对EVG WLO制造解决方案的需求在一定程度上是由对用于移动消费电子产品的新型光学传感解决方案和设备的需求驱动的。关键示例包括3D感测（对于获得更真实的虚拟和增强现实（VR / AR）用户体验至关重要），生物特征感测（对于安全应用而言越来越关键），环境感测，红外（IR）感测和相机阵列。其他应用包括智能手机中用于高级深度感应以改善相机自动对焦性能的其他光学传感器以及微型显示器。

      EV Group企业技术开发兼IP总监Markus Wimplinger表示：“毫无疑问，晶圆级光学和3D传感技术正在出现高度可持续的趋势。“由于在我们公司总部的NILPhotonics能力中心支持的大量正在进行的客户项目，我们预计在不久的将来将更***地使用该技术。” 新型的EVG120带有通用和全自动光刻胶处理工具，能够处理各种形状和尺寸达200 mm / 8“的基片。重庆光刻机中芯在用吗

IQ Aligner® 自动化掩模对准系统

特色：EVG ® IQ定位仪®平台用于自动非接触近距离处理而优化的用于晶片尺寸高达200毫米。

技术数据：IQ Aligner是具有高度自动化程度的非接触式接近光刻平台，可满足将生产线中的掩模污染降至**/低并增加掩模寿命和产品良率的需求。除了多种对准功能外，该系统还通过专门配置进行了广/泛的安装和现场验证，可自动处理和处理翘曲或变薄的晶圆。标准的顶侧或底侧对准与集成的IR对准功能之间的混合匹配操作进一步拓宽了应用领域，尤其是在与工程或粘合基板对准时。该系统还通过快速响应的温度控制工具集支持晶片对准跳动控制。 福建光刻机原理除了光刻机之外，岱美还代理了EVG的键合机等设备。

光刻机软件支持

基于Windows的图形用户界面的设计，注重用户友好性，并可轻松引导操作员完成每个流程步骤。多语言支持，单个用户帐户设置和集成错误记录/报告和恢复，可以简化用户的日常操作。所有EVG系统都可以远程通信。因此，我们的服务包括通过安全连接，电话或电子邮件，对包括经过现场验证的，实时远程诊断和排除故障。EVG经验丰富的工艺工程师随时准备为您提供支持，这得益于我们分散的全球支持机构，包括三大洲的洁净室空间：欧洲 (HQ), 亚洲 (日本) 和

北美 (美国).

EVG ® 6200 NT掩模对准系统（半自动/自动）

特色：EVG ® 6200 NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。

技术数据：EVG6200 NT以其自动化灵活性和可靠性而著称，可在**小的占位面积上提供**/先进的掩模对准技术，并具有**/高的产能，先进的对准功能和优化的总拥有成本。操作员友好型软件，**短的掩模和工具更换时间以及高/效的全球服务和支持使它成为任何制造环境的理想解决方案。EVG6200 NT或完全安装的EVG6200 NT Gen2掩模对准系统有半自动或自动配置，并配有集成的振动隔离功能，可在广/泛的应用中实现出色的曝光效果，例如薄和厚光刻胶的曝光，深腔和类似地形的图案，以及薄而易碎的材料（例如化合物半导体）的加工。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。 EVG620 NT / EVG6200 NT可从手动到自动的基片处理，能够实现现场升级。

HERCULES 光刻轨道系统特征：

生产平台以**小的占地面积结合了EVG精密对准和光刻胶处理系统的所有优势；

多功能平台支持各种形状，尺寸，高度变形的模具晶片甚至托盘的全自动处理；

高达52,000 cP的涂层可制造高度高达300微米的超厚光刻胶特征；

CoverSpin TM旋转盖可降低光刻胶消耗并优化光刻胶涂层的均匀性；

OmniSpray ®涂覆用于高地形表面的优化的涂层；

纳流®涂布，并通过结构的保护；

自动面膜处理和存储；

光学边缘曝光和/或溶剂清洁以去除边缘颗粒；

使用桥接工具系统对多种尺寸的晶圆进行易碎，薄或翘曲的晶圆处理；

返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统；

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）。 EVG光刻机关注未来市场趋势 - 例如光子学 、光学3D传感- 并为这些应用开发新的方案和调整现有的解决方案。原装进口光刻机传感器应用

EVG在要求苛刻的应用中积累了多年的光刻胶旋涂和喷涂经验。重庆光刻机中芯在用吗

HERCULES 光刻轨道系统

所述HERCULES ®是一个高容量的平台整合整个光刻工艺流在一个系统中，缩小处理工序和操作者支持。

HERCULES基于模块化平台，将EVG建立的光学掩模对准技术与集成的晶圆清洗，光刻胶涂层，烘烤和光刻胶显影模块相结合。HERCULES支持各种晶片尺寸的盒到盒处理。HERCULES安全地处理厚，弯曲度高，矩形，小直径的晶圆，甚至可以处理设备托盘。精密的顶侧和底侧对准以及亚微米至超厚（**/大300微米）光刻胶的涂层可用于夹层和钝化应用。出色的对准台设计可实现高产量的高精度对准和曝光结果。

重庆光刻机中芯在用吗

岱美仪器技术服务（上海）有限公司主营品牌有岱美仪器技术服务，发展规模团队不断壮大，该公司其他型的公司。岱美仪器技术服务是一家有限责任公司企业，一直“以人为本，服务于社会”的经营理念;“诚守信誉，持续发展”的质量方针。以满足顾客要求为己任；以顾客永远满意为标准；以保持行业优先为目标，提供***的磁记录，半导体，光通讯生产，测试仪器的批发。岱美仪器技术服务自成立以来，一直坚持走正规化、专业化路线，得到了广大客户及社会各界的普遍认可与大力支持。