对表面凹凸材料具有高追随性，高缓冲性。产品情报散热相关产品超导导热垫片【MANION系列】利用磁场排向技术生产的高热传导率碳纤维，同时实现柔软性和密着性的一种散热垫片。产品情报散热相关产品超导导热垫片【TIMLIGHT高导热系列】将碳纤维重新配向至Z方向，具高导热性的碳纤维片。产品情报成型品可吸收振动和冲击的热固性橡胶【G-Polstar】硬度大，阻尼变化大，阻燃UL94。产品情报成型品导电，支架集成式连接器【麦克风支架连接器】支架和连接器集成在一起。易于组装，免焊接。产品情报成型品橡胶连接器，用于电连接和接地（粘接固定）【粘性（PSA）接点连接器】橡胶连接器，带有集成的绝缘和导电部件。由于具有粘性，安装简便（PSA：压敏胶）。产品情报成型品橡胶连接器，用于电气连接和接地（焊接安装）【SMT用点连接器】带有集成绝缘和导电部件的橡胶连接器，通过回流焊安装。由于具有粘性，所以易于安装（SMT：表面安装技术）。sekisui积水胶带，5220PSB型号齐全！江苏高温积水胶带代理

可以在低温条件下快速粘合遮光基板的UV硬化粘着剂1.产品特征固化将在紫外线照射后几分钟内开始。通过在低温下短时间加热，可以在短时间内固化。低排气，高水蒸气屏蔽性2.硬化滞后的工序涂抹粘着剂→UV光照射→未硬化的状态下粘合→加热至完全硬化3.使用例1后硬化不透光部位的粘合，塑料材质的粘合，不宜受热的OLED的封口2低透湿OLED显示屏的防潮框胶【OLED显示屏的构造（顶部排放类型）】硬化（UV，加热）时以及硬化后的加热过程中几乎不生成气体半导体（MEMS，CCD)的封口低排气可实现坚固且高度精确的粘合※精密间隔控制添加材料：MicropearlSP/GS兼用塑料材质基材的粘合光学零件的粘合硬盘、筐体周边的密封（防潮性）和内部的粘合（低排气）半导体（MEMS，CCD相机模组）佛山绝缘积水胶带sekisui积水3808胶带，型号齐全！

无芯电机线圈用成壁材料3D实装材料（成壁材料）用于线圈绝缘膜时的结构特征提高线圈功率的效率通过将铜（Cu）绝缘膜变薄使线圈高密度话，从而实现提高线圈功率的效率。降低生产成本因为不需要做曝光显影处理，因此可以简化工艺，达到减少使用材料来实现降低生产成本的目的。也可以应用于无线供电系统的线圈。粘合剂材料摄像头用玻璃胶使用3D实装材料时的结构特征摄像头模组薄型化，降低成本实现了粘合剂的精细喷涂，因此不再需要玻璃固定用外壳，从而使?？楦?，达到降低成本的目的。MEMS用气腔形成剂使用3D实装材料（粘合剂）时的结构特征封装变薄由于不再需要传统结构中的用于形成气腔的薄膜，因此可以将封装做得更薄。简化工艺可以通过在组装过程中形成气腔，从而达到简化工艺的目的。

，变异系数（Cv）≤7％，可均匀控制间隙。在2um-600um的范围里具有丰富的粒径选择。产品情报微粒子塑料芯金属涂层颗粒【MicropearlAU】在拥有均一分布粒径的微粒子的基础上，镀一层金属层，可以控制粒子的硬度和反弹力。产品情报微粒子高精密度均一微粒子【MicropearlEX】相较于SP系列的微粒子，EX系列的粒径分布更加均一，可以更加的控制厚度，具有的耐电压性，耐热性以及耐腐蚀性。产品情报微粒子硬塑料材质均一树脂微粒子【MicropearlEXH】高硬度的塑料颗粒在压力下具有良好的尺寸稳定性，与无机颗粒相比，对基材的损害较小，并能防止在树脂中沉淀。产品情报微粒子低复原率柔软均一树脂粒子【MicropearlEZ】由于该产品相对柔软，可以吸收周围的噪音震动，减少对基板的损害。sekisui积水胶带，5260NSB型号齐全！

Au等）特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/：180度剥离UV照射：1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热，高附着力，易剥离的UV胶带，用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。UV剥离胶带高耐热，高粘附力，易剥离的双面UV胶带，用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時，保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶；透过UV照射产生气体，剥離時可减少對设备的损伤。sekisui积水5210胶带，型号齐全！东莞5600积水胶带批发

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UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺SELFA-MP电镀工程中的背面?；び玫慕捍?，UV照射后产生GAS，可以从接着体上剥离开来。特征UV照射后粘着剂自行产出氮气使粘力下降，可在晶圆不受外力的情况下实现自行剥离。用途晶圆化学镀UBM时的背面?；つ?、防止晶圆在剥离中受损用途例镀UBM的工艺适用前处理(alkali碱溶液，PH9）后处理（强酸，强碱）镀金属处理（Ni，Au等）特性一般物性项目单位胶带厚度基材25μm粘着剂30μm项目单位SUSSiWafer金粘着力初期N/25mm15.514.110.5UV照射后N/25mm000粘合力：180度剥离UV照射：1000MJ晶圆/芯片制造工艺相关产品一览产品分类产品名特征UV剥离胶带耐热，高附着力，易剥离的UV胶带，用于半导体工艺【SELFAHS】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。在各种PKG制造过程中可?；て骷砻娌⒁种魄糖?。UV剥离胶带高耐热，高粘附力，易剥离的双面UV胶带，用于临时键合工艺【SELFAHW】结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV剥离胶带。用于玻璃乘载工艺時，保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。UV剥离胶带UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺【SELFA-MP】具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶；透过UV照射产生气体，剥離時可减少對设备的损伤。江苏高温积水胶带代理