碳化硅反射镜制备工艺：1、反应烧结法。反应烧结是一种较为常见的反射镜制备工艺，这种工艺采用具有反应活性的液态硅浸渗含碳的反射镜预制体，硅与碳反应生成的新碳化硅原位地结合预制体中原有的碳化硅颗粒，并填充预制体中剩余的孔隙，然后得到近乎完全致密的反射镜毛坯。2、化学气相沉积法。化学气相沉积法是在温度为1275℃～1350℃的反应容器内，通入一种气体或几种气体的混合气，在石墨或其它物质的基片上得到碳化硅的沉积层。3、热压(或热等静压)法。热压(或热等静压)烧结的主要工艺步骤：把微米级的碳化硅粉和助烧剂以及阻止晶粒过分长大的添加剂混合后预压成预制体，然后将这种预制体用合适的封装材料封装后放入压力腔中，在合适的温度-压力-时间制度下进行烧结。超带宽电介质膜反射镜即使是在紫外和红外谱区，也比一般金属膜反射镜要高。北京半反射镜

碳化硅反射镜的烧结工艺：SiC陶瓷材料的制备工艺方式主要有：热压烧结工艺、反应烧结工艺、常压烧结工艺和化学气相沉积工艺（CVD）。其中热压烧结工艺由于工艺过程的限制，不适合制备形状复杂的反射镜镜坯。常压烧结工艺烧结过程镜坯的收缩率达到10%~15%，这种工艺对于制备精密尺寸的近净尺寸成型不利。CVD技术制备SiC质反射镜，是将含有硅源（SiCl４）和碳源（CXHY）的气体共同导入反应炉，合成SiC后沉积在基板上。采用该工艺制备的镜体质量较好，但成本也较高，只有在特殊的情况下应用该技术。反应烧结工艺可以制备大尺寸、形状复杂的SiC反射镜镜坯，并且反应烧结的制备温度相对较低、烧结时间周期短、镜坯制造成本低、烧结完成的结构致密，机械综合性能、热特性较优，符合超大口径反射镜的应用要求。凹球面反射镜订做费用采用高反射比的反射镜可使激光器的输出功率成倍提高。

平凹柱面反射镜，反射面是圆柱面，平行入射光线经柱面反射可以汇聚到一条线，具有正的焦距。平凹柱面反射镜的焦距为圆柱面曲率半径的一半。适合用于光线聚焦应用。晶亮光电提供不镀膜、镀反射膜的柱面反射镜，反射膜选项包括普通保护性铝膜、保护性紫外反射铝膜、保护性银膜、保护性金膜。椭圆反射镜的反射面是一个平面，外形轮廓为椭圆形，四十六度倾斜放置在光路中时通光形状为圆形。晶亮光电提供不镀膜、镀反射膜的椭圆反射镜，反射膜选项包括普通保护性铝膜、保护性银膜、保护性金膜及介质高反膜。熔融石英适用于紫外应用。

广东光文光电科技有限公司小编介绍，空间光学载荷光学反射镜组件离子束加工时产生的能量传输及累积效应对组件胶粘层的物理性能产生的不利影响，文章根据离子源的能量分布特点，建立了离子束加工过程中的动态热传输模型。结合模型对驻留时间、束流分布参数、离子源功率产生的热效应进行了静态和动态分析。然后，在某直径1000mm非球面ULE玻璃材料反射镜组件的加工中进行试验，实测加工中的至高温度为47.19℃，与理论值基本一致，满足了胶层对温度阈值70℃的需求。激光器技术和基础光学中较重要的反射镜为介质反射镜。

将离轴抛物面作反射镜表面不仅能使光路方向偏转，同时还可以实现各种光束收集、光束准直和光束聚焦，其离轴设计可以使焦点从光路其他部分中分离出来，被普遍应用于天体观测光学装置、光谱检测、天文望远系统、瞄准仪、扩束镜、红外系统、聚光太阳能系统，投影系统以及发射/探测设备等领域。与透镜相比，使用离轴抛物面反射镜不会产生球差、色差，且不会引入相位延迟和吸收损耗，非常适用于适合飞秒激光、红外、太赫兹应用。离轴抛物面反射镜底部有三个呈三角分布的螺纹安装孔和定位孔，可通过专门设计的离轴抛物面反射镜转接件安装至其他光学元件安装架中。用毛刷柔软的吸尘器吸拭。北京光学反射镜厂家

实际使用的过程中对红外、近红外的光线反射率很高。北京半反射镜

家用反射镜的涂层通常是位于内侧，外面是玻璃表面，很容易清洗。其它应用中，光通常直接入射到涂层上，而不需要射到衬底上。激光器技术和基础光学中，存在更先进的金属反射镜。这些反射镜的表面通常还有附加的涂层是为了提高反射率同时保护金属涂层避免被氧化。可以采用多种金属做反射镜涂层，例如，金，银，铜和镍铬合金。激光器技术和基础光学中较重要的反射镜为介质反射镜。这种反射镜包含多层薄介质涂层。它是利用不同涂层截面的反射效应结合在一起。常用的一种类型为布拉格反射镜（四分之一波长反射镜），这是较简单的在某一波长（布拉格波长）处能得到较高反射率的一种反射镜。北京半反射镜