50.离子镀TiN技术是近年来发展很快的PVD表面强化处理技术的一种,离子镀TiN是把金属蒸发源作为阴极与作为阳极的真空室产生弧光放电,使阴极金属靶材钛蒸发并离子化,再与室内的离子化氮结合成TiN,沉积在加有负偏压的工作表面.离子镀沉积温度较低,因此离子镀成为PVD中发展明显快,明显有前途的技术之一.TiN涂层首先成功应用在刀具上，可以大幅提高刀具的使用寿命，如增加其耐磨性、提高加工精度，提高其耐高温性能。其次对于切不同材质的产品表现出不同，更加优良的性能。TiN熔点比大多数过渡金属氮化物的熔点高，而密度却比大多数金属氮化物低。威海镀钛氮化钛生产企业

50.氮化钛(TiN)薄膜以其独特的性能不仅各类商品的表面装饰上有着适合的应用,而且在机械工业也展示了巨大的应用前景。本文利用大功率偏压电源的多弧离子镀技术,采用工具镀工艺,在Ti-6Al-4V合金材料表面制备了TiN薄膜。X射线光电子能谱检测证明了所制备的薄膜确为TiN。机械性能测试表明:具有TiN涂层样品的显微硬度较为高于Ti合金基材,同时耐磨性能也明显得到改善。既可以大幅提高机械产品的表面硬度，提高其耐磨性、降低摩擦系数，进而提高使用寿命。舟山加硬氮化钛服务电话基于氮化钛优良的导电性能，可做成各种电极以及点触头等材料。

利用常压化学气相沉积法(APCVD)以四氯化钛(TiCl4)和氨气(NH3)作为反应物在玻璃基板上沉积制备了氮化钛(TiN)薄膜.分别用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、四探针电阻仪和分光光度计等对TiN薄膜的结晶性能、微观结构、表面形貌和光学、电学性能进行了分析.结果表明,制备的TiN薄膜厚度为500nm,具有NaCl型面心立方结构并表现出(200)晶面的择优取向,薄膜的晶粒大小分布均匀.在可见光区的透射率达到60%,反射率小于10%.在近红外光区的反射率达到80%。

氮化钛是一种新型多功能陶瓷材料。在TiC-Mo-Ni系列金属陶瓷中添加一定量的氮化钛，硬质相晶粒明显细化，陶瓷的理学性能无论在室温还是高温条件下均得到大幅改善，然后金属陶瓷的高温耐腐蚀性和抗氧化性大幅提高;通过以一定比例向陶瓷中添加TiN粉末，可以提高陶瓷的强度、韧性、硬度;将纳米氮化钛添加到TiN/Al2O3复相纳米陶瓷中，通过机械混合法等各种方法均匀混合，在得到的含有纳米氮化钛粒子的陶瓷材料内部形成导电网络。这种材料可以作为电子部件应用于半导体工业。改善钛双极板在质子交换膜(PEM)水电解槽环境中耐腐蚀和导电性能，在钛基底表面制备碳掺杂氮化钛复合涂层。

在深亚微米(0.15μm及以下)集成电路制造中，后段工艺日趋重要，为降低阻容迟滞(RCDelay)，保证信号传输，减小功耗，有必要对后段工艺进行改进，Via阻挡层MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition，金属有机物化学气相淀积)TiN是其中重要研究课题之一。本论文基于薄膜电阻的理论分析，从厚度、杂质浓度和晶体结构三大薄膜电阻影响因素出发系统研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真实结构中的各种性质，重点是等离子体处理(PlasmaTreatment，PT)下的晶体生长，制备循环次数的选择对薄膜杂质浓度、晶体结构及电阻性能的影响，不同工艺薄膜在真实结构中物理形貌、晶体结构和电阻性能的表现和规律，超薄TiN薄膜(＜5nm)的实际应用等。俄歇能谱、透射电子显微镜和方块电阻测试证明PT作用下杂质浓度降低，同时晶体生长，薄膜致密化而电阻率降低。PT具有饱和时间和深度，较厚薄膜需多循环制备以充分处理，发现薄膜厚度较小时(本实验条件下为4nm)，增加循环次数虽然进一步降低了杂质浓度，但会引入界面而使薄膜电阻率增加。通过TEM观测发现由于等离子体运动的各向异性，真实结构中PT效率在侧壁远低于顶部和底部，这导致侧壁薄膜在PT后更厚。调整氮化钛中氮元素的百分含量，可以改变氮化钛薄膜的颜色，从而达到理想的美观效果。天津医疗器械氮化钛价格

采用离子镀技术与多弧磁控耦合镀膜技术分别在柱塞上涂覆了TiN涂层和DLC涂层。威海镀钛氮化钛生产企业

TiN中文名称氮化钛薄膜可以减轻切削刃边材料的附着，提高切削力，改善工件的表面质量，成倍增加切削工具的使用寿命和耐用度。因此，TiN薄膜被适合用于低速切削工具、高速钢切削、木板切削刀具和钻头的涂覆上。另外，TiN也是磨损部件的理想耐磨涂层，特别是由于其低的黏着倾向拓宽了在许多磨损系统中的应用，如汽车发动机的活塞密封环、各种轴承和齿轮等：此外，TiN还广泛应用于成型技术工具涂层，如汽车工业中薄板成型工具的涂层等。威海镀钛氮化钛生产企业

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