派瑞林真空镀膜1.试验温湿度金属腐蚀的临界相对湿度大约为70%。当相对湿度达到或超过这个临界湿度时，盐将潮解而形成导电性能良好的电解液。当相对湿度降低，盐溶液浓度将增加直至析出结晶盐，腐蚀速度相应降低。温度升高，分子运动加剧，高盐雾腐蚀速度越快。国际电工委员会指出：温度每升高10℃，腐蚀速度提高2～3倍，电解质的导电率增加10～20%。对于中性盐雾试验，一般认为试验温度选在35℃较为恰当。2.溶液的浓度浓度在5%以下时，钢、镍、黄铜的腐蚀速度随浓度的增加而增加；当浓度大于5%时，这些金属的腐蚀速度却随着浓度的增加而下降。这是因为，在低浓度范围内，氧含量随盐浓度的增加而增加；当盐浓度增加到5%时，氧含量达到相对的饱和，如果盐浓度继续增加，氧含量则相应下降。氧含量下降，氧的去极化能力也下降即腐蚀作用减弱。对于锌、镉、铜等金属，腐蚀速度却始终随着盐溶液浓度的增加而增加。3.样品的放置角度盐雾的沉降方向是接近垂直方向的，样品水平放置时，它的投影面积较大，样品表面承受的盐雾量也较多，因此腐蚀较严重。研究结果表明：钢板与水平线成45度角时，每平方米的腐蚀失重量为250g，钢板平面与垂直线平行时，腐蚀失重量为每平方米140g。

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派瑞林（Parylene）纳米涂层特点派华科技纳米有限公司提供的派瑞林（Parylene）纳米涂层是一种无色透明，无毒无害，不易燃的防潮防湿防腐蚀的纳米镀膜产品。根据不同产品，使用不同型号的涂料，普通使用的涂层厚度大概是2um左右。该镀膜工艺广泛应用于：电子数码产品、电子元器件、PCBA板、精密马达、轴承、精密仪器等产品。派瑞林（Parylene）镀膜工艺通过化学气相沉积（CVD）工艺原理即派瑞林（Parylene）涂层工艺是使用化学气相沉积（CVD）工艺在真空下沉积的。派瑞林（Parylene）的（CVD）工艺分为三个步骤（升华，热解，沉积）。首先，将二聚体（具有两个重复单元的前体）升华。下一步，在高于＞500°C的温度下通过热解将二聚体裂解为两种单体。之后，单体在基材表面（以及腔室表面）上聚合，形成线性聚合物链。较后一步在室温下进行，得到派瑞林（Parylene）保形涂层。派瑞林（Parylene）原料满足ROHS认证，无毒无刺鼻气味，满足环保要求；可进行批量加工，PCBA线路板不需要一片一片地喷涂；镀膜完成后无需固化。将三防漆的缺陷一一攻克，其工艺图解如下：湖州PVD真空镀膜电镀超薄涂层，可绝缘耐压，重量轻，纳米级真空镀膜。

    传统水电镀由于污水处理成本高、能耗高，水资源的浪费多，环境污染大等原因，已经被国家及各级地方所限制发展。而真空镀膜设备能够替代传统水电镀的表面处理方法，使传统水电镀进行技术升级改造。下面来了解看看它相较传统水电镀有哪些优势吧。1.无环境污染因为所有的镀层材料都在真空环境下，通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境没有危害。2.节约金属材料因为真空涂层附着力、硬度、致密度以及耐腐蚀性能等非常优良，沉积的镀层厚度可以远远小于常规湿法电镀镀层，达到节约材料的目的。3.沉积材料可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属，通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层，而且可以根据需要设计涂层体系。真空镀膜设备既符合国家环保政策，又可以满足产品出口的要求，同时提高出口产品的附加值。随着社会不点的进步，真空电镀将会成为主流是必然的发展趋势。

