电芯壳体与盖板清洁清洁对象：铝壳 / 钢壳内壁、盖板（极柱、防爆阀区域）。污染问题：壳体冲压或焊接后可能残留金属碎屑、切削液；盖板表面可能有油污、指纹或焊接飞溅物，若未去除，会污染电解液或导致封装密封不良。干冰清洗作用：高效剥离金属碎屑和油污，且不损伤壳体表面（尤其适配铝壳的阳极氧化层），避免传统水洗带来的水分残留（锂电生产需严格控制水分，水分会与电解液反应产生有害气体）。3. 焊接区域清洁（激光焊接 / 超声波焊接）清洁对象：极耳焊接点、盖板与壳体焊接缝。污染问题：焊接后易残留金属飞溅物（如铝渣、铜渣）、氧化层，若残留于电芯内部，可能刺穿隔膜引发短路；若附着于焊接缝，会影响密封性检测精度。酷尔森icestorm干冰清洗作用：精细去除焊接飞溅物和氧化层，且不损伤极耳（极耳厚度通常* 0.1-0.3mm）或焊接结构，保障焊接强度和后续密封性。干冰清洗功能强大有效，为清洁工作带来便利。流程便捷合理，优势突出。青海原装进口干冰清洗24小时服务

油舱清洗：安全与环保的**传统痛点：化学溶剂清洗产生有毒废水，高压水洗需处理含油污水，且舱内油气环境易引发。干冰应用：干冰升华后*残留气态CO?，无化学污染；低温固化残留油污，抑制油气挥发，从源头杜绝燃爆风险。实测显示，油舱清洗效率提升40%，且符合IMO严格环保法规。操作创新：配合机器人搭载干冰喷头，实现密闭空间自动化清洗，避免人员进入高危环境。 四、其他关键场景应用船体清洁：去除船体附着的藻类、贝类及锈层，恢复船体光滑度，降低燃油消耗5–10%。发动机舱除油污：在不拆解发动机前提下，去除积碳与油渍，减少停机时间。集装箱与海上平台：自动化干冰清洗系统实现集装箱内外壁***清洁；海上平台配备可调高度/角度的喷头支架，适应复杂结构。下表概括了酷尔森环保科技（上海）有限公司干冰清洗与传统方法的差异：评估维度干冰清洗传统方法（高压水/化学）清洗介质固态CO?（无添加）水+化学溶剂水消耗零高（单船次可达数十吨）二次污染风险无废水/化学废料需处理表面损伤风险极低（非研磨）中高（高压水/机械摩擦）复杂结构清洁能力优异（深入缝隙）有限**优势总结：环保性：零废水、零化学添加，符合IMO 2025海洋污染防治新规。河南全气动干冰清洗联系方式干冰清洗的功能强大可靠，清洁速度快。流程科学高效，优势众多。

沉积 / 刻蚀腔体及部件清洁清洁对象：CVD（化学气相沉积）腔体、PVD（物***相沉积）靶材、刻蚀机反应室（内壁、喷头、电极）。污染问题：沉积过程中，薄膜材料（如 SiO?、SiN、金属 Cu/Al）会在腔体壁、靶材边缘沉积，形成 “结垢层”，积累到一定厚度会剥落并污染晶圆；刻蚀反应室中，等离子体与晶圆反应生成的聚合物（如 CF?刻蚀硅产生的 CxFy）会附着在喷头和电极表面，导致刻蚀速率不均匀。干冰清洗作用：无需拆卸腔体（传统清洁需拆解，耗时 4-8 小时，且可能引入外界污染），通过酷尔森icestorm干冰颗粒的冲击和低温脆化效应，使结垢层（硬度较高的陶瓷或金属薄膜）与腔体基材分离，随气流排出。保护腔体内部精密部件（如石英喷头、金属电极）：控制干冰颗粒尺寸（3-5mm）和压力（0.3-0.6MPa），可去除靶材边缘的沉积残留，同时不损伤靶材表面（靶材精度直接影响沉积薄膜的均匀性）。

