化学镀镍PCB药液溶液中的主盐就是镍盐，一般采用氯化镍或硫酸镍，有时也采用氨基磺酸镍、醋酸镍等无机盐。早期酸性镀镍液中多采用氯化镍，但氯化镍会增加镀层的应力，现大多采用硫酸镍。目前已有介绍采用次亚磷酸镍作为镍和次亚磷酸根的来源，一个优点是避免了硫酸根离子的存在，同时在补加镍盐时，能使碱金属离子的累积量达到较小值。但存在的问题是次亚磷酸镍的溶解度有限，饱和时只为35g/L。次亚磷酸镍的制备也是一个问题，价格较高。如果次亚磷酸镍的制备方法成熟以及溶解度问题能够解决的话，这种镍盐将会有很好的前景。PCB电子化学品的不断革新伴随着整个PCB制板技术发展史。蚀刻护岸剂生产基地

随着生产的进行，亚磷酸盐浓度会越来越高，于是反应速度受生成物浓度的长高而压制，所以镍缸寿命末期与初期的沉积速度相差1/3则为正常现象。但此先天不足可采用调整反应物浓度方式予以弥补，开缸初期Ni浓度控制在4.60g/L，随着MTO的增加Ni浓度控制值随之提高，直至5.0g/L停止。以维持析出速度及磷含量的稳定，以确保镀层品质。影响镍缸活性重要的因素是稳定剂的含量，常用的稳定剂是Pb(CH3COO)2或硫脲，也有两种同时使用的。稳定剂的作用是控制化学镍金的选择性，适量的稳定剂可以使活化后的铜面发生良好的镍沉积，而基材或绿油部分则不产生化学沉积。杭州退挂剂化学镀是一种新型的金属表面处理技术。

影响钯缸稳定性的主要原因除了PCB药水系列不同之外，钯缸控制温度和钯离子浓度则是首要考虑的问题。温度越低，钯离子浓度越低，越有利于钯缸的控制。但不能太低，否则会影响活化效果，引起漏镀发生。通常情况下，钯缸温度设定在20~30℃，其控制范围应在±1℃，而钯离子浓度则控制在20~40ppm，至于活化效果，则按需要选取适当的时间。当槽壁及槽底出现灰黑色的沉积物，则需硝槽处理。其过程为﹕加入1﹕1硝酸，启动循环泵2小时以上或直到槽壁灰黑色沉积物完全除去为止。

由于不同的制板所需的活性不同，为减轻化学镍金的镍缸控制的压力(即增大镍缸各参数的控制范围)，可以考虑采用不同的活化时间，例如正常生产Pd缸有一个时间，容易渗镀的制板另设定活化时间。这样一来，则可以组合成六个程序来进行生产。需要留意的是，对于多程序生产，应当遵循一个基本原则，就是所有程序飞巴的起始位置必须保持一致，否则连续生产中切换程序容易造成过多的麻烦。镍缸的循环量一般设计在5~10turn over(每小时)，布袋式过滤应优先选择考虑。摇摆通常都是前后摆动设计，但对于laser盲孔板，镍缸和金缸设计为上下振动为佳。PCB药液开始由非环保型逐步向环保型发展。

PCB药液电镀的前处理柔性印制板FPC经过涂覆盖层工艺后露出的铜导体表面可能会有胶黏剂或油墨污染，也还会有因高温工艺产生的氧化、变色，要想获得附着力良好的紧密镀层必须把导体表面的污染和氧化层去除，使导体表面清洁。但这些污染有的和铜导体结合十分牢固，用弱的清洗剂并不能完全去除，因此大多往往采用有一定强度的碱性研磨剂和抛刷并用进行处理，覆盖层胶黏剂大多都是环氧树脂类而耐碱性能差，这样就会导致粘接强度下降，虽然不会明显可见，但在FPC电镀工序，镀液就有可能会从覆盖层的边缘渗入，严重时会使覆盖层剥离。在较终焊接时出现焊锡钻人到覆盖层下面的现象真空镀膜主要包含：真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种典范。常州无卤素油墨剥除液

电镀铜层具有良好的导电性、导热性和机械延展性优点，是印制电路板制造中不可缺少的关键电镀技术之一。蚀刻护岸剂生产基地

印制电路板能形成工业化、规模化生产，较主要是由于国际上一些有名公司在20世纪60年代推出的有关化学PCB药液的配方以及胶体钯配方。印制电路板通孔采用化学镀铜为其工业化、规模化生产以及自动化生产打下良好的基础。它也成为被各生产企业所接受的印制电路板制作基础工艺之一。覆铜箔板一钻孔一去毛刺一表面清整处理一弱腐蚀一活化一化学镀铜一全板镀铜一蚀刻电镀图形成像一图形电镀铜一镀锡铅或镍金一退除抗蚀剂一蚀刻一热熔一涂阻焊层覆铜箔板一钻孔一去毛刺一表面清整处理一弱腐蚀一活化一化学镀铜一全板镀铜一贴膜或网印一蚀刻一退抗蚀剂一涂阻焊剂一热风整平或化学镀镍金。蚀刻护岸剂生产基地

苏州圣天迈电子科技有限公司致力于化工，是一家生产型的公司。公司业务分为铜剥挂加速剂，蚀刻添加剂 ，剥镍钝化剂，印制电路板蚀刻液在线循环等，目前不断进行创新和服务改进，为客户提供良好的产品和服务。公司将不断增强企业重点竞争力，努力学习行业知识，遵守行业规范，植根于化工行业的发展。圣天迈电子凭借创新的产品、专业的服务、众多的成功案例积累起来的声誉和口碑，让企业发展再上新高。