显影是在正性光刻胶的曝光区和负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解,在光刻胶上形成三维图形的一种光刻技术。技术简介显影是在硅片表面光刻胶中产生图形的关键步骤。光刻胶上的可溶解区域被化学显影剂溶解,将可见的岛或者窗口图形留在硅片表面。最常见的显影方法是旋转、喷雾、浸润,然后显影。硅片用去离子水冲洗后甩干。显影过程如图1 [1]所示,非曝光区的光刻胶由于在曝光时并未发生化学反应,在显影时也就不会存在这样的酸碱中和,因此非曝光区的光刻胶被保留下来。经过曝光的正胶是逐渐溶解的,中和反应只在光刻胶的表面进行,因此正胶受显影液的影响相对比较小。对于负胶来说非曝光区的负胶在显影液中首先形成凝胶体,然后再分解,这就使得整个负胶层都被显影液浸透。在被显影液浸透之后,曝光区的负胶将会膨胀变形。传动系统是引导印版运行的驱动装置。江阴优势涂胶显影机按需定制
根据不同影片,例如黑白底片﹑黑白正片﹑彩色底片﹑彩色正片﹑反转翻底片等等的加工工艺要求,设置洗片机的药液槽及药液循环系统。药液槽用不锈钢﹑工程塑料或硬橡皮制成,槽中有片架,胶片成螺旋形片环穿于片架上并浸没在药液里。各工序根据不同的时间要求,设置容片量不同的单槽,或者容量相同而数量不同的槽子,按工序,例如前浴﹑彩色显影﹑***定影﹑漂白﹑二次定影﹑稳定浴等顺序排列组合。以显影槽中容片量为L,显影时间为T,则洗片机生产率或机速P=L/T。各化学工序之间设有水洗槽,冲洗影片上前道工序的残液。江阴优势涂胶显影机按需定制本文的烘干是干燥了,绝非烤版。
例如:东芝163数码复合机,感光鼓表面被充上-440V的负电荷,当有图像区域被曝光后,白色背景区未被曝光而保留-440V的负电荷,灰**域虽被曝光但因光照不强,而保留-300V左右的负电荷,黑**域被完全曝光,电荷消失,页只保留很少的负电荷。而加在显影辊上的显影偏压是-340V,这样,白色背景区域的电势高于显影偏压而碳粉未被转移;灰**域低于显影偏压40V而有少量碳粉转移;黑**域的电势与显影偏压之间相差较大,所以有更多的碳粉被转移到感光鼓上。这就完成了显影过程了。 [2]
??高清显影,细节尽显配备高精度显影系统,通过智能算法优化曝光参数,即使在微缩化的电路图案中,也能清晰呈现每一个细节,有效减少缺陷率,提升产品良率。每一次显影,都是对完美的一次致敬。??智能自动化,效率倍增集成先进的自动化控制系统,从材料加载到成品输出,全程无需人工干预,大幅提升生产效率。智能调度与故障预警功能,确保生产流程无缝衔接,让高效与稳定同行。??绿色节能,可持续发展我们深知环保的重要性,因此,本机设计充分考虑能源效率,采用低能耗组件与优化循环冷却系统,减少能源消耗与废弃物排放,助力企业迈向绿色制造之路。涂胶系统主要功能是在显影后的版面上涂上一层均匀的保护胶。
系统还设有紧急停止按扭,可手动、自动停止;机器人支承架工作范围内装有光栅安全系统,在故障或异常情况下报警信号灯亮,系统紧急停止,在手动状态下排除报警后系统方可继续运行;有自动记忆功能,在停电或故障情况后可继续完成工作。此系统的工艺流程如图4。此涂胶系统的控制部分选用德国数控系统。1 有8种操作方式:MDI、程序输入、图形功能、单步、自动、外部数据通讯、程序管理和示教方式。还可开发用户自己的界面。2 有常用的G代码:G00、G01、G02、G03、G04、G0、G06。3 图形功能:图形功能非常方便,图形的开始点通过按键可任意移动,图示有单步图示,图示部分程序段和对工件进行缩小和放大进行图示。所有功能通过按键可以实现显影机一般由传动系统、显影系统、冲洗系统、烘干系统、程序控制系统等部分组成。江阴优势涂胶显影机按需定制
堆叠式高产能架构:一些先进的涂胶显影机采用堆叠式设计,提高了生产效率,同时占地面积相对较小。江阴优势涂胶显影机按需定制
4 **小执行单位:X轴1μM,Z轴1μM。5 有***值编程(G90)和增量值编程(G91),软限位(G67和G68)。6 有宏指令和参数编程。CNC有极强的二次开发能力和高度开放的PLC功能。7 由于采用高速CPU和段预读功能,保持程序段间无停顿,连续匀速运动。8 用口令来***对机械数据的操作和程序输入,输出,删除,复制,CNC的操作非常简便。CNC硬件上的优点:1 CNC是双CPU。一个是工业用MOTOROLA公司的M68000系列32位单片机。它用于各种插补运算。一个是Z80单片机。它用于图形和键盘功能。江阴优势涂胶显影机按需定制
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