微泰高压闸阀可以应用于多种设备，如蒸发、溅射、金刚石生长、PECV、PVD集群、卷对卷、涂层、蚀刻、扩散和CVD等。它具有陶瓷球机构产生的低颗粒和易于维护等特点，可替代VAT闸阀。该阀门的规格包括手动或气动驱动方式、1.5英寸至14英寸的法兰尺寸、CF法兰类型、焊接波纹管连接方式、氟橡胶O型圈/Kalrez O型环/EPDM阀门密封、氟橡胶O型圈阀盖密封、≤2秒响应时间、1.5?至6?的操作压力范围为1×10-10 mbar至1400 mbar，8?至14?的操作压力范围为1×10-10 mbar至1200 mbar、≤30 mbar的开始时压差、≤1400 mbar的6?以下闸门差动压力和≤1200 mbar的8?至14?闸门差动压力、<1×10 -10 Mbar/秒的泄漏率、250,000次维护前可用次数、阀体温度≤200°、机构温度≤80°C、烤炉温度≤150°C、阀体不锈钢304或316L和驱动器铝6061阳极氧化、任意安装位置和4至7 bar的N2操作压力。此外，微泰高压闸阀已在中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其他设备上得到应用。如果您需要了解更多关于微泰高压闸阀的信息，请联系上海安宇泰环保科技有限公司。闸阀的结构长度(系壳体两连接端面之间的距离)较小。闸阀

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀，有气动多位置闸阀（气动多定位闸阀、多定位插板阀、Pneumatic Multi Position）、气动（锁定）闸阀和手动（锁定）闸阀，蝶阀，Butterfly Valve，步进电机插板阀Stepper Motor Gate Valve，加热插板阀（加热闸阀Heating gate valve），铝闸阀（AL Gate Valve），三重防护闸阀，应用于? Evaporation（蒸发）? Sputtering（溅射）? Diamond growth by MW-PACVD（通过MW-PACVD生长金刚石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷对卷）? Coating（涂层）? Etch（蚀刻）? Diffusion（扩散）?CVD（化学气相沉积）等设备上。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。CVD闸阀TRANSFER VALVE介质可向两侧任意方向流动，易于安装。闸阀通道两侧是对称的。

半导体真空插板阀是一种用于半导体制造过程中的真空系统的阀门，主要作用是控制气体的流动，以维持真空环境的稳定。微泰半导体真空腔体用闸阀（插板阀）其特点包括：1. 高密封性：采用特殊的密封结构，能够有效地防止气体泄漏，保证真空系统的密封性。2. 耐腐蚀性：材料具有良好的耐腐蚀性，能够在半导体制造过程中的化学物质环境中稳定工作。3. 高精度：能够精确地控制气体的流量，满足半导体制造工艺对精度的要求。4. 快速响应：可以快速地开启和关闭，以适应半导体制造过程中的快速气体控制需求。5. 可靠性高：设计和制造过程严格，保证了其在长期使用中的可靠性和稳定性。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。该闸阀由上海安宇泰环保科技有限公司提供。

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀，晶圆输送阀Transfer Valve，传输阀、转换阀、输送阀、转移阀是安装在半导体PVDCVD设备工艺模块和工艺室之间的阀门系统。采用L型输送阀L-motion防止产生微粒（Particle)，无需从设备上拆卸阀门，即可更换闸门和O形圈。大量采用缸套运动导轨Liner (motion guide)，实现高精度、高耐用性.微泰晶圆输送阀L型输送阀L-motion,Transfer Valve，传输阀、转换阀、输送阀、转移阀Butterfly Valve有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。高压闸阀结构简单，制造和维修比较方便。工作行程小，启闭时间短。密封性好，密封面间磨擦力小，寿命较长。

半导体主加工设备腔内精确压力控制的解决方案，真空插板阀品牌—微泰。控制系统阀门是安装在半导体? Evaporation（蒸发）? Sputtering（溅射）? Diamond growth by MW-PACVD（通过MW-PACVD生长金刚石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷对卷）? Coating（涂层）? Etch（蚀刻）? Diffusion（扩散）?CVD（化学气相沉积）等设备中的主要阀门。控制系统阀门起到调节腔内压力的作用，通过控制系统自动调节闸板的开启和关闭。精确控制腔内压力的阀门分为三类：控制系统闸阀、蝶阀、多定位闸阀。控制系统和蝶阀使用步进电机操作，而多定位闸阀、多位置闸阀使用气动控制操作。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。高压闸阀，属于强制密封式阀门，所以在阀门关闭时，必须向闸板施加压力，以强制密封面不泄漏。多位闸阀ALUMINUM GATE VALVE

闸阀高度大，启闭时间长。闸板的启闭行程较大，升降是通过螺杆进行的。闸阀

微泰半导体闸阀与其他类型闸阀相比，具有以下一些优势：1. 高精度控制：能更精确地调节流体流量。2. 适应半导体环境：对温度、真空等条件有更好的适应性。3. 低颗粒产生：减少对晶圆等的污染。4. 长寿命和可靠性：确保稳定运行，减少维护成本。5. 多功能应用：可适用于多种半导体工艺设备。微泰半导体闸阀被广泛应用于 Evaporation（蒸发）、Sputtering（溅射）、Diamond growth by MW-PACVD（通过 MW-PACVD 生长金刚石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷对卷）、Coating（涂层）、Etch（蚀刻）、Diffusion（扩散）、CVD（化学气相沉积）等设备上，可替代 HVA 闸阀、VA T闸阀。该闸阀由上海安宇泰环保科技有限公司提供。闸阀