创新性的解决方案：芯弃疾JX-8B数字ELISA应用范围：各种高灵敏多重免疫检测，可替代各种ELISA试剂盒，及其他免疫检测产品。蛋白质生物标志物在区分健康和疾病状态方面的临床应用，而监测疾病进展则需要测量复杂样品中的低浓度蛋白质。目前的免疫测定方法测量的是蛋白质的浓度高于10?12M，6而大多数在病症7、神经疾病8,9和接触早期阶段10中重要的蛋白质的浓度被认为在10?16到10?12M之间。需要提高灵敏度的例子包括：一个由一百万个细胞组成的1毫米3疾病，每个细胞分泌5000种蛋白质到5升液体中。Simoa®由现任于哈佛大学医学院的DavidWalt教授作为科学创始人于2007年创立。DavidWalt是美国的工程院，艺术院和医学院三院院士。2010年，DavidWalt将Simoa®技术以封面文章的形式发表在《NatureBiotechnology》上，此技术开始为大众所知并引起业界轰动。Simoa技术（Single-moleculeArray，Quanterix公司）特点是通用阵列化检测，实现超高的灵敏度，较传统ELISA方法能够高出3个数量级，达到飞克级别(fg/ml)甚至更低。已拿阿兹海默症的两个FDAbreakthroughdevice；通常用于各种科研方向：神经因子、蛋白组学、细胞因子等。 芯弃疾芯片可检测血清中 NfL 等较低丰度神经因子，助力阿尔茨海默症早期筛查。亚皮克级数字ELISA微量试剂

芯弃疾JX-8B数字化高灵敏ELISA芯片检测产品，与sioma产品的区别：

simoa产品为什么很难普及：主要问题：效果好、但成本高、平台庞大、不灵活、不开放；大部分实验室买不起设备！即使公用平台上了设备，大部分课题组也用不起耗材试剂！仪器：巨大，价格>300万；芯片+试剂：每套1万元以上；

Simoa的技术方案很难小型化，大部分反应流程都在芯片外进行，必须依赖大型自动化设备，与大部分生物实验室、医学实验室的灵活、低成本使用场景不符。 单分子检测数字ELISA准确宽芯弃疾JX-8B数字ELISA，每个医学实验室都能用的单分子检测；

自动化检测与数据算法的深度融合：芯弃疾芯片搭载四参数Logistic曲线拟合（方程：y=(A-D)/[1+(x/C)^B]+D）与二次回归算法（y=a+bx+cx2），确保荧光信号与浓度的高度线性关联（r2≥0.999）。以IL-6检测为例，自动版设备通过AI驱动图像分析（CNN网络），识别磁珠荧光强度（CV<3%），比较低检测限达0.5pg/mL，较手动操作灵敏度提升2倍。在质量控制中，芯片内置内参校准通道（如β-actin），自动校正批次间差异，使检测重复性（CV<5%）达到ISO15189标准。此外，数据平台支持云端存储与多中心结果比对，为大规模流行病学研究（如10万人队列）提供标准化数据支持。

芯弃疾JX-8B数字ELISA产品

每个生物实验室都用得起的单分子免疫检测

由于活性珠子的百分比接近50%（酶与微球的比例大于~1：1.5)，然而，使用图像分析软件区分“开启”和“关闭”孔变得具有挑战性，我们达到了数字动态范围的实际上限。例如，图2中7fM(~45%活性）的信号偏离了线性。因此，这里使用50,000个孔展示的数字线性动态范围是从3.5fM到350zM，即大约四个对数单位。前提是蛋白质使用适当的酶浓度进行标记，这种动态范围对于许多临床应用来说是足够的 数字 ELISA 芯片标准化生产流程严格，成品质检全检，良品率稳定在 98% 以上。

芯弃疾JX-8B数字化高灵敏ELISA芯片检测产品为什么能做到？

先进新型的单分子检测方法的普及版；每个生物/医学实验室都用得起的单分子免疫检测；使用现有平台就能做的单分子免疫检测且具有以下特点：多重、超敏微量、极速灵活、开放；

我们的芯弃疾.单分子ELISA产品：同样的单分子技术方案，但创新性芯片方案，主要过程均芯片上完成，只有需搭配简单小型实验室设备，或实验室常见已有设备；实现单分子检测方案的小型化、灵活使用、低成本。更符合国内实验室的各种科研使用场景 微量样本超多重检测芯片兼容血清、血浆、房水等多种样本类型，应用场景广。芯弃疾-勃望初芯数字ELISA准确宽

芯弃疾JX-8B数字ELISA，极速检测，检测步骤只需要3次操作，远远快于常规ELISA；亚皮克级数字ELISA微量试剂

创新性的解决方案：芯弃疾JX-8B数字ELISA

我公司推出的数字化高灵敏ELISA芯片检测产品应用场景：适合生物实验室、医学实验室、科研市场、产品预研、产品开发、ELISA检测、动物病情检测等各种应用场景应用范围：各种高灵敏多重免疫检测，可替代各种ELISA试剂盒，及其他免疫检测产品。

将约5cm长的光纤束依次抛光使用30微米、9微米和1微米尺寸的金刚石研磨膜的机器。抛光光纤在0.025M盐酸溶液中化学蚀刻130秒，然后立即浸入水中以抑制反应。蚀刻后的光纤在水中复溶5秒，在水中洗涤5分钟，然后在真空下干燥。光纤束阵列的中心玻璃和包层玻璃的蚀刻速率差异caused4.5-μmdiameter孔在中心光纤中形成30。更初研究了不同蚀刻时间对孔深的影响。如果孔太深，则每个孔中沉积多个微珠。井口密封性被破坏；如果井口太浅，则无法将微球保留在井内，且观察到加载效率较差。对于单个微球而言，井口深度of3.25±0.5μm是比较好的，同时保持良好的密封性。 亚皮克级数字ELISA微量试剂