电影洗片机(film processor)亦称显影机。一种能自动冲洗经摄影或印片等方式曝过光的感光胶片,使胶片上的潜影显示出来并完成其它全部所需化学加工过程的机器设备。一般都具有供片收片装置﹑化学加工药液槽﹑药液循环系统和影片干燥箱等部分。洗片机各个工序紧密相连,运行不可中断,而且片路长,穿片困难,因此机器上须长久保持穿着影片。当一本影片尾端即将进入机内时必须连接下一本影片首端,如此本本相接才能保证连续进入各个工序。机中胶片总长度达数百米,为了不致产生过大的张力积累而发生断片,须在许多分布适当的部位向影片施加传动作用力。根据印版的厚度范围调节各胶辊之间的压力,保证无窜液或窜液小。徐州质量涂胶显影机厂家直销
各工序之间有***胶片表面所带前道工序液滴的装置,以减小对下道工序溶液的污染。采用方式有高压空气吹拂的气刀式﹑真空抽吸的吸拂式﹑软橡胶片的托板式和软橡胶滚轮的挤压式等,或者几种方式混合使用。彩色正片洗片机在漂白工序之后有声带再显影装置,对影片声带部位用涂浆轮单独进行二次显影,以保留声带中的含银量,提高彩色影片的声音质量。洗片机分亮室操作和暗室操作两类,前者定影之前的药液槽设有防光盖,尚未进入冲洗的胶片放在暗盒和缓冲箱中,因此可以在光照下操作。后者把定影之前的部分安排在另一间暗室之中。徐州质量涂胶显影机厂家直销保证显影液循环、胶液循环、水循环顺畅,无堵塞;
显影是在正性光刻胶的曝光区和负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解,在光刻胶上形成三维图形的一种光刻技术。技术简介显影是在硅片表面光刻胶中产生图形的关键步骤。光刻胶上的可溶解区域被化学显影剂溶解,将可见的岛或者窗口图形留在硅片表面。最常见的显影方法是旋转、喷雾、浸润,然后显影。硅片用去离子水冲洗后甩干。显影过程如图1 [1]所示,非曝光区的光刻胶由于在曝光时并未发生化学反应,在显影时也就不会存在这样的酸碱中和,因此非曝光区的光刻胶被保留下来。经过曝光的正胶是逐渐溶解的,中和反应只在光刻胶的表面进行,因此正胶受显影液的影响相对比较小。对于负胶来说非曝光区的负胶在显影液中首先形成凝胶体,然后再分解,这就使得整个负胶层都被显影液浸透。在被显影液浸透之后,曝光区的负胶将会膨胀变形。
例如:东芝163数码复合机,感光鼓表面被充上-440V的负电荷,当有图像区域被曝光后,白色背景区未被曝光而保留-440V的负电荷,灰**域虽被曝光但因光照不强,而保留-300V左右的负电荷,黑**域被完全曝光,电荷消失,页只保留很少的负电荷。而加在显影辊上的显影偏压是-340V,这样,白色背景区域的电势高于显影偏压而碳粉未被转移;灰**域低于显影偏压40V而有少量碳粉转移;黑**域的电势与显影偏压之间相差较大,所以有更多的碳粉被转移到感光鼓上。这就完成了显影过程了。 [2]这些功能模块协同工作,确保了光刻工艺的高效和精确。
涂胶显影机(track)是一种用于半导体制造过程中光刻工艺的关键设备。以下是对涂胶显影机的详细介绍:一、工作原理涂胶显影机的工作原理主要涉及到硅片的光刻胶涂覆和显影过程。首先,将硅片放置在涂覆模块下方,通过涂覆模块将光刻胶均匀涂覆在硅片表面。然后,将硅片转移到曝光模块下方,利用光刻技术将图案投射到光刻胶表面。曝光后,再将硅片转移到显影模块下方,通过显影模块将未曝光区域的光刻胶去除,从而在硅片上形成所需的图案结构。二、主要功能涂胶显影机的工作原理主要涉及到硅片的光刻胶涂覆和显影过程。苏州品牌涂胶显影机厂家价格
定期彻底清洗胶辊,保证各胶辊之间压力均匀(每周一次);徐州质量涂胶显影机厂家直销
根据不同影片,例如黑白底片﹑黑白正片﹑彩色底片﹑彩色正片﹑反转翻底片等等的加工工艺要求,设置洗片机的药液槽及药液循环系统。药液槽用不锈钢﹑工程塑料或硬橡皮制成,槽中有片架,胶片成螺旋形片环穿于片架上并浸没在药液里。各工序根据不同的时间要求,设置容片量不同的单槽,或者容量相同而数量不同的槽子,按工序,例如前浴﹑彩色显影﹑***定影﹑漂白﹑二次定影﹑稳定浴等顺序排列组合。以显影槽中容片量为L,显影时间为T,则洗片机生产率或机速P=L/T。各化学工序之间设有水洗槽,冲洗影片上前道工序的残液。徐州质量涂胶显影机厂家直销
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