光催化氙灯光源的发光原理：光催化氙灯光源是在石英管内，以多种化学气体充填，其中大部份为氙气（Xenon）与碘化物等惰性气体，然后再透过增压器（Ballast）将车上12伏特的直流电压瞬间增压至23000伏特的电流，经过高压震幅激发石英管内的氙气电子游离，在两电极之间产生光源，这就是所谓的气体放电。一般光催化卤素灯的多发出1000LM度，而在光催化氙灯则是3200LM度，对于经常晚上开车的人来说，安全系数有效的提高，疲劳度也有效的下降！卤素灯一般就是60W-100W的功率，而氙灯则是35W，使用更节能。光催化滤波片具有什么产品特点？福建AAA光催化系统

光催化原理：光催化法是近几十年来发展起来的一种深度氧化技术(advancedoxidationprocess,AOP)。它是将特定光源(如紫外光UV)与催化剂(TiO2或CdS)联合作用对有机废水进行降解处理的过程。TiO2受光源激发产生的空穴是一种强氧化剂，导带电子则是一种强还原，大多数有机物和无机物能够直接或间接被它们氧化还原。反应过程中生成的·OH具有很强的化学活性，利用这种高活性的自由基可以氧化包括生物难以转化的各种有机物并使之矿化，甚至能够氧化细菌体内的有机物生成CO2和H2O。另外，它还可以与有毒的无机物起氧化反应使其在短时间内失去毒性。广东光纤光催化太阳光模拟器光催化氙灯普遍应用于光解氢、光化学催化、光合成、光降解污染物、水污染处理、生物光等研究领域。

光催化原理：半导体光催化剂大多是n型半导体材料，都具有区别于金属或绝缘物质的特别的能带结构,即在价带和导带之间存在一个禁带。由于半导体的光吸收阈值与带隙具有式K=1240/Eg(eV)的关系,因此常用的宽带隙半导体的吸收波长阈值大都在紫外区域。当光子能量高于半导体吸收阈值的光照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,即从价带跃迁到导带,从而产生光生电子(e-)和空穴(h+)。此时吸附在纳米颗粒表面的溶解氧俘获电子形成超氧负离子,而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。而超氧负离子和氢氧自由基具有很强的氧化性,能将绝大多数的有机物氧化至终产物CO2和H2O,甚至对一些无机物也能彻底分解。

光催化氙灯优势：1.采用新型散热结构，提高光输出稳定性。2.与HXF相互兼容的300电源降低了升级成本。3.采用的PE300灯泡用户可自行快速更换。4.采用新型光路结构，实现灯泡、散热、隔离、法兰等多位同心。5.采用新型温控反馈系统，既隔离高压，又提高精度。6.标准转向透镜可匹配M62.M52全系列滤光片可任意多层叠加滤光片。7.可选择电动升降台LMP升降调整方便。8.可以选配LB70防护箱体（400*400*700mm，两个氙灯可以同时放置）。光催化氙灯应用于光解水产氢氧化氢、CO2还原、光热催化、光热协同、光化学催化、光化学合成、光降解污染物、水污染处理、生物光学检测、各种模拟太阳能可见光加速实验、紫外波段加速试验等研究领域。光催化氙灯光源具有什么特性？

光催化是光化学和催化科学的交叉点，一般是指在催化剂参与下的光化学反应。半导体材料之所以具有光催化特性，是由它的能带结构所决定。半导体的晶粒内含有能带结构，其能带结构通常由一个充满电子的低能价带（valent-band，VB）和一个空的高能导带（conductionband，CB）构成，价带和导带之间由禁带分开，该区域的大小称为禁带宽度，其能差为带隙能，半导体的带隙能一般为0.2~3.0eV。当用能量等于或大于带隙能的光照射催化剂时，价带上的电子被激发，越过禁带进入导带，同时在价带上产生相应的空穴，即生成电子/空穴对。由于半导体能带的不连续性，电子和空穴的寿命较长，在电场作用下或通过扩散的方式运动，与吸附在催化剂粒子表面上的物质发生氧化还原反应，或者被表面晶格缺陷俘获。空穴和电子在催化剂内部或表面也可能直接复合。光催化具有达到净化污染物、物质合成和转化等目的。光纤光催化系统

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什么是光催化作用？光催化是在一定波长光照条件下，半导体材料发生光生载流子的分离，然后光生电子和空穴在与离子或分子结合生成具有氧化性或还原性的活性自由基，这种活性自由基能将有机物大分子降解为二氧化碳或其他小分子有机物以及水，在反应过程中这种半导体材料也就是光催化剂本身不发生变化。这种半导体光催化剂在光催化反应过程中起的作用就是光催化作用。上海卡精智能科技有限公司是2014年由经验丰富的留美技术团队创立的，公司专注于太阳光模拟设备系统及其他特种光源系统的研发，生产和销售。公司拥有从光源、镇流器、套灯，控制软件，到光学系统设计、再到安装调试测试等整套的、自主国产化的太阳光模拟系统解决方案。福建AAA光催化系统

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