    在电子产品表面沉积一层致密的防护膜，该膜层有较低的水汽透过率，可起到较好的阻隔水氧的作用。经派瑞林涂敷后的电子产品即便在有腐蚀性的环境中工作，也能够有效的阻隔，真正意义上完成对电子产品的防腐蚀效果。"聚对涂敷是由活性的对双游离基小分子气在印制电路组件外观沉蕴蓄合完成。气态的小分子能渗透到包括贴装件下面任何一个微小缝隙的基材上沉积，形成分子量约50万的高纯聚合物。它没有助剂、溶剂等小分子，自己的化学惰性也不会对基材形成危险。厚度均匀的防护抹层和的性能相结合，使聚对涂层需：甚至经过盐雾试验，印制电路组件的外观绝缘电阻都不会有很大改变，而且，较薄的涂层对元器件工作时所产生热量的消失也特别很是有利。另外，因为聚对分子结构对称性较好，使它在较高的颇率下仍有较小的介质损耗和介电常数，它的这种高频低损耗特征使它为高频微波电路的可靠防护创造了条件。"散热风扇电子部分经过parylene纳米镀膜，使其可达到防潮、防水、防尘、耐酸碱、耐高电压的绝缘效果，能够达到IP等级的相关要求，是目前为止较好的防水防潮处理方式。派瑞林纳米防水，致密无孔，防护效果可以解决。Parylene涂层是在室温下在元件上自发形成的。Parylene拥有优异的介电性能，较低的介质损耗，和较高的介电强度。

    什么是派瑞林?它是一种透明无色的聚酯保护材料。适用于室温下的真空镀膜，真空镀膜压力在10-5托以下，而派瑞林镀膜工艺在。涂层的厚度可控制在1-100微米之间，该涂层是美国在60年代初开发的**，***应用于美国***印刷电路板、航空航天和水下发射装置的微电子元件领域，1972年被纳入美国***标准：MIL-I-46058C微纳米加工技术：化学气相沉积工艺（CVD）将粉末状的纳米原料放入真空纳米涂层设备的蒸发室，通过150℃-180℃的温度蒸发为气态分子，在真空（*10-2torr）作用下气态的10nm以下纳米分子进入到裂解室，在裂解室680℃-700℃的高温裂解为具有反应活性的单体，活性单体与单体之间重新聚合，形成一层致密无***的纳米膜层。 派瑞林真空镀膜 用在磁性材料镀膜：防锈，绝缘；陕西耐电压真空镀膜厂家

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    它与天然环境相比，其盐雾环境的氯化物的盐浓度，可以是一般天然环境盐雾含量的几倍或几十倍，使腐蚀速度提高，对产品进行盐雾试验，得出结果的时间也缩短。如在天然暴露环境下对某产品样品进行试验。待其腐蚀可能要1年，而在人工模拟盐雾环境条件下试验，只要24小时，即可得到相似的结果。人工模拟盐雾试验又包括中性盐雾试验、醋酸盐雾试验、铜盐加速醋酸盐雾试验、交变盐雾试验。(1)中性盐雲试验(NSS试验)是出现很早目前应用领域很广的一种加速膚蚀试验方法。它采用5%的氯化钠盐水溶液,溶液PH值调在中性范围(6~7)作为喷零用的溶液。试验温度均取35"C,要求盐的沉降率在1~2ml/80cm2h之间。(2)错酸盐零试验(ASS试验)是在中性盐雾试验的基础上发展起来的。它是在5%氯化钠溶液中加入ー些冰錯酸,使溶液的PH值降为3左右,溶液变成酸性,很后形成的盐零也由中性盐变成酸性。它的腐蚀速度要比NSS试验倍左右。(3)铜盐加速錯酸盐零试验(CASS试验)是国外新近发展起来的一种快速盐雲腐蚀试验,试验温度为50C,盐溶液中加入少量铜盐一氯化铜,强烈发膚蚀。它的腐蚀速度大约是NSS试验的8倍。2.盐雾测试具体时间换算为:中性盐零试验24h--自然环境1年,醋酸盐试验24h--自然环境3年。 黑龙江耐电压真空镀膜厂家

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