“电子氢氟酸在集成电路、半导体制作、太阳能光伏和液晶显示屏等领域应用普遍,是微电子行业生产所需的关键基础化工原材料之一。”电子级氢氟酸是微电子行业的关键性基础化工材料之一, 主要用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)制造中 ,用于晶圆表面清洗、芯片加工过程中的清洗和蚀刻等工序。在太阳能光伏行业中,用于硅片表面清洗、蚀剂等领域。硅锭到硅片,再到电池片的一道工艺程序:清洗制绒环节会用到产品。在液晶显示器行业,用于玻璃基板清洗、氮化硅、二氧化硅蚀剂等。在TFT—LCD、半导体产业中也被普遍使用。还可用作分析试剂、原子能工业化学试剂和制备高纯度的含氟化学品。在使用氢氟酸的过程中,必须保持周围环境的卫生和干燥。深圳55%氢氟酸生产商
各国标准中所采用的原理是一致,一般对于氟硅酸含量较低的测定主要采用分光光度法,原理为:硅酸盐与钼酸盐反应形成硅钼杂多酸(黄色),用还原液将硅钼杂多酸还原,在波长795 nm处测量蓝色络合物的吸光度。各国标准中所不同的是将硅钼杂多酸还原所用的还原剂,国标和日本标准中采用以亚硫酸根为主还原液,而俄罗斯标准中则采用抗坏血酸为还原剂。另外测定波长在各标准中规定也有所不同,国标中只规定波长795 nm,日本标准除规定波长795 nm外,还可以采用波长680nm,俄罗斯标准中规定波长650~700nm。对于氟硅酸含量较高的测定是采用在测定主含量时连续测定的方法,该方法在测定时利用了酸碱滴定法的原理。山东电子级氢氟酸保存方法氢氟酸不可以与那些有毒气体混合。
在氢氟酸产业中,工业级氢氟酸产能基本饱和,未来发展机遇相对较小。而电子级氢氟酸下游产业处于快速发展阶段,且由于生产门槛较高,国内产能供不应求,行业未来发展前景较好,因此吸引较多企业投建产能。应用于集成电路 ( I C)和超大规模集成电路 (VLSI)芯片的清洗和腐蚀 ,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一 ,还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业 ,其他方面用量较少。氢氟酸和氟化氢的区别在于:氢氟酸是混合物,是由氟化氢稀释而来的,而氟化氢是纯净物。
那高纯氟化氢有多纯呢?以前我们都听说过千足金的说法,也就是纯度为99.9%,含有0.1%的杂质,后来又有人提出万足金,就是99.99%,含有0.01%的杂质。而日本产的较高纯度的氢氟酸纯度为99.999%甚至更高,这个在目前较先进的芯片生产工艺中都可以放心使用。而中国目前能生产的较高纯度也比这个纯度低十倍左右,而这只是其中一个指标,此外还有控制粒径、颗粒个数等指标。如前所说,氟化氢的生产并不困难,只需要让萤石跟硫酸进行反应,就可以制得氟化氢。再用水溶解掉氟化氢,就变成了氢氟酸。这个生产过程技术含量并不高,工艺也不复杂。但生产出来的只是工业级的氢氟酸,要想应用到电子行业,必须做非常精密的提纯。难就难在了提纯上。没有经验和资质的人员绝不能在没有专业监督的情况下使用氢氟酸。
生产雕花玻璃过程所依据的化学原理是:由于Si—F键的键能大于Si—O键的键能,因此,氢氟酸中的F与玻璃中的Si能够形成性能更为稳定的Si—F键,迫使SiO2中的Si—O键断裂,生成具有挥发性能的四氟化硅气体(SiF4),并放出热量,该反应在常温下便可进行。其化学反应方程式为:SiO2+4HF=SiF4(气体)+2H2O。那氢氟酸到底是什么呢?氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,为无色透明至淡黄色冒烟液体,具有刺激性气味。氢氟酸较明显的特点是腐蚀性非常强,它能和大多数金属、非金属发生反应。此外,氢氟酸还对硅的化合物具有强腐蚀性,将氟化氢气体溶于水得到的氢氟酸溶液可用于雕刻玻璃,因为氢氟酸可以与玻璃的主要成分二氧化硅发生反应,而其他强酸则不能,质量浓度为1.5%的氢氟酸溶液即可腐蚀玻璃以达到雕花的目的。在处理含氢氟酸的制品时,必须按照厂家的说明书进行。山东电子级氢氟酸保存方法
氢氟酸可引起刺激、灼伤、呼吸困难、低血压等症状。深圳55%氢氟酸生产商
电子级氢氟酸是半导体制作过程中应用较多的电子化学品之一,随着我国微电子工业的高速发展,电子级氟化氢需求不断提高。电子级氢氟酸普遍应用在集成电路、太阳能光伏和液晶显示屏等领域中,其中集成电路领域需求占比较高,占据市场总需求的45%以上;其次是太阳能光伏领域,占比为25%;排在第三的为液晶显示器领域。占比为16%。在氢氟酸产业中,工业级氢氟酸产能基本饱和,未来发展机遇相对较小。而电子级氢氟酸下游产业处于快速发展阶段,且由于生产门槛较高,国内产能供不应求,行业未来发展前景较好,因此吸引较多企业投建产能。深圳55%氢氟酸生产商
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