然而,纳米油墨制备过程中存在重要的工艺问题,就是纳米材料的分散问题。尤其是水性纳米油墨,由于碳粉或其他颜料分子的疏水作用,纳米级材料在水系溶剂很快团聚成微米颗粒,极大的影响了油墨的质量。迈克孚微射流?高压均质机是一种利用高压微射流技术实现纳米材料分散的精密装备。迈克孚供应的微射流高压均质机利用成熟稳定的液压增压技术,在柱塞泵的作用下将液体或固液混悬物料增压,凭借准确的压力调节使物料压力增压到20Mpa至300Mpa之间设定的压力值。被增压的物料,射向具有固定几何形状的金刚石微通道并产生超音速微射流,超音速微射流物料在特定几何通道内受到每秒千万次的物理剪切、对撞、空穴效应、急剧压力降等物理作用力,从而实现纳米材料的分散。微射流技术以恒定的压力和独特设计的交互容腔可以确保物料的每一毫升体积都得到同样的均质,所以重现性非常好。微射流技术有成熟的生产设备,且从小试到生产都是用相同的微通道,只是将通道数并列增加,因此用户在后续产能放大时较为容易,节省研发时间及费用。近日,有客户在迈克孚利用微射流均质机进行了油墨从微米级到纳米级的分散测试,取得了满意的效果,处理完成后,粒径分布D50保持在100nm以下。微射流均质机具备工艺流程稳定和均质结果重复性高的特点,确保了实验结果的可靠性。绍兴生产型微射流均质机是什么
作为保湿神器,国内外的厂商都有在使用它,比如雅顿、CeraVe、DHC、薇诺娜、珀莱雅等。如果能使用较合适的方法和剂量外用神经酰胺,可以使神经酰胺等细胞间脂质得到补充,从而达到抗皱屏障修复等效果,但是神经酰胺的使用并非是件手到擒来的事,主要原因是:神经酰胺的重结晶现象是天然存在的现象,直接添加到化妆品中的神经酰胺结晶析出会凝结、絮凝分层等现象,严重影响产品质量和吸收效果;由于其溶解度很低,非常难在配方中高含量添加神经酰胺,产品中往往达不到需求剂量,这就非常影响我们在使用神经酰胺时的实际功效;对于面膜、精华、化妆水等透明度和粘稠度较低的产品,使用神经酰胺是非常困难的。人体的角质层细胞间隙只有几纳米到几十纳米,外用的神经酰胺非常难以渗透到角质层深层,因而难以实现高效吸收利用。浙江超高压微射流均质机技术参数在食品加工行业,微射流均质机常用于果汁、乳制品等产品的均质化处理,提高产品的口感和稳定性。
例如陈琼玲等人使用高压微射流法制备了白藜芦醇纳米脂质体,其比较好制备工艺为卵磷脂/VE=10∶1,卵磷脂/白藜芦醇=11.6∶1,卵磷脂/胆固醇=10.5∶1,微射流压力18366PSI,循环次数3次。在此条件下制得白藜芦醇纳米脂质体的包封率为87.74%±1.01%,平均粒径为78.31nm±1.37nm,Zeta电位为-55.5mV。该方法制得的白藜芦醇纳米脂质体包封率高、粒径小、分布范围窄,且体系稳定(陈琼玲,刘红芝,刘丽,王强-高压微射流法制备白藜芦醇纳米脂质体[J].JournalofNuclearAgriculturalSciences,2015,29(5):0916~0924)。迈克孚微射流®高压均质机是利用百微米左右孔道形成两束超音速射流相互对撞进行极强烈的剪切,空穴作用,从而实现微粒化,具有对活性物损伤小、颗粒均匀度高、批次放大稳定性好等优点,高压微射流也是目前制药行业用于制备注射脂质体的主要设备。
迈克孚微射流®高压均质机是一种利用高压微射流技术实现纳米材料分散的精密装备。迈克孚供应的微射流高压均质机利用成熟稳定的液压增压技术,在柱塞泵的作用下将液体或固液混悬物料增压,凭借准确的压力调节使物料压力增压到20Mpa至300Mpa之间设定的压力值。被增压的物料,射向具有固定几何形状的金刚石微通道并产生超音速微射流,超音速微射流物料在特定几何通道内受到每秒千万次的物理剪切、对撞、空穴效应、急剧压力降等物理作用力,从而实现纳米材料的分散。高压微射流均质机在LTCC制备工艺中控制粒径,能够在流延后提高生瓷带的致密性和厚度的均匀性,同时能能够降低烧结温度以及提高烧结的一致性(图1),在LTCC低温共烧陶瓷制备领域具有广阔的前景。微射流均质机是一种先进的设备,用于实现液体的均质化处理。
微射流均质机的应用微射流均质机的应用范围非常普遍,主要包括生物医学、化学、食品、环保等领域。在生物医学领域,微射流均质机可以用于制备纳米药物、基因转染、细胞破碎等方面。在化学领域,微射流均质机可以用于制备纳米材料、催化剂、涂料等方面。在食品领域,微射流均质机可以用于制备乳制品、果汁、饮料等方面。在环保领域,微射流均质机可以用于废水处理、废气处理等方面。可以看出,微射流均质机的应用范围非常普遍,有着非常重要的应用价值。在生物医学领域,微射流均质机用于药物递送与纳米药物载体的制备,提高了药物的生物利用度和疗效。浙江超高压微射流均质机技术参数
微射流均质机具有处理能力强、操作简便、效率高等优点。绍兴生产型微射流均质机是什么
化学机械抛光(ChemicalMechanicalPolishing,CMP)技术具有独特的化学和机械相结合的效应,是在机械抛光的基础上,根据所要抛光的表面,加入相应的化学试剂,从而达到增强抛光和选择性抛光的效果。化学机械抛光技术是迄今为止可以提供整体平面化的表面精加工技术,它是从原子水平上进行材料去除,从而获得超光滑和**损伤表面,该技术广泛应用于光学元件、计算机硬盘、微机电系统、集成电路等领域。同时,CMP技术也是超精密设备向精细化、集成化和微型化发展的产物。绍兴生产型微射流均质机是什么