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电路板沉铜药剂生产商

来源: 发布时间:2021-10-16

闪蚀STM-210药液,利用电解铜基材的半加成法,对基底铜进行优先蚀刻,从而抑制了线幅的缩小。对导线侧面从上端(Top)到基底(Bottom)进行均一的蚀刻,从而得到没有侧蚀及细的导线上端的,理想的导线形状。由于是H2O2/H2SO4系的蚀刻液,所以药液的稳定性好,药液的管理容易。如果使用浓度管理装置的话,药液的质量管理就会变得更容易。微蚀稳定剂ME-3001可形成细致均匀的微蚀微观界面,其槽液耐氯离??可达50PPM;耗量小(600-800ft2/L),?作液溶铜量?,微蚀速率稳定。可有效去除板面氧化物、增强内层油墨、防焊干膜及FPC覆盖膜与板面的结合?。线路电镀中阳极的耗铜量较少,在蚀刻过程中需要去除的铜也较少。电路板沉铜药剂生产商

一铜剥挂加速剂_BG-3006药水可通过一日内分析一至两次,来实现浓度控制,分析硫酸,双氧水或铜离子渡度是为了控制反应过程,当铜的浓度达到50-60g/L时,需换槽或一个月换槽一次。每班分析补加H2O2,同时添加BG-3006;H2O2,BG-3006按1:0.3-0.5添加。在正常操作条件下,微蚀速率为300±100u〞/min。根据需要微蚀速率也可通过调整H2O2、H2SO4、温度浓度来完成。建议剥挂槽前段尽量使用纯水洗,也可用自来水洗,但需避免过多污染物带入槽液,影响微蚀速率及槽液寿命,同时不能接触无机酸性或还原试剂。FPC清洗药水零售价蚀刻添加剂HAL-8007能大幅提高蚀刻工艺能力,使用简单方便。

本发明环保剥镍钝化剂具有绿色环保、退镀速度快、便于清洗、废水易处理等特点,通过各组分的合理配比,在满足生产要求的同时很大降低了对环境的污染,通过三乙醇胺等添加剂的使用可以在退镀过程中无需再使用其他酸性物质调整PH,可以在退镀作业时简化操作,为本产品的应用推广增加便利性。化学镍金是通过化学反应在铜的表面置换钯再在钯核的基础上化学镀上一层镍磷合金层,然后再通过置换反应在镍的表面镀上一层金。化镍金的沉金有置换和半置换半还原混合建浴两种工艺。

化学镀镍PCB药液溶液是一个热力学不稳定体系,常常在镀件表面以外的地方发生还原反应,当镀液中产生一些有催化效应的活性微粒——催化关键时,镀液容易产生激烈的自催化反应,即自分解反应而产生大量镍-磷黑色粉末,导致镀液寿命终止,造成经济损失。在镀液中加入一定量的吸附性强的无机或有机化合物,它们能优先吸附在微粒表面压制催化反应从而稳定镀液,使镍离子的还原只发生在被镀表面上。但必须注意的是,稳定剂是一种化学镀镍毒化剂,即负催化剂,稳定剂不能使用过量,过量后轻则降低镀速,重则不再起镀,因此使用必须慎重。电镀镍金是PCB表面处理工艺的鼻祖,自从PCB出现它就出现,慢慢演化出其它工艺。

在化学镀PCB药液溶液中加入一些加速催化剂,能提高化学镀镍的沉积速率。加速剂的使用机理可以认为是还原剂次磷酸根中氧原子被外来的酸根取代形成配位化合物,导致分子中H和P原子之间键合变弱,使氢在被催化表面上更容易移动和吸附。也可以说促进剂能起活化次磷酸根离子的作用。常用的加速剂有丙二酸、丁二酸、氨基乙酸、丙酸、氟化钠等。在化学镀镍溶液中,有时镀件表面上连续产生的氢气泡会使底层产生条纹或麻点。加入一些表面活性剂有助于工件表面气体的逸出,降低镀层的孔隙率。常用的表面活性剂有十二烷基硫酸盐、十二烷基磺酸盐和正辛基硫酸钠等。铝蚀刻液STM-AL10此化学品为酸性,且为具毒性的化学品,避免直接接触皮肤跟眼睛。标准型洗网水型号

蚀刻液可作为蚀刻玻璃的主要原料,一般选用工业品。电路板沉铜药剂生产商

PCB药水加入氨水时,可以观察到蓝色镍氨络离子出现,随即扩散时蓝色消失,说明氨水对化学镍是良好的PH调整剂。在加入氢氧化钠溶液时,槽液立即出现白色氢氧化镍沉淀粉末析出,随着药水扩散,白色粉末在槽液的酸性环境下缓慢溶解。所以,当使用氢氧化钠溶液作为化学镀的PH调整剂时,其配制浓度不能太高,加药时应缓慢加入。否则会产生絮状粉末,当溶解过程未彻底完成前,絮状粉末就会出现镍的沉积,必须将槽液过滤干净后,才可以重新开始生产。在化学镍沉积的同时,会产生亚磷酸盐(HPO3)的副产物。电路板沉铜药剂生产商

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