纳米压印设备哪个好？预墨印章用于将材料以明显的图案转移到基材上。该技术用于表面化学的局部修饰或捕获分子在生物传感器制造中的精确放置。

纳米压印设备可以进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。

将聚合物片或旋涂聚合物加热到其玻璃化转变温度以上，从而将材料转变为粘性状态。然后以足够的力将压模压入聚合物中。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。

EVG ? 7200是自动SmartNIL ? UV纳米压印光刻系统。衬底纳米压印特点

IQ Aligner UV-NIL特征：

用于光学元件的微成型应用

用于全场纳米压印应用

三个**控制的Z轴，可在印模和基材之间实现出色的楔形补偿

三个**控制的Z轴，用于压印抗蚀剂的总厚度变化（TTV）控制

利用柔软的印章进行柔软的UV-NIL工艺

EVG专有的全自动浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合对准和紫外线粘合功能

IQ Aligner UV-NIL技术数据：

晶圆直径（基板尺寸）：150至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：柔软的UV-NIL，镜片成型

曝光源：汞光源

对准：≤±0.5微米

自动分离：支持的

前处理：涂层：水坑点胶（可选）

迷你环境和气候控制：可选的

工作印章制作：支持的

台积电纳米压印EVG ? 610也可以设计成紫外线纳米压印光刻系统。

       通过中心提供的试验生产线基础设施，WaveOptics将超越其客户对下个季度的预期需求，并有一条可靠的途径将大批量生产工艺和设备转移至能够大规模生产波导的指定设施适用于全球前列OEM品牌。

      WaveOptics与EVG的合作突显了其致力于以可实现的价格提供高性能，商用波导来帮助客户将AR显示器推向市场的承诺。利用EVG在批量生产设备和工艺技术方面的专业知识，到2019年，AR终端用户产品将以不到600美元的价格进入市场，这是当今行业中的*低价位。

       EVG公司技术开发和IP总监Markus Wimplinger补充说：“我们开发新技术和工艺以应对*复杂的挑战，帮助我们的客户成功地将其新产品创意商业化。技术，我们创建了我们的NILPhotonics能力中心。“在具有?；た突P的强大政策的框架内，我们为客户提供了从可行性到生产阶段的产品开发和商业化支持。这正是我们***与AR领域的**者WaveOptics合作所要做的，以为*终客户提供真正可扩展的解决方案。”

      EVG的NILPhotonics®能力中心框架内的协作开发工作旨在支持WaveOptics的承诺，即在工业，企业和消费者等所有主要市场领域释放AR在大众市场的应用，并遵循公司?？榧苹耐瞥?。 EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台，可用于进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。

纳米压印光刻设备-处理结果：

新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。 EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案，并在显示器，生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。HRI SmartNIL®压印上的单个像素的1.AFM图像压印全息结构的AFM图像

资料来源：EVG与SwissLitho

AG合作（欧盟项目SNM）

2.通过热压花在PMMA中复制微流控芯片

资料来源：EVG

3.高纵横比（7：1）的10 μm柱阵列

由加拿大国家研究委 员会提供

4.L / S光栅具有优化的残留层，厚度约为10 nm

资料来源：EVG

5.紫外线成型镜片300 μm

资料来源：EVG

6.光子晶体用于LED的光提取

多晶硅的蜂窝织构化（mc-Si）

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形结构50 μm

资料来源：EVG

8.**小尺寸的光?？榫г布斗庾?

资料来源：EVG

9.光子带隙传感器光栅

资料来源：EVG（欧盟Saphely项目）

10.在强光照射下对HRISmartNIL®烙印进行完整的晶圆照相

资料来源：EVG EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自动化的全场域纳米压印解决方案，适用于第3代基材。半导体设备纳米压印代理商

EV Group提供混合和单片微透镜成型工艺，能够轻松地适应各种材料组合，以用于工作印模和微透镜材料。衬底纳米压印特点

IQ Aligner®：用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统

■用于光学元件的微成型应用

■用于全场纳米压印应用

■三个**控制的Z轴，用于控制压印光刻胶的总厚度变化（TTV），并在压模和基材之间实现出色的楔形补偿

■粘合对准和紫外线粘合功能

紫外线压印_紫外线固化

印章

防紫外线基材

附加印记压印纳米结构分离印记

用紫外线可固化的光刻胶旋涂或滴涂基材。随后，将压模压入光刻胶并在仍然接触的情况下通过UV光交联。

μ-接触印刷

软印章

基板上的材料

领取物料，物料转移，删除印章

衬底纳米压印特点