阿拉丁? ( Aladdin ? ) 是阿拉丁在全球注册的试剂品牌，致力于科研服务领域，全力打造材料科学试剂产品，助力客户的研发和创新课题计划。阿拉丁材料科学试剂中的钴基合金在所有医用金属材料中，其耐磨性好，适合于制造体内承载苛刻的长期植入件。在整形外科中，用于制造人工髋关节、膝关节以及接骨板、骨钉、关节扣钉和骨针等。在心脏外科中，用于制造人工心脏瓣膜等。医用钛和钛合金：具有良好的力学性能，而且在生理环境下具有良好的生物相容性。由于其比重小，弹性模量较其他金属更接近天然骨，故普遍应用于制造各种能、膝、肘、肩等人造关节。此外，钛合金还用于心血管系统。钛合金耐磨性能不理想，且存在咬合现象，限制了其使用范围。生物医用高分子：按应用对象和材料物理性能分为软组织材料、硬组织材料和生物降解材料。按增强体形态和性质分为纤维增强、颗粒增强、生物活性物质充填生物医用复合材料。硒化银(I) CAS：1302-09-6

阿拉丁材料科学试剂品类中的磷钨酸水合物可用作染色剂，用于十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）包被金纳米棒的透射电子显微镜（TEM）成像。它可用于制备：·磷钨酸掺杂的有机改性硅酸盐杂交网络。负载型磷钨酸（PTA）催化剂。·二氧化钛（TiO2）纳米颗粒/磷钨酸（HPW）薄膜。氢氧化钾：具强碱性及腐蚀性。极易吸收空气中水分而潮解，吸收二氧化碳而成碳酸钾。溶于约0.6份热水、0.9份冷水、3份乙醇、2.5份甘油。当溶解于水、醇或用酸处理时产生大量热量。0.1mol/L溶液的pH为13.5。中等毒，半数致死量（大鼠，经口）1230mg/kg。溶于乙醇，微溶于醚。有极强的碱性和腐蚀性，其性质与烧碱相似。硒化银(I) CAS：1302-09-6可加工性：能够成型、消毒（紫外灭菌、高压煮沸、环氧乙烷气体消毒、酒精消毒等）。

阿拉丁材料科学试剂中的量子点具有宽的激发谱和窄的发射谱。使用同一激发光源就可实现对不同粒径的量子点进行同步检测，因而可用于多色标记，极大地促进了在荧光标记中的应用。而传统的有机荧光染料的激发光波长范围较窄，不同荧光染料通常需要多种波长的激发光来激发，这给实际的研究工作带来了很多不便。此外，量子点具有窄而对称的荧光发射峰，且无拖尾，多色量子点同时使用时不容易出现光谱交叠。量子点具有较大的斯托克斯位移。量子点不同于有机染料的另一光学性质就是宽大的斯托克斯位移，这样可以避免发射光谱与激发光谱的重叠，有利于荧光光谱信号的检测。

上海阿拉丁生化科技股份有限公司，产品通过自身打造的具有重要竞争力的电子商务平台进行在线销售，订购过程方便快捷。产品基本信息在线查询（CAS号、别名、英文名、分子式、分子量、规格及纯度、密度、熔点、沸点、溶解性、敏感性、储存温度、运输条件等），产品质检证书COA、化学品安全技术说明书MSDS以及相关技术参考资料均可在线下载；同时，公司配备专业的客服团队、技术团队，提供在线咨询服务，为客户多方面解答售前咨询和售后疑问。按基材分为：高分子基、陶瓷基、金属基等生物医用复合材料。

阿拉丁材料科学试剂的高孔隙率甲基丙烯?；鹘壕哂辛己蒙锵嗳菪?，在体内外成像、示踪、材料降解、生物传感及3D打印工艺等领域有广阔的应用前景。应用：荧光标记的GelMA材料，有红、绿、蓝三种荧光颜色，用于材料示踪、3D打印结构研究等领域。注意：GelMA溶液具有温敏性，室温放置会形成可逆的物理凝胶，37℃以上加热可恢复溶液状态；在配制不同浓度荧光GelMA时，浓度越高，相应荧光强度越高，若要降低荧光强度，可将荧光GelMA与普通GelMA按一定比例混合使用。甲基丙烯?；蛩崛砉撬厥且恢止饷羯锊牧?；CSMA与蓝光或紫外光引发剂配合使用，可在蓝光或紫外光作用下交联固化；CSMA配制的浓度越高，固化后的硬度也越大；CSMA具有良好的生物相容性，可与细胞混合后进行生物3D打印。医用碳素材料：具有接近于自然骨的弹性模量，医用碳素材料疲劳性能较优，强度不随循环载荷作用而下降。十六烷二酸 CAS：505-54-4

材料科学试剂侧重于新型材料的合成与制备、材料的改性和新型材料的收集，为科研活动提供研发素材。硒化银(I) CAS：1302-09-6

阿拉丁材料科学试剂包括替代能源、生物材料、金属与陶瓷材料、纳米材料、有机与印刷电子材料、高分子材料、有机/无机杂化材料、3D生物打印材料等。阿拉丁材料科学试剂品类中的电子材料--正硅酸四乙酯 Silicon tetraacetate，电子级,99.999999% metals basis，别名 乙酸硅;四醋酸硅，CAS编号 562-90-3，分子式 C8H12O8Si，分子量 264.261，需-20°C储存，冰袋运输。产品理化性质：无色透明液体，熔点－77℃，沸点168.5℃，密度0.9346g/ml。它对空气较稳定；微溶于水，在纯水中水解缓慢；在酸或碱的存在下能加速水解作用。产品用途：主要用于晶圆制造过程中的化学气相沉积（CVD）制程，用于生成二氧化硅薄膜。是半导体、分立器件、微机电系统（MEMS）制造所需的电子化学品。是硅烷及其他易燃硅源的替代品。硒化银(I) CAS：1302-09-6

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