生产成本。高压微射流均质机普遍的应用范围涵盖医药、生物、化工等行业，适用于细胞破壁、纳米乳剂、纳米脂质体、化妆品、高粘度材料等，是降低粒径、解团聚、乳化等过程的选择。广东树脂微射流均质机供应