电子显示屏制造过程中，液晶面板清洗、ITO 玻璃蚀刻、偏光片贴合等工序对水质要求极为严格，水中的颗粒杂质、金属离子和有机物会影响显示屏的显示效果和质量。合鑫为某显示屏制造企业定制的 30T/H 纯水设备，采用 “预处理 + 双级反渗透 + EDI + 超滤 + 紫外线杀菌” 工艺，产水电阻率≥15MΩ?cm，颗粒度（≥0.2μm）＜50 个 /ml，TOC＜10ppb。设备还配备了精密的在线监测和自动控制系统，确保水质稳定可靠。该企业使用后，显示屏的坏点率从 2% 降至 0.3%，产品的良品率大幅提升，进一步巩固了市场地位。CEDI 模块设计，提升合鑫纯水设备运行稳定性。邵阳智能纯水设备

   活性炭过滤器紧接多介质过滤之后。活性炭具有极为丰富的孔隙结构，比表面积巨大，这赋予了它强大的吸附能力。当经过初步过滤的水通过活性炭层时，水中的余氯、部分有机物及异味物质被活性炭吸附。余氯具有氧化性，会破坏后续反渗透膜的结构，缩短其使用寿命，而活性炭的吸附作用能有效消除这一隐患。同时，它对水中的色素、部分微生物等也有一定的吸附去除效果，进一步改善水质，降低水中有机污染物含量，为后续反渗透处理提供更适宜的进水条件，确保纯水设备产出的水质更优。小型纯水设备联系电话超滤预处理，为设备稳定运行护航。

   电镀行业中，纯水用于电镀液配制、镀件漂洗等工序，水质的好坏直接影响镀层的质量和性能。水中的金属离子、有机物和杂质会导致镀层出现、麻点、结合力差等问题。合鑫为某电镀园区设计的 60T/H 纯水设备，采用 “多介质过滤 + 活性炭吸附 + 双级反渗透 + 离子交换” 工艺，产水重金属离子（Fe、Cu、Zn 等）＜0.1ppb，电导率＜2μS/cm。设备配备重金属在线检测仪，一旦水质超标，立即自动排放并报警。园区企业使用该设备后，电镀产品的合格率从 88% 提升至 96%，每年减少返工成本超 150 万元，增强了园区企业的市场竞争力。

    科研实验室中的各种精密仪器，如高效液相色谱仪、原子吸收光谱仪、ICP-MS 等，对实验用水的纯度要求极高。普通的自来水或蒸馏水无法满足其需求，必须使用超纯水。合鑫为某高校化学实验室提供的 5L/H 小型纯水机，具备 “纯水” 和 “超纯水” 双路出水功能。采用 “预处理 + 反渗透 + EDI+UV 紫外杀菌 + 0.22μm 终端过滤” 工艺，超纯水产水电阻率可达 18.2MΩ?cm，TOC＜5ppb。设备还设有密码管理功能，保障实验数据安全。该实验室使用后，实验仪器的故障率明显降低，实验结果的准确性和重复性得到显著提高，有力支持了科研工作的开展。反渗透技术不断优化，产水更优。

   为了满足一些对水质要求极高且水质成分复杂的应用场景，合鑫公司推出了反渗透 - 离子交换组合纯水设备。该设备先利用反渗透技术去除水中大部分的杂质、离子、细菌等，产出初步纯化的水，然后再通过离子交换树脂进一步去除水中残留的微量离子，精确调节水质的酸碱度和电导率。在电子芯片制造领域，这种组合设备能够生产出满足芯片制造工艺要求的超纯水，确保芯片的性能和质量。通过两种技术的优势互补，既提高了纯水的纯度，又增强了设备对不同水质原水的适应性，广泛应用于对纯水质量要求苛刻的制造行业。反渗透技术，是合鑫纯水设备除杂的关键手段。浙江食品厂纯水设备

多介质过滤，为后续处理创造良好条件。邵阳智能纯水设备

   在电子工业领域，尤其是芯片制造等关键环节，对水质的纯净度近乎苛刻。芯片制造过程中，微小的杂质颗粒都可能导致电路短路或性能偏差。例如，在光刻工艺里，需要超纯水冲洗硅片，水中若存在重金属离子，如铜、铁等，会在硅片表面形成杂质吸附，影响芯片的电子迁移率，进而降低芯片性能。东莞市合鑫水处理科技有限公司的纯水设备，运用多级反渗透技术，搭配离子交换树脂深度去除水中的重金属离子，同时通过超滤膜拦截微生物与微小颗粒杂质，产出的超纯水电阻率可达 18.2MΩ?cm 以上，满足电子工业对水质的极高要求，为生产高性能芯片及其他电子元器件提供坚实保障。邵阳智能纯水设备