封装模具与载板清洁清洁对象：塑封模具（型腔、浇道）、晶圆载板（Wafer Carrier）。污染问题：塑封过程中，环氧树脂（封装材料）会在模具型腔残留、固化，导致封装体出现飞边、缺胶；载板表面若有焊锡残渣、粉尘，会影响晶圆定位精度。干冰清洗作用：干冰的低温使残留环氧树脂脆化，轻松剥离模具死角（如型腔拐角、浇道狭窄处）的固化物，无需使用脱模剂（传统脱模剂可能污染芯片）。清洁载板表面的微小焊锡颗粒和粉尘，保障晶圆在测试或封装时的定位精度（误差需控制在 ±5μm 内）。半导体设备与洁净室维护半导体生产依赖大量精密设备（如光刻机、量测仪器）和 Class 1 级洁净室，其清洁直接影响生产稳定性：1. 精密设备部件清洁光刻机光学系统：清洁镜头表面的油污、粉尘（镜头精度达纳米级，任何污染都会影响曝光精度），酷尔森的干冰颗粒（1μm 以下）可在不接触镜头的情况下去除污染物，避免划伤镀膜层。自动化机械臂：清洁机械臂抓手（End Effector）表面的晶圆残留颗粒（如硅粉），避免对下一片晶圆造成二次污染。量测仪器探头：如膜厚仪、椭偏仪的检测探头，去除表面的有机污染物，保障量测数据的准确性（误差需≤0.1nm）。干冰清洗的功能实用高效，清洁准确无误。流程高效科学，优势突出。

洁净室环境与管道清洁洁净室地面、墙面：去除表面的微尘（≥0.5μm 颗粒需控制在每立方英尺≤1 个），干冰清洗无二次扬尘（CO?气体可带走粉尘），符合洁净室 “零微粒扩散” 要求。工艺管道（如高纯气体管道、真空管道）：去除管道内的氧化层、焊渣残留，避免气体输送时污染物脱落污染晶圆。酷尔森icestorm干冰清洗在半导体行业的**优势无残留污染：干冰（固态 CO?）升华后变为气体，无液体、固体残留，彻底避免传统化学清洗（如 HF、SC1/SC2 洗液）带来的离子污染（Na?、K?等金属离子会导致芯片漏电）。无损保护精密部件：通过参数化控制（颗粒大小 3μm-5mm、压力 0.05-0.8MPa），可适配从纳米级光罩到毫米级模具的清洁需求，避免机械划伤或化学腐蚀（如铝焊盘耐腐蚀性差，无法用酸性清洗剂）。适配 “惰性环境” 需求：CO?是惰性气体，不与半导体材料（硅、金属、陶瓷）反应，尤其适合光刻、沉积等 “禁化学物质” 的工艺环节。提升生产效率：支持在线清洁（如刻蚀腔体可在工艺间隙清洁，无需停机拆解），传统腔体清洗需 4-8 小时，干冰清洗可缩短至 30 分钟内，设备稼动率提升 20% 以上。干冰清洗有着非凡功能，可快速清洁积垢。流程有序，优势明显实用。福建防爆干冰清洗服务费

干冰清洗有着强大的清洁功能，适用于多种场景。流程科学规范，优势明显。青海原装进口干冰清洗24小时服务

干冰清洗凭借无残留、不引入水分、无损清洁、环保高效等特性，在锂电行业（从原材料加工到电芯生产、PACK 组装及设备维护）中得到广泛应用，尤其适配锂电生产对 “高洁净度、低污染、高精度” 的严苛要求。以下是其**应用场景及优势：一、极片生产环节的清洁极片是锂电池的**部件，其表面洁净度直接影响电芯的一致性、安全性及循环寿命。干冰清洗在极片生产的关键工序中可精细解决污染问题：1. 涂布机模头与辊筒清洁清洁对象：涂布模头（狭缝、唇口）、转移辊、背辊等。污染问题：涂布过程中，浆料（正极材料如三元、磷酸铁锂；负极材料如石墨）易在模头狭缝残留、固化，形成 “结垢”，导致涂布膜厚不均、边缘毛刺或漏涂；辊筒表面则可能附着浆料颗粒、粉尘，影响极片表面平整度。酷尔森icestorm干冰清洗作用：无需拆卸模头，通过干冰颗粒（-78.5℃）的低温脆化效应，使残留浆料脆化剥离，同时利用压缩空气动能去除缝隙内污垢，避免传统拆解清洗导致的停机时间过长（传统清洗需 4-8 小时，干冰清洗可缩短至 30 分钟内）。控制干冰颗粒大小（如 3-5mm 细颗粒）和喷射压力（0.2-0.5MPa），可避免划伤辊筒表面镀铬层或镜面，保障涂布精度。青海原装进口干冰清洗24小时服务