各种电力电子器件均具有导通和阻断两种工作特性。功率二极管是二端(阴极和阳极)器件,其器件电流由伏安特性决定,除了改变加在二端间的电压外,无法控制其阳极电流,故称不可控器件。普通晶闸管是三端器件,其门极信号能控制元件的导通,但不能控制其关断,称半控型器件。可关断晶闸管、功率晶体管等器件,其门极信号既能控制器件的导通,又能控制其关断,称全控型器件。后两类器件控制灵活,电路简单,开关速度快,广泛应用于整流、逆变、斩波电路中,是电动机调速、发电机励磁、感应加热、电镀、电解电源、直接输电等电力电子装置中的重要部件。这些器件构成装置不仅体积小、工作可靠,而且节能效果十分明显(一般可节电10%~40%)。O-220/F 带散热片的塑料封装,支持外接散热,用于中等功率场景(如家电)。什么是功率器件MOS产品选型技术指导
平面结构晶体管的缺点是如果提高额定电压,漂移层会变厚,因此导通电阻会增加。MOSFET的额定电压取决于垂直方向的漂移区的宽度和掺杂参数。为了提高额定电压等级,通常增加漂移区的宽度同时降低掺杂的浓度,但会造成MOSFET的导通电阻大幅增加。同时,也是为了克服平面MOSFET的局限性,超结MOSFET应运而生。超结MOSFET利用了一种创新的结构设计,明显降低了导通电阻,同时维持了高击穿电压。那么,接下来要重点讨论超结MOSFET(super junction mosfet)。
超结MOS(Super Junction Metal-Oxide-Semiconductor,简称SJ-MOS)是电力电子领域中广泛应用的一类功率器件,其主要特征是在传统MOSFET基础上引入了超结结构,使其在高电压、大电流条件下具备更优越的性能。超结MOS器件相较于传统的MOSFET有着更低的导通电阻和更高的耐压性能,广泛应用于高效能电力转换领域,如开关电源、逆变器、电动汽车、光伏发电等。 广西代理功率器件MOS产品选型功率器件,也被称为电力电子器件,简单来说,就是具有处理高电压、大电流能力的功率型半导体器件.
功率MOSFET的基本特性
静态特性MOSFET的转移特性和输出特性。
漏极电流ID和栅源间电压UGS的关系称为MOSFET的转移特性,ID较大时,ID与UGS的关系近似线性,曲线的斜率定义为跨导Gfs
MOSFET的漏极伏安特性(输出特性):截止区(对应于GTR的截止区);饱和区(对应于GTR的放大区);非饱和区(对应于GTR的饱和区)。电力MOSFET工作在开关状态,即在截止区和非饱和区之间来回转换。电力MOSFET漏源极之间有寄生二极管,漏源极间加反向电压时器件导通。电力MOSFET的通态电阻具有正温度系数,对器件并联时的均流有利。
无锡商甲半导体有限公司有下列封装产品
TO-220与TO-220FTO-220与TO-220F这两种封装的MOS管在外观上相似,可以相互替代。然而,TO-220背部配备了散热片,因此其散热效果相较于TO-220F更为出色。同时,由于成本因素,TO-220的价格也相对较高。这两种封装的产品都适用于中压大电流场合,其电流范围在120A以下,同时也可用于高压大电流场合,但电流需控制在20A以内。
TO-251封装TO-251封装的产品旨在降低生产成本并减小产品尺寸,特别适用于中压大电流环境,电流范围控制在60A以下,同时也可用于高压环境,但需确保电流在7N以下。 微型化设备则依赖超小封装的SOT-23或QFN。实际设计中还需结合PCB布局、生产工艺和供应链情况综合决策。
无锡商甲半导体有想公司的MOS管封装可按其在PCB板上的安装方式分为两大类:插入式和表面贴装式。插入式封装中,MOSFET的管脚会穿过PCB板的安装孔并与板上的焊点焊接,实现芯片与电路的连接。常见的插入式封装类型包括双列直插式封装(DIP)、晶体管外形封装(TO)以及插针网格阵列封装(PGA)等。
插入式封装插入式封装中,MOSFET的管脚通过PCB板的安装孔实现连接,常见的形式包括DIP、TO等。这种封装方式常见于传统设计,与表面贴装式相对。其以可靠性见长,并允许不同的安装方式,但因插入式封装需要在PCB板上钻孔,增加了制造成本。
表面贴装式封装在表面贴装技术中,MOSFET的管脚及散热法兰直接焊接在PCB板表面的特定焊盘上,从而实现了芯片与电路的紧密连接。这种封装形式包括D-PAK、SOT等,正成为主流,支持小型化和高散热性能。随着科技的进步,表面贴装式封装以其优势逐渐取代传统的插入式封装。 功率MOSFET具有较高的可靠性。扬州功率器件MOS产品选型技术指导
由于这些明显的优点,功率场效应晶体管在电机调速,开关电源等各种领域应用的非常多。什么是功率器件MOS产品选型技术指导
超结MOS的工艺原理在传统的高压MOSFET中,导通电阻随着器件耐压的增加呈现出立方关系增长,这意味着在高压下,器件的导通电阻非常高,影响效率。而超结MOS通过在漂移区内构建纵向的P型和N型层,使得电场在纵向方向上得到优化。这种结构可以在保持高耐压的同时,大幅降低导通电阻。具体的工艺流程可分为以下几个步骤:
1、掺杂与离子注入在超结MOS的漂移区,**重要的部分是形成交替的P型和N型掺杂区。这个过程需要精细的掺杂控制:
(1)离子注入通过离子注入工艺,分别在器件的漂移区进行P型和N型杂质的注入。离子注入的深度和浓度需要非常精确的控制,确保后续的超结结构能够均匀分布。
(2)多次掺杂与注入通常需要多次重复掺杂和注入过程,以在漂移区形成多个交替的P型和N型区域。 什么是功率器件MOS产品选型技术指导
无锡商甲半导体有限公司为一家功率半导体设计公司,专业从事各类MOSFET、IGBT产品的研发、生产与销售。总部位于江苏省无锡市经开区,是无锡市太湖人才计划重点引进项目。公司目前已经与国内的8英寸、12英寸晶圆代工厂紧密合作,多平台产品实现量产,产品在开关特性、导通特性、鲁棒性、EMI等方面表现很好,得到多家客户的好评。
公司定位新型Fabless模式,在设计生产高性能产品基础上,提供个性化参数调控,量身定制,多方位为客户解决特殊方案的匹配难题。公司产品齐全,可广泛应用于工控、光伏、储能、家电、照明、5G通信、医疗、汽车等各行业多个领域,公司在功率器件主要业务领域已形成可观的竞争态势和市场地位。公司秉承:“致力于功率半导体的设计与营销,参与和传承功率半导体的发展”的愿景,坚持“质量至上、创新驱动”的发展策略,遵循“问题解决+产品交付+售后服务”的营销法则,努力将公司建设成一个具有国际竞争力的功率半导体器件供应